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公开(公告)号:KR101768289B1
公开(公告)日:2017-08-30
申请号:KR1020140175408
申请日:2014-12-08
申请人: 주식회사 엘지화학
IPC分类号: C08F297/00 , C08F212/12 , C08F212/14 , C08F216/12 , C08F220/10 , C08F220/30 , C08J5/18 , C08J7/04 , G03F7/00
CPC分类号: C08F293/005 , B81C1/00428 , B81C1/00531 , B81C2201/0149 , B82Y40/00 , C07C35/48 , C07C43/215 , C07C43/225 , C07C217/84 , C07C2601/16 , C07D209/48 , C07F7/1852 , C08F12/20 , C08F12/22 , C08F12/26 , C08F12/32 , C08F212/14 , C08F220/10 , C08F220/30 , C08F2438/03 , C08J5/18 , C08J7/123 , C08J7/14 , C08J2353/00 , C09D153/00 , G03F7/0002 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/162
摘要: 본출원은, 블록공중합체및 그용도가제공될수 있다. 본출원의블록공중합체는, 우수한자기조립특성내지는상분리특성을가지며, 요구되는다양한기능도자유롭게부여될수 있다.
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公开(公告)号:KR101771275B1
公开(公告)日:2017-08-24
申请号:KR1020130007322
申请日:2013-01-23
申请人: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC分类号: H01L21/027
CPC分类号: H01L21/67 , G03F7/162 , H01L21/02107 , H01L21/67017 , H01L21/6715
摘要: 본발명은기판에대하여처리액에의해처리함에있어서, 기판위에처리액으로부터반입되는이물의양을억제하는것을목적으로한다. 레지스트액을스핀척(20) 위의웨이퍼(W) 위에전개하기쉽게하기위해, PGMEA 등의용제를미리웨이퍼(W) 위에도포한다. 도포하기전에, 용제공급원(42)으로부터제공한용제를일단증류탱크(51)에저장한후에, 용제를가열부(53)로가열하여용제를기화시키고, 기화한용제를냉각기(60)로냉각함으로써증류에의한정제를행하여, 용제중의파티클을제거한다. 정제한용제는저류탱크(71)에일단저류한후에, 용제공급로(74)로부터스핀척(20) 위의용제노즐(40)에공급한다. 그리고용제노즐(40)로부터웨이퍼(W)에, 용제를토출하여, 용제를웨이퍼(W)에도포한다. 또한, 증류탱크(51)를정기적으로세정함으로써, 용제중의파티클농도의상승을억제한다.
摘要翻译: 本发明的目的是当用处理液处理基板时,抑制从处理液携带到基板上的水量。 为了促进旋转卡盘20上的晶圆W上的抗蚀剂溶液的显影,预先在晶圆W上涂布PGMEA等溶剂。 首先将从溶剂供应源42供应的溶剂储存在蒸馏罐51中,然后通过加热单元53加热溶剂以蒸发溶剂,并且蒸发的溶剂通过冷却器60冷却 进行蒸馏纯化以除去溶剂中的颗粒。 净化后的溶剂暂时储存在储液罐71中,然后从溶剂供应路径74供应到旋转卡盘20上的溶剂喷嘴40。 然后,溶剂从溶剂喷嘴40排出到晶片W,溶剂也包含在晶片W上。 此外,通过定期清洗蒸馏槽51,抑制了溶剂中颗粒浓度的增加。
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公开(公告)号:KR101768288B1
公开(公告)日:2017-08-17
申请号:KR1020140175403
申请日:2014-12-08
申请人: 주식회사 엘지화학
IPC分类号: C08F297/00 , C08F230/00 , C08F220/10 , C08F212/08 , C08F212/14 , C08F216/12 , C08F220/30 , C08J5/18 , C08J7/04 , G03F7/00
CPC分类号: C08F293/005 , B81C1/00428 , B81C1/00531 , B81C2201/0149 , B82Y40/00 , C07C35/48 , C07C43/215 , C07C43/225 , C07C217/84 , C07C2601/16 , C07D209/48 , C07F7/1852 , C08F12/20 , C08F12/22 , C08F12/26 , C08F12/32 , C08F212/14 , C08F220/10 , C08F220/30 , C08F2438/03 , C08J5/18 , C08J7/123 , C08J7/14 , C08J2353/00 , C09D153/00 , G03F7/0002 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/162
摘要: 본출원은, 블록공중합체및 그용도가제공될수 있다. 본출원의블록공중합체는, 우수한자기조립특성내지는상분리특성을가지며, 예를들면, 에칭선택성등과같은요구되는다양한기능도자유롭게부여될수 있다.
