액처리 장치, 액처리 방법, 및 기억 매체
    22.
    发明授权
    액처리 장치, 액처리 방법, 및 기억 매체 有权
    液体处理装置,液体处理方法和存储介质

    公开(公告)号:KR101771275B1

    公开(公告)日:2017-08-24

    申请号:KR1020130007322

    申请日:2013-01-23

    IPC分类号: H01L21/027

    摘要: 본발명은기판에대하여처리액에의해처리함에있어서, 기판위에처리액으로부터반입되는이물의양을억제하는것을목적으로한다. 레지스트액을스핀척(20) 위의웨이퍼(W) 위에전개하기쉽게하기위해, PGMEA 등의용제를미리웨이퍼(W) 위에도포한다. 도포하기전에, 용제공급원(42)으로부터제공한용제를일단증류탱크(51)에저장한후에, 용제를가열부(53)로가열하여용제를기화시키고, 기화한용제를냉각기(60)로냉각함으로써증류에의한정제를행하여, 용제중의파티클을제거한다. 정제한용제는저류탱크(71)에일단저류한후에, 용제공급로(74)로부터스핀척(20) 위의용제노즐(40)에공급한다. 그리고용제노즐(40)로부터웨이퍼(W)에, 용제를토출하여, 용제를웨이퍼(W)에도포한다. 또한, 증류탱크(51)를정기적으로세정함으로써, 용제중의파티클농도의상승을억제한다.

    摘要翻译: 本发明的目的是当用处理液处理基板时,抑制从处理液携带到基板上的水量。 为了促进旋转卡盘20上的晶圆W上的抗蚀剂溶液的显影,预先在晶圆W上涂布PGMEA等溶剂。 首先将从溶剂供应源42供应的溶剂储存在蒸馏罐51中,然后通过加热单元53加热溶剂以蒸发溶剂,并且蒸发的溶剂通过冷却器60冷却 进行蒸馏纯化以除去溶剂中的颗粒。 净化后的溶剂暂时储存在储液罐71中,然后从溶剂供应路径74供应到旋转卡盘20上的溶剂喷嘴40。 然后,溶剂从溶剂喷嘴40排出到晶片W,溶剂也包含在晶片W上。 此外,通过定期清洗蒸馏槽51,抑制了溶剂中颗粒浓度的增加。

    옥심 술포네이트 유도체
    29.
    发明公开
    옥심 술포네이트 유도체 审中-实审
    肟磺酸盐衍生物

    公开(公告)号:KR1020170048422A

    公开(公告)日:2017-05-08

    申请号:KR1020177007806

    申请日:2015-08-13

    摘要: 화학식 I의옥심술포네이트화합물은열 라디칼개시제로서적합하다.여기서 R은 O(CO)R, COOR또는 CONRR이고; n은 1 또는 2이고; R는예를들어 C-C알킬, C-C시클로알킬또는벤질이고; R은예를들어 C-C알킬, C-C시클로알킬, C-C할로알킬, C-C알케닐, 벤질, 페닐또는나프틸이며, 이는임의로치환되고; R는예를들어 C-C알킬, C-C시클로알킬, C-C할로알킬, C-C알케닐, 벤질, 페닐또는나프틸이며, 이는임의로치환되고; R는예를들어 C-C알킬, C-C시클로알킬, C-C알케닐, 예를들어 1개이상의할로겐에의해치환된 C-C알킬이거나; 또는 R는페닐또는나프틸이며, 이는비치환되고; R및 R은각각서로독립적으로예를들어수소, C-C알킬, C-C할로알킬, 페닐-C-C알킬, C-C알케닐또는 C-C시클로알킬, 페닐또는나프틸이거나; 또는 R및 R은이들이부착되어있는 N-원자와함께 5- 또는 6-원고리를형성한다.

    摘要翻译: 式I的肟磺酸酯化合物适合作为热自由基引发剂,其中R为O(CO)R,COOR或CONRR; n是1或2; R为例如C 1 -C 6烷基,C 1 -C 3环烷基或苄基; R为例如任选取代的C 1 -C 4烷基,C 1 -C 6环烷基,C 1 -C 6卤代烷基,C 1 -C 6链烯基,苄基,苯基或萘基; R为例如任选取代的C 1 -C 4烷基,C 1 -C 4环烷基,C 1 -C 6卤代烷基,C 1 -C 6链烯基,苄基,苯基或萘基; R为例如C 1 -C 4烷基,C 1 -C 4环烷基,C 1 -C 6烯基,例如被一个或多个卤素取代的C 1 -C 4烷基; 或者R是未被取代的苯基或萘基; R 1和R 2独立地为例如氢,C 1 -C 4烷基,C 1 -C 6卤代烷基,苯基-C 1 -C 4烷基,C 1 -C 6烯基或C 3 -C 6环烷基,苯基或萘基; 或者R和R与它们所连接的N原子一起形成5元或6元环。