公开(公告)号：KR101912668B1

公开(公告)日：2018-10-29

申请号：KR1020110096849

申请日：2011-09-26

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 에노모토유이치로 ,  코다마쿠니히코 ,  타루타니신지

IPC分类号： C08J3/00 ,  B01D37/00 ,  C08L101/00 ,  B29C59/02

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/16

摘要： 패턴전사성이우수한임프린트용경화성조성물의제조방법을제공한다. (A) 중합성단량체및 (B) 중합개시제를함유하는경화성조성물을 200㎠이상의유효여과면적을갖는제 1 필터를통과시키는공정을포함하는것을특징으로하는임프린트용경화성조성물의제조방법을사용한다.

公开(公告)号：KR101911137B1

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：KR1020160041515

申请日：2016-04-05

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 도몬다이슈케 ,  마스나가케이이치 ,  와타나베사토시

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F1/22 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/038 ,  C07C381/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  G03F1/76 ,  G03F1/78 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/327

摘要： (해결수단) (A) 화학식(1)로표시되는반복단위를포함하고, 추가로화학식(a1), (a2), (a3)으로표시되는반복단위중 적어도 1종을함유하는고분자화합물, (B) 화학식(3a)로표시되는염을함유하는네거티브형레지스트조성물:(효과) 본발명의네거티브형레지스트조성물은, 미세가공기술, 특히전자선리소그래피기술에있어서, 매우높은해상성을갖고, LER이작은패턴을부여한다.

公开(公告)号：KR101907705B1

公开(公告)日：2018-10-12

申请号：KR1020137010075

申请日：2011-10-18

申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤

发明人： 사카키바라,히로카즈 ,  호리,마사후미 ,  후루카와,다이이치 ,  이토,고지

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F220/10 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/038 ,  C07C381/12 ,  C08F220/10 ,  C08F220/24 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/325 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

摘要： 본발명의목적은현상후의노광부표면의러프니스및 미싱콘택트홀의발생을억제함과동시에, 해상도, 원형성등의리소그래피특성이우수한패턴형성방법및 이패턴형성방법에최적인감방사선성조성물을제공하는것이다. 본발명은 (1) 감방사선성조성물을이용하여기판상에레지스트막을형성하는공정, (2) 노광공정, 및 (3) 현상공정을포함하는패턴형성방법으로서, 상기 (3) 현상공정에있어서의현상액이유기용매를 80질량% 이상함유하고, 상기감방사선성조성물이 [A] 산해리성기를갖는구조단위를포함하는중합체, 및 [B] 감방사선성산 발생체를포함하는 2 이상의성분을함유하고, 상기감방사선성조성물중 어느하나의성분이하기화학식 (1)로표시되는기를갖는것을특징으로하는패턴형성방법이다.

公开(公告)号：KR101907483B1

公开(公告)日：2018-10-12

申请号：KR1020120039296

申请日：2012-04-16

申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨

发明人： 왕데얀 ,  우춘이

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

摘要： 포토레지스트조성물상에적용된톱코트층조성물이제공된다. 상기조성물은침지리소그래피가공에특별한적용가능성을나타낸다.

公开(公告)号：KR101905160B1

公开(公告)日：2018-10-08

申请号：KR1020150181513

申请日：2015-12-18

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 하타케야마,준

IPC分类号： G03F7/32 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/322 ,  C07C211/63 ,  C07C219/16 ,  C07C381/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/30 ,  C08F220/38 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0274

摘要： [과제] 현상후의패턴무너짐이나패턴간연결되어버리는브리지결함의발생을방지할수 있고, 에지러프니스가작은레지스트패턴을얻을수 있는현상액을제공한다. [해결수단] 감광성레지스트재료용의현상액으로서, 하기일반식(1)로표시되는화합물을함유하는것을특징으로하는현상액. [화학식 1](식중, R~R은탄소수 1~4의직쇄상, 분지상, 또는환상의알킬기, X는탄소수 6~16의직쇄상또는분지상의알킬렌기이고, 에스테르기를갖고있을수도있다.)

公开(公告)号：KR101904090B1

公开(公告)日：2018-10-04

申请号：KR1020120000210

申请日：2012-01-02

申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 ,  다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨

发明人： 배영철 ,  메이어매튜엠. ,  순지빈 ,  이승현 ,  박종근

IPC分类号： C08F220/26 ,  C08F299/04 ,  G03F7/027 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/2041 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/325

摘要： 특정아세탈부분을가지는단위를함유하는폴리머및 이폴리머를함유하는포토레지스트조성물이제공된다. 포토레지스트조성물로코팅된기판및 포토리소그래피패턴형성방법이또한제공된다. 상기조성물, 방법및 코팅기판은반도체디바이스의제조에특히적용가능하다.

