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公开(公告)号:TW201723619A
公开(公告)日:2017-07-01
申请号:TW105124474
申请日:2016-08-02
发明人: 保本清治 , YASUMOTO, SEIJI , 安達広樹 , ADACHI, HIROKI , 佐藤将孝 , SATO, MASATAKA , 楠紘慈 , KUSUNOKI, KOJI , 平形吉晴 , HIRAKATA, YOSHIHARU
IPC分类号: G02F1/1343 , G02F1/1333
CPC分类号: H01L27/3267 , G02F1/133553 , G02F1/136227 , G02F1/136286 , G02F1/1368 , G06F3/01 , G09G3/2092 , G09G3/3648 , G09G5/34 , G09G2300/023 , G09G2300/046 , G09G2300/0465 , G09G2310/0205 , G09G2320/0242 , G09G2320/0626 , G09G2320/066 , G09G2320/0666 , G09G2320/103 , G09G2330/021 , G09G2340/0435 , G09G2360/144 , H01L27/1225 , H01L27/1237 , H01L27/124 , H01L27/1248 , H01L27/1255 , H01L27/1262 , H01L27/3258 , H01L27/3262 , H01L27/3276 , H01L29/78648 , H01L29/7869 , H01L29/78696 , H01L2227/323 , H01L2251/533
摘要: 本發明的一個實施方式提供一種方便性或可靠性優異的新穎的顯示面板。本發明的一個實施方式還提供一種方便性或可靠性優異的新穎的顯示面板的製造方法。本發明的一個實施方式包括:第一顯示元件;與第一顯示元件電連接的第一導電膜;包括與第一導電膜重疊的區域的第二導電膜;包括被夾在第二導電膜和第一導電膜之間的區域的第一絕緣膜;在與第二導電膜之間包括夾有第一導電膜的區域的中間膜;與第二導電膜電連接的像素電路;以及與像素電路電連接的第二顯示元件,其中,第一絕緣膜包括開口,並且,第二導電膜藉由開口與第一導電膜電連接。
简体摘要: 本发明的一个实施方式提供一种方便性或可靠性优异的新颖的显示皮肤。本发明的一个实施方式还提供一种方便性或可靠性优异的新颖的显示皮肤的制造方法。本发明的一个实施方式包括:第一显示组件;与第一显示组件电连接的第一导电膜;包括与第一导电膜重叠的区域的第二导电膜;包括被夹在第二导电膜和第一导电膜之间的区域的第一绝缘膜;在与第二导电膜之间包括夹有第一导电膜的区域的中间膜;与第二导电膜电连接的像素电路;以及与像素电路电连接的第二显示组件,其中,第一绝缘膜包括开口,并且,第二导电膜借由开口与第一导电膜电连接。
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公开(公告)号:TW201721720A
公开(公告)日:2017-06-16
申请号:TW105117102
申请日:2016-05-31
发明人: 高逸群 , KAO, YI-CHUN , 林欣樺 , LIN, HSIN-HUA
IPC分类号: H01L21/265 , H01L27/12 , H01L29/417
CPC分类号: H01L27/1251 , H01L21/26513 , H01L27/1225 , H01L27/1233 , H01L27/1237 , H01L27/124 , H01L27/1248 , H01L27/1255 , H01L27/1259 , H01L27/127 , H01L27/1288 , H01L27/3262 , H01L29/41733 , H01L29/4908 , H01L29/78621 , H01L29/78675 , H01L29/78678 , H01L29/7869 , H01L29/78696
摘要: 一種陣列基板,其包括基板、設置於基板上的第一薄膜電晶體與第二薄膜電晶體,所述第一薄膜電晶體包括第一通道層,所述第二薄膜電晶體包括第二通道層;所述陣列基板還包括第三絕緣層,所述第一通道層形成在所述基板上,所述第一通道層的材質為摻雜的多晶矽層,所述第二通道層的材質為金屬氧化物半導體;在對應該第二通道層兩側的位置分別開設有一第二汲極孔和一第二源極孔貫穿所述第三絕緣層,所述第二汲極孔與第二源極孔之間的第三絕緣層定義一保護區域以保護所述第二通道層。本發明還提供應用該陣列基板的顯示面板、顯示裝置及該陣列基板的製備方法。保護區域覆蓋所述第二通道層能夠有效保護第二通道層。