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公开(公告)号:KR101763009B1
公开(公告)日:2017-08-03
申请号:KR1020140175404
申请日:2014-12-08
申请人: 주식회사 엘지화학
IPC分类号: C08F297/00 , C08F212/08 , C08F212/14 , C08F216/12 , C08F220/10 , C08F220/30 , C08J5/18 , C08J7/04 , G03F7/00
CPC分类号: C08F293/005 , B81C1/00428 , B81C1/00531 , B81C2201/0149 , B82Y40/00 , C07C35/48 , C07C43/215 , C07C43/225 , C07C217/84 , C07C2601/16 , C07D209/48 , C07F7/1852 , C08F12/20 , C08F12/22 , C08F12/26 , C08F12/32 , C08F212/14 , C08F220/10 , C08F220/30 , C08F2438/03 , C08J5/18 , C08J7/123 , C08J7/14 , C08J2353/00 , C09D153/00 , G03F7/0002 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/162
摘要: 본출원은, 블록공중합체및 그용도가제공될수 있다. 본출원의블록공중합체는, 우수한자기조립특성내지는상분리특성을가지며, 요구되는다양한기능도자유롭게부여될수 있다.
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公开(公告)号:KR1020170087418A
公开(公告)日:2017-07-28
申请号:KR1020170008869
申请日:2017-01-18
申请人: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
CPC分类号: G03F7/0045 , C07C63/08 , C07C69/635 , C07C69/753 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/2006 , G03F7/2037 , G03F7/322 , G03F7/327 , G03F7/38 , H01L21/0274
摘要: [과제] 포지티브형레지스트재료에있어서도네거티브형레지스트재료에있어서도용해콘트라스트가크면서또한엣지러프니스(LWR)를작게할 수있는레지스트재료및 이것을이용하는패턴형성방법을제공한다. [해결수단] 베이스폴리머, 및하기식(A)으로표시되는술포늄염을포함하는레지스트재료:
摘要翻译: [问题]如在负偶数溶解对比度抗蚀剂组合物大于即使在正型抗蚀剂组合物还提供了使用抗蚀剂组合物可以降低的图案形成方法及这一点,在边缘粗糙度(LWR)。 [解决问题的手段]该抗蚀剂组合物包括由基体聚合物表示的锍盐,和下式(A):
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公开(公告)号:KR1020170084820A
公开(公告)日:2017-07-21
申请号:KR1020160004135
申请日:2016-01-13
申请人: 삼성전자주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
CPC分类号: G03F7/11 , C08G18/022 , C09D175/00 , G03F7/0045 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , H01L21/0276 , H01L21/30604 , H01L21/3081 , H01L21/3086 , H01L21/31144 , H01L21/32139 , H01L28/00
摘要: 포토레지스트의하부막조성물은적어도서로다른 2 종의이소시아누레이트유닛들이연결된반복단위를포함하는자가-가교(cross-linkable) 고분자, 및용매를포함한다.