公开(公告)号：KR101885956B1

公开(公告)日：2018-08-06

申请号：KR1020160051468

申请日：2016-04-27

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 후지와라다카유키 ,  오하시마사키 ,  다니구치료스케

IPC分类号： C07C307/02 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C307/02 ,  C07C321/28 ,  C07C2601/02 ,  C07C2601/04 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/68 ,  C07C2603/74 ,  C07C2603/86 ,  C07D303/16 ,  C07D305/06 ,  C07D305/08 ,  C07D307/20 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D309/10 ,  C07D333/46 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C07J31/006 ,  C07J41/0055 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38

摘要： [과제] ArF 엑시머레이저광, EB, EUV 등의고에너지선을광원으로한 포토리소그래피에있어서, 산확산이작고, 감도, MEF의밸런스가우수하며, 또한직사각형성도우수하고, 나아가서는상용성이우수하여디펙트가쉽게발현되지않는화학증폭형레지스트조성물에사용되는광산발생제등을제공한다. [해결수단] 하기식 (1)로표시되는오늄염.

公开(公告)号：KR101875957B1

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：KR1020120018904

申请日：2012-02-24

申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

发明人： 이찌까와,고지 ,  야스에,다까히로

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： 본발명은우수한라인엣지러프니스를갖고, 또한결함이적은레지스트패턴을얻을수 있는레지스트조성물을제공하는것을목적으로한다. 본발명은 (A1) 화학식 (I)로표시되는구조단위를갖는수지, (A2) 알칼리수용액에불용또는난용이고, 산의작용에의해알칼리수용액에용해될수 있는수지, (B) 산발생제및 (D) 화학식 (II)로표시되는화합물을함유하는레지스트조성물을제공한다.[식에서, R은수소원자또는메틸기; A은알칸디일기; R는불소원자를갖는탄화수소기; R및 R는각각독립적으로탄화수소기, 알콕시기, 아실기, 아실옥시기, 알콕시카르보닐기, 니트로기또는할로겐원자; m' 및 n'는각각독립적으로 0 내지 4의정수를나타냄]

公开(公告)号：KR20180069113A

公开(公告)日：2018-06-22

申请号：KR20187016721

申请日：2012-01-26

申请人： JSR CORP

发明人： SAKAKIBARA HIROKAZU ,  MIYATA HIROMU ,  FURUKAWA TAIICHI ,  ITO KOJI

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F224/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/038 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F224/00 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

摘要： 본발명은유기용매를현상액에이용하는패턴형성법에있어서, 현상후의미싱콘택트홀 및노광부표면의조도의발생을억제할수 있음과동시에, 해상도, 원형성등의리소그래피특성이우수한포토레지스트조성물을제공하는것을과제로한다. 상기과제를해결하기위해서이루어진발명은, 유기용매현상용포토레지스트조성물로서, [A] 산해리성기를갖는구조단위 (a1)을포함하는베이스중합체, [B] 산해리성기를갖는구조단위 (b1)을포함하고, 불소원자함유율이 [A] 중합체보다높은중합체, 및 [C] 산발생체를함유하고, 또한상기구조단위 (b1)이하기화학식 (1) 또는화학식 (2)로표시되는것인포토레지스트조성물이다.

公开(公告)号：KR101870219B1

公开(公告)日：2018-06-22

申请号：KR1020157024117

申请日：2013-03-18

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 요코카와나츠미 ,  타키자와히로오 ,  츠바키히데아키

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  C08F220/30 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F8/02 ,  C08F8/12 ,  C08F8/14 ,  C08F8/34 ,  C08F8/36 ,  C08F12/20 ,  C08F12/24 ,  C08F12/30 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32 ,  C08F216/10 ,  C08F216/38 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  C08F220/30 ,  C08F232/08 ,  C08F2800/10 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  C08F112/14 ,  C08F120/20 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/382 ,  C08F2220/305 ,  C08F2220/301

摘要： 본발명은하기일반식(A)으로나타내어지는반복단위를갖고, 하기일반식(B)으로나타내어지는반복단위, 하기일반식(C)으로나타내어지는반복단위, 하기일반식(D)으로나타내어지는반복단위및 하기일반식(E)으로나타내어지는반복단위중 적어도 2개를갖는수지(P)를함유하는감활성광선성또는감방사선성수지조성물을제공한다.