简体摘要: 一种数组基板,其包括基板、设置于基板上的第一薄膜晶体管与第二薄膜晶体管,所述第一薄膜晶体管包括第一信道层,所述第二薄膜晶体管包括第二信道层;所述数组基板还包括第三绝缘层,所述第一信道层形成在所述基板上,所述第一信道层的材质为掺杂的多晶硅层,所述第二信道层的材质为金属氧化物半导体;在对应该第二信道层两侧的位置分别开设有一第二汲极孔和一第二源极孔贯穿所述第三绝缘层,所述第二汲极孔与第二源极孔之间的第三绝缘层定义一保护区域以保护所述第二信道层。本发明还提供应用该数组基板的显示皮肤、显示设备及该数组基板的制备方法。保护区域覆盖所述第二信道层能够有效保护第二信道层。
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公开(公告)号:TW201523889A
公开(公告)日:2015-06-16
申请号:TW103134797
申请日:2014-10-06
申请人: 夏普股份有限公司 , SHARP KABUSHIKI KAISHA
发明人: 牧田直樹 , MAKITA, NAOKI , 刀根覺 , TONE, SATORU
IPC分类号: H01L29/786 , H01L21/205
CPC分类号: H01L27/1277 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L27/1225 , H01L27/1237 , H01L27/1248 , H01L27/1251 , H01L27/1274 , H01L27/1288 , H01L29/401 , H01L29/78672 , H01L29/7869
摘要: 半導體裝置(100)包括:基板(11);第1薄膜電晶體(10A),其支持於基板(11),包含主要含有結晶質矽之第1活性區域(13c);及第2薄膜電晶體(10B),其支持於基板(11),包含主要含有具有結晶質部分之氧化物半導體之第2活性區域(17c)。
简体摘要: 半导体设备(100)包括:基板(11);第1薄膜晶体管(10A),其支持于基板(11),包含主要含有结晶质硅之第1活性区域(13c);及第2薄膜晶体管(10B),其支持于基板(11),包含主要含有具有结晶质部分之氧化物半导体之第2活性区域(17c)。
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公开(公告)号:TW201521186A
公开(公告)日:2015-06-01
申请号:TW103127261
申请日:2014-08-08
申请人: 東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人: 藤信美 , SAITO, NOBUYOSHI , 上田知正 , UEDA, TOMOMASA , 前田雄也 , MAEDA, YUYA , 三浦健太郎 , MIURA, KENTARO , 中野慎太郎 , NAKANO, SHINTARO , 坂野竜則 , SAKANO, TATSUNORI , 山口一 , YAMAGUCHI, HAJIME
CPC分类号: H01L27/3262 , H01L27/1225 , H01L27/1237 , H01L2029/42388
摘要: 一種顯示裝置包括第一電極、第二電極、有機發光層、第一電晶體以及第二電晶體。第一電晶體包括第一半導體層、第一導電單元、第二導電單元、第一閘極電極以及第一閘極絕緣膜。第二電晶體包括第二半導體層、第三導電單元、第四導電單元、第二閘極電極以及第二閘極絕緣膜。包括在第一閘極絕緣膜中氫的量大於包括在第二閘極絕緣膜中氫的量。
简体摘要: 一种显示设备包括第一电极、第二电极、有机发光层、第一晶体管以及第二晶体管。第一晶体管包括第一半导体层、第一导电单元、第二导电单元、第一闸极电极以及第一闸极绝缘膜。第二晶体管包括第二半导体层、第三导电单元、第四导电单元、第二闸极电极以及第二闸极绝缘膜。包括在第一闸极绝缘膜中氢的量大于包括在第二闸极绝缘膜中氢的量。
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公开(公告)号:TW201448179A
公开(公告)日:2014-12-16
申请号:TW103104562
申请日:2014-02-12
申请人: 東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人: 中野慎太郎 , NAKANO, SHINTARO , 上田知正 , UEDA, TOMOMASA , 三浦健太郎 , MIURA, KENTARO , 藤信美 , SAITO, NOBUYOSHI , 坂野竜則 , SAKANO, TATSUNORI , 前田雄也 , MAEDA, YUYA , 山口一 , YAMAGUCHI, HAJIME