摘要翻译: 光致抗蚀剂的下部膜组合物包含可交联聚合物和溶剂,所述可交联聚合物包含其中连接至少两个不同异氰脲酸酯单元的重复单元。
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公开(公告)号:KR101749417B1
公开(公告)日:2017-07-03
申请号:KR1020150138199
申请日:2015-09-30
申请人: 주식회사 엘지화학
IPC分类号: C08F297/00 , C08F299/00 , C08F212/08 , C08F220/10 , C08L53/00 , C08J5/18 , G03F7/00
CPC分类号: C08L53/005 , B05D1/005 , B05D3/007 , B81C1/00428 , B81C2201/0149 , B82Y40/00 , C01P2002/70 , C07B2200/00 , C08F2/14 , C08F32/06 , C08F212/08 , C08F216/12 , C08F220/10 , C08F220/26 , C08F220/30 , C08F293/00 , C08F293/005 , C08F299/024 , C08F2220/301 , C08F2438/03 , C08G61/08 , C08G61/128 , C08G2261/1424 , C08G2261/1426 , C08G2261/332 , C08G2261/3324 , C08G2261/40 , C08G2261/418 , C08J5/18 , C08J7/123 , C08J2353/00 , C08L53/00 , C08L53/02 , C09D153/00 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/091 , G03F7/16 , G03F7/162 , G03F7/2004 , G03F7/30 , C08F214/182
摘要: 본출원은블록공중합체및 그용도에관한것이다. 본출원은, 자기조립특성이우수하여다양한용도에서효과적으로사용될수 있는블록공중합체및 그용도를제공할수 있다.
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公开(公告)号:KR101749416B1
公开(公告)日:2017-07-03
申请号:KR1020150138198
申请日:2015-09-30
申请人: 주식회사 엘지화학
IPC分类号: C08F297/00 , C08F299/00 , C08F212/08 , C08F220/10 , C08L53/00 , C08J5/18 , G03F7/00
CPC分类号: C08L53/005 , B05D1/005 , B05D3/007 , B81C1/00428 , B81C2201/0149 , B82Y40/00 , C01P2002/70 , C07B2200/00 , C08F2/14 , C08F32/06 , C08F212/08 , C08F216/12 , C08F220/10 , C08F220/26 , C08F220/30 , C08F293/00 , C08F293/005 , C08F299/024 , C08F2220/301 , C08F2438/03 , C08G61/08 , C08G61/128 , C08G2261/1424 , C08G2261/1426 , C08G2261/332 , C08G2261/3324 , C08G2261/40 , C08G2261/418 , C08J5/18 , C08J7/123 , C08J2353/00 , C08L53/00 , C08L53/02 , C09D153/00 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/091 , G03F7/16 , G03F7/162 , G03F7/2004 , G03F7/30 , C08F214/182
摘要: 본출원은블록공중합체및 그용도에관한것이다. 본출원은, 자기조립특성이우수하여다양한용도에서효과적으로사용될수 있는블록공중합체및 그용도를제공할수 있다.
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公开(公告)号:KR1020170048422A
公开(公告)日:2017-05-08
申请号:KR1020177007806
申请日:2015-08-13
申请人: 바스프 에스이
IPC分类号: C07C327/58 , C07D209/48 , G03F7/00 , G03F7/031 , G03F7/40
CPC分类号: C07C327/58 , C07C2601/20 , C07D209/48 , G02B1/14 , G02B5/201 , G02B5/223 , G02F1/133516 , G02F1/1339 , G02F2001/133519 , G03F7/0007 , G03F7/031 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2002 , G03F7/38 , G03F7/40
摘要: 화학식 I의옥심술포네이트화합물은열 라디칼개시제로서적합하다.여기서 R은 O(CO)R, COOR또는 CONRR이고; n은 1 또는 2이고; R는예를들어 C-C알킬, C-C시클로알킬또는벤질이고; R은예를들어 C-C알킬, C-C시클로알킬, C-C할로알킬, C-C알케닐, 벤질, 페닐또는나프틸이며, 이는임의로치환되고; R는예를들어 C-C알킬, C-C시클로알킬, C-C할로알킬, C-C알케닐, 벤질, 페닐또는나프틸이며, 이는임의로치환되고; R는예를들어 C-C알킬, C-C시클로알킬, C-C알케닐, 예를들어 1개이상의할로겐에의해치환된 C-C알킬이거나; 또는 R는페닐또는나프틸이며, 이는비치환되고; R및 R은각각서로독립적으로예를들어수소, C-C알킬, C-C할로알킬, 페닐-C-C알킬, C-C알케닐또는 C-C시클로알킬, 페닐또는나프틸이거나; 또는 R및 R은이들이부착되어있는 N-원자와함께 5- 또는 6-원고리를형성한다.
