複合晶圓半導體元件及其形成方法 COMPOSITE WAFER SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FORMING THE SAME
    6.
    发明专利
    複合晶圓半導體元件及其形成方法 COMPOSITE WAFER SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FORMING THE SAME 审中-公开
    复合晶圆半导体组件及其形成方法 COMPOSITE WAFER SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FORMING THE SAME

    公开(公告)号:TW201209897A

    公开(公告)日:2012-03-01

    申请号:TW100103347

    申请日:2011-01-28

    Inventor: 周正三

    IPC: H01L

    Abstract: 一種複合晶圓半導體元件,其包含第一晶圓和第二晶圓。第一晶圓具有第一側與第二側,而第二側係實質相對於第一側。複合晶圓半導體元件亦包含隔離組與自由空間,其中隔離組係形成於第一晶圓的第一側,且於隔離組中蝕刻出上述自由空間。第二晶圓接合至上述隔離組。形成如慣性感測元件之浮動結構於上述自由空間之上的第二晶圓之中。在一實施例中,表面接合墊形成於第一晶圓之第二側。接著,使用穿透矽介層窗(TSV)導體電性連結浮動結構至表面接合墊。

    Abstract in simplified Chinese: 一种复合晶圆半导体组件,其包含第一晶圆和第二晶圆。第一晶圆具有第一侧与第二侧,而第二侧系实质相对于第一侧。复合晶圆半导体组件亦包含隔离组与自由空间,其中隔离组系形成于第一晶圆的第一侧,且于隔离组中蚀刻出上述自由空间。第二晶圆接合至上述隔离组。形成如惯性传感组件之浮动结构于上述自由空间之上的第二晶圆之中。在一实施例中,表面接合垫形成于第一晶圆之第二侧。接着,使用穿透硅介层窗(TSV)导体电性链接浮动结构至表面接合垫。

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