IPC分类号: H01L27/12 , H01L29/49 , H01L29/786
CPC分类号: H01L27/124 , H01L27/1225 , H01L27/1237 , H01L27/1248 , H01L27/1259 , H01L29/4908 , H01L29/78603 , H01L29/7869 , H01L29/78696
摘要: 依據一實施例,顯示裝置包含基板單元、薄膜電晶體、像素電極、及顯示層。基板單元包含基板、第一絕緣層、及第二絕緣層,第一絕緣層係設置在基板上,第二絕緣層係設置在第一絕緣層上。薄膜電晶體係設置在基板單元上,且包含設置在第二絕緣層上之閘極電極、與閘極電極分離之氧化物的半導體層、設置在閘極電極與半導體層之間的閘極絕緣層、第一導電部分、第二導電部分、及第三絕緣層。像素電極係連接至選自第一及第二導電部分的其中一者。顯示層係組構以具有依據所供應至像素電極之電荷而發生的光發射或光學特徵的改變。
简体摘要: 依据一实施例,显示设备包含基板单元、薄膜晶体管、像素电极、及显示层。基板单元包含基板、第一绝缘层、及第二绝缘层,第一绝缘层系设置在基板上,第二绝缘层系设置在第一绝缘层上。薄膜晶体管系设置在基板单元上,且包含设置在第二绝缘层上之闸极电极、与闸极电极分离之氧化物的半导体层、设置在闸极电极与半导体层之间的闸极绝缘层、第一导电部分、第二导电部分、及第三绝缘层。像素电极系连接至选自第一及第二导电部分的其中一者。显示层系组构以具有依据所供应至像素电极之电荷而发生的光发射或光学特征的改变。
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公开(公告)号:TW201438215A
公开(公告)日:2014-10-01
申请号:TW103105154
申请日:2014-02-17
申请人: 新力股份有限公司 , SONY CORPORATION
发明人: 山田泰弘 , YAMADA, YASUHIRO
IPC分类号: H01L27/146
CPC分类号: H01L29/78648 , G01N23/04 , H01L27/1237 , H01L27/14601 , H01L27/14658 , H01L27/14692 , H01L29/42384 , H01L29/4908 , H01L29/78603 , H01L29/78672
摘要: 本發明揭示一種半導體裝置,其包含:一基板;至少一個閘極電極;至少兩個氧化矽層,其包括一第一氧化矽層及一第二氧化矽層,其中該第一氧化矽層比該第二氧化矽層更接近於該基板,且其中該第一氧化矽層之一厚度大於或等於該第二氧化矽層之一厚度;及一半導體層,其安置於該第一氧化矽層之至少一部分與該第二氧化矽層之至少一部分之間。此外,本發明揭示包含該半導體裝置之一種影像拾取裝置及一種輻射成像裝置。
简体摘要: 本发明揭示一种半导体设备,其包含:一基板;至少一个闸极电极;至少两个氧化硅层,其包括一第一氧化硅层及一第二氧化硅层,其中该第一氧化硅层比该第二氧化硅层更接近于该基板,且其中该第一氧化硅层之一厚度大于或等于该第二氧化硅层之一厚度;及一半导体层,其安置于该第一氧化硅层之至少一部分与该第二氧化硅层之至少一部分之间。此外,本发明揭示包含该半导体设备之一种影像十取设备及一种辐射成像设备。
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公开(公告)号:TWI397993B
公开(公告)日:2013-06-01
申请号:TW096103177
申请日:2007-01-29
发明人: 山崎舜平 , YAMAZAKI, SHUNPEI
IPC分类号: H01L27/115 , H01L21/8247
CPC分类号: H01L27/1237 , H01L21/28273 , H01L27/115 , H01L27/11521 , H01L27/11526 , H01L27/11536 , H01L27/11539 , H01L27/11546 , H01L27/1214 , H01L29/42324
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公开(公告)号:TW480731B
公开(公告)日:2002-03-21
申请号:TW090105033
申请日:2001-03-05
申请人: 半導體能源研究所股份有限公司
IPC分类号: H01L