摘要翻译: 式I的肟磺酸酯化合物适合作为热自由基引发剂,其中R为O(CO)R,COOR或CONRR; n是1或2; R为例如C 1 -C 6烷基,C 1 -C 3环烷基或苄基; R为例如任选取代的C 1 -C 4烷基,C 1 -C 6环烷基,C 1 -C 6卤代烷基,C 1 -C 6链烯基,苄基,苯基或萘基; R为例如任选取代的C 1 -C 4烷基,C 1 -C 4环烷基,C 1 -C 6卤代烷基,C 1 -C 6链烯基,苄基,苯基或萘基; R为例如C 1 -C 4烷基,C 1 -C 4环烷基,C 1 -C 6烯基,例如被一个或多个卤素取代的C 1 -C 4烷基; 或者R是未被取代的苯基或萘基; R 1和R 2独立地为例如氢,C 1 -C 4烷基,C 1 -C 6卤代烷基,苯基-C 1 -C 4烷基,C 1 -C 6烯基或C 3 -C 6环烷基,苯基或萘基; 或者R和R与它们所连接的N原子一起形成5元或6元环。
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30.감광성 수지 조성물, 경화막의 제조 방법, 경화막, 액정 표시 장치, 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치 및 터치 패널 审中-实审
标题翻译: 感光性树脂组合物,固化膜的制造方法,固化膜,液晶显示器,有机电致发光显示器,公开(公告)号:KR1020170039697A
公开(公告)日:2017-04-11
申请号:KR1020177005340
申请日:2015-09-02
申请人: 후지필름 가부시키가이샤
CPC分类号: G03F7/0233 , C08G73/22 , G02F1/133345 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2002 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40 , G06F3/041 , G06F3/044 , H01L27/3248 , H01L27/3258 , H01L51/56 , H01L2227/323 , H05B33/10 , H05B33/12 , H05B33/22
摘要: 내약품성, 내광성및 용제용해성이우수한감광성수지조성물, 경화막의제조방법, 경화막, 액정표시장치, 유기일렉트로루미네선스표시장치및 터치패널을제공한다. 이감광성수지조성물은, 폴리벤조옥사졸전구체와, pKa가 3 이하인산을발생하는광산발생제, 또는퀴논다이아자이드화합물과, 용제를함유하고, 폴리벤조옥사졸전구체는, 일반식 (1) 및일반식 (2)로나타나는반복단위를합계로, 전체반복단위의 70mol% 이상함유하며, 일반식 (1)로나타나는반복단위와일반식 (2)로나타나는반복단위의비율은몰비로 9:1~3:7이다. Y은탄소수 3~15의환상의지방족기를나타내고, Y는탄소수 4~20의직쇄또는분기의지방족기를나타낸다.
摘要翻译: 耐化学性,耐光性,与感光性树脂组合物具有优异的溶剂溶解性,固化膜的制造方法,固化膜,提供了一种液晶显示装置,有机发光显示装置和触摸面板。 包含光酸产生剂,或醌金刚石扎伊德化合物,用于产生三个或更少的磷酸盐的溶剂Yigam光成分的树脂组合物,聚苯并恶唑joljeon球体,pKa值,聚苯并恶唑joljeon球体是由通式(1)和 由通式(1)表示的重复单元与由通式(2)表示的重复单元的比例为9:1的摩尔比 〜3:7。 Y表示具有3至15个碳原子的环状脂族基团,Y表示具有4至20个碳原子的直链或支链脂族基团。
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