不受製程影響的對準方法
    4.
    发明专利
    不受製程影響的對準方法 失效
    不受制程影响的对准方法

    公开(公告)号:TW348309B

    公开(公告)日:1998-12-21

    申请号:TW085115556

    申请日:1996-12-17

    IPC: H01L

    Abstract: 本發明係揭露一種不受製程影響的對準方法。一種不受製程影響的對準方法係將對準標誌(alignment mark)移至晶片的背面與電路製程不同一邊,如此進行IC元件的電路製程中不會影響到對準方法的進行,進而增加對準之精確度,以及減低不少製程麻煩及成本。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明系揭露一种不受制程影响的对准方法。一种不受制程影响的对准方法系将对准标志(alignment mark)移至芯片的背面与电路制程不同一边,如此进行IC组件的电路制程中不会影响到对准方法的进行,进而增加对准之精确度,以及减低不少制程麻烦及成本。

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