CPC分类号: H01L29/786 , G02F1/13452 , H01L27/1237 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L27/1288 , H01L29/66757 , H01L29/66765 , H01L29/78621 , H01L29/78675 , H01L29/78678 , H01L2029/7863
摘要: (問題)
降低一像素TFT製程步驟數,而實現降低製造成本與增加良率。由滿足各電路所需特性之TFT所形成之驅動裝置電路在如玻璃基底之大表面積基底上形成一群。提供安裝有驅動裝置電路之顯示裝置,及提供增加可靠性與生產率之技術被視為是問題。(解決方法)
像素區中所形成之像素TFT以一通道蝕刻型反交錯型TFT形成在一第一基底上,並以相同之光罩使源極區與洩極區形成圖案,並使像素電極形成圖案。利用具有一結晶質半導體層之TFT所形成之驅動裝置電路,及決定於驅動裝置電路之輸入.輪出端被視為一單元。眾多單元形成在第三基底上,且往後將第三基底切割成個別單元,並將所得到之桿狀驅動裝置安裝在第一基底上,使現有發明特徵化。简体摘要: (问题) 降低一像素TFT制程步骤数,而实现降低制造成本与增加良率。由满足各电路所需特性之TFT所形成之驱动设备电路在如玻璃基底之大表面积基底上形成一群。提供安装有驱动设备电路之显示设备,及提供增加可靠性与生产率之技术被视为是问题。(解决方法) 像素区中所形成之像素TFT以一信道蚀刻型反交错型TFT形成在一第一基底上,并以相同之光罩使源极区与泄极区形成图案,并使像素电极形成图案。利用具有一结晶质半导体层之TFT所形成之驱动设备电路,及决定于驱动设备电路之输入.轮出端被视为一单元。众多单元形成在第三基底上,且往后将第三基底切割成个别单元,并将所得到之杆状驱动设备安装在第一基底上,使现有发明特征化。
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公开(公告)号:TW201707216A
公开(公告)日:2017-02-16
申请号:TW105133910
申请日:2014-10-06
申请人: 夏普股份有限公司 , SHARP KABUSHIKI KAISHA
发明人: 牧田直樹 , MAKITA, NAOKI , 刀根覺 , TONE, SATORU
IPC分类号: H01L29/786 , H01L21/205
CPC分类号: H01L27/1277 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L27/1225 , H01L27/1237 , H01L27/1248 , H01L27/1251 , H01L27/1274 , H01L27/1288 , H01L29/401 , H01L29/78672 , H01L29/7869
摘要: 半導體裝置(100)包括:基板(11);第1薄膜電晶體(10A),其支持於基板(11),包含主要含有結晶質矽之第1活性區域(13c);及第2薄膜電晶體(10B),其支持於基板(11),包含主要含有具有結晶質部分之氧化物半導體之第2活性區域(17c)。
简体摘要: 半导体设备(100)包括:基板(11);第1薄膜晶体管(10A),其支持于基板(11),包含主要含有结晶质硅之第1活性区域(13c);及第2薄膜晶体管(10B),其支持于基板(11),包含主要含有具有结晶质部分之氧化物半导体之第2活性区域(17c)。
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公开(公告)号:TWI566362B
公开(公告)日:2017-01-11
申请号:TW101145932
申请日:2012-12-06
发明人: 金子貴昭 , KANEKO, KISHOU , 井上尚也 , INOUE, NAOYA , 林喜宏 , HAYASHI, YOSHIHIRO
CPC分类号: H01L27/1259 , H01L21/0214 , H01L21/02164 , H01L21/02167 , H01L21/0217 , H01L21/02565 , H01L21/28 , H01L21/44 , H01L21/465 , H01L21/47635 , H01L23/522 , H01L27/088 , H01L27/1218 , H01L27/1225 , H01L27/1237 , H01L27/124 , H01L27/1251 , H01L29/4908 , H01L29/495 , H01L29/66477 , H01L29/66969 , H01L29/7869 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
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