公开(公告)号：US07230675B2

公开(公告)日：2007-06-12

申请号：US11001083

申请日：2004-12-02

申请人： Stefan Geerte Kruijswijk ,  Erik Roelof Loopstra

发明人： Stefan Geerte Kruijswijk ,  Erik Roelof Loopstra

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70075 ,  G03F7/70083

摘要： The invention relates to a lithographic apparatus, a device manufacturing method and a device thus manufactured. The lithographic apparatus is of the scanning type, in which a target portion of a substrate is scanned through a patterned radiation beam. Inhomogeneities in the radiation beam may become visible in the form of stripes on the substrate. By imparting an additional movement to the substrate table and optionally to the patterning device of the apparatus, during scanning, in a direction at an angle with the scanning movement, such inhomogeneities are smeared out, and the overall homogeneity of the illumination may be improved.

摘要翻译： 本发明涉及光刻设备，器件制造方法和由此制造的器件。 光刻设备是扫描型的，其中基板的目标部分通过图案化的辐射束被扫描。 辐射束中的不均匀性可能以基板上的条纹的形式变得可见。 通过在扫描期间，在与扫描运动成一定角度的方向上向衬底台施加额外的运动并且可选地赋予设备的图案形成装置，这样的不均匀性被涂抹，并且可以提高照明的整体均匀性。

公开(公告)号：US07224436B2

公开(公告)日：2007-05-29

申请号：US11375039

申请日：2006-03-15

申请人： Antonius Theodorus Anna Maria Derksen ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Joeri Lof ,  Erik Roelof Loopstra ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk

发明人： Antonius Theodorus Anna Maria Derksen ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Joeri Lof ,  Erik Roelof Loopstra ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F9/7088

摘要： In a lithographic projection apparatus, a liquid supply system provides liquid in a space between the final element of the projection system and the substrate of the lithographic projection apparatus. A shutter member is provided to contain liquid in the liquid supply system during, for example, substrate exchange.

摘要翻译： 在光刻投影设备中，液体供应系统在投影系统的最终元件和光刻投影设备的基板之间的空间中提供液体。 提供挡板构件以在例如基板交换期间容纳液体供应系统中的液体。

公开(公告)号：US07213963B2

公开(公告)日：2007-05-08

申请号：US10857614

申请日：2004-06-01

申请人： Joeri Lof ,  Erik Theodorus Maria Bijlaart ,  Roelof Aeilko Siebrand Ritsema ,  Frank Van Schaik ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Klaus Simon ,  Joannes Theodoor De Smit ,  Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Hans Butler ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Marcus Adrianus Van de Kerkhof ,  Aleksey Yurievich Kolesnychenko ,  Mark Kroon ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hendricus Johannes Maria Meijer ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Joost Jeroen Ottens ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Van Santen

发明人： Joeri Lof ,  Erik Theodorus Maria Bijlaart ,  Roelof Aeilko Siebrand Ritsema ,  Frank Van Schaik ,  Timotheus Franciscus Sengers ,  Klaus Simon ,  Joannes Theodoor De Smit ,  Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Hans Butler ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Marcus Adrianus Van de Kerkhof ,  Aleksey Yurievich Kolesnychenko ,  Mark Kroon ,  Erik Roelof Loopstra ,  Hendricus Johannes Maria Meijer ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Joost Jeroen Ottens ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk ,  Helmar Van Santen

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/74 ,  G03B27/72 ,  G03B27/32 ,  G00B1/00

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70883

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed in which a space between the projection system and a sensor is filled with a liquid.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置，其中投影系统和传感器之间的空间填充有液体。

公开(公告)号：US07161267B2

公开(公告)日：2007-01-09

申请号：US10855962

申请日：2004-05-28

申请人： Sven Antoin Johan Hol ,  Johan Cornelis Compter ,  Erik Roelof Loopstra ,  Patricia Vreugdewater

发明人： Sven Antoin Johan Hol ,  Johan Cornelis Compter ,  Erik Roelof Loopstra ,  Patricia Vreugdewater

IPC分类号： H02K41/025 ,  H02N15/02 ,  G03F7/20

CPC分类号： H02K7/09 ,  H02K41/025 ,  H02K2201/18 ,  H02N15/02 ,  Y10S414/135

摘要： A displacement apparatus comprising a first part and a second part, which can be displaced relative to each other in first and second different directions. The apparatus being suitable for use in a lithographic apparatus for positioning the mask holder with respect to the projection beam and for positioning the wafer substrate table with respect to the patterned beam. The first part comprises a first and second coil system in which an alternating current is provided by a power supply. The second part comprises a conductive platen which is disposed in a zone in which a magnetic field is induced when power is supplied to the coil systems. The coil system and platen are arranged with respect to each other so that when currents are passed through the coils, a magnetic field induced in the platen causes displacement between the platen and the coils in the first and second different directions.

摘要翻译： 一种位移设备，包括可在第一和第二不同方向上相对于彼此移位的第一部分和第二部分。 该设备适用于光刻设备中，用于相对于投影光束定位掩模保持器并且相对于图案化的光束定位晶片衬底台。 第一部分包括第一和第二线圈系统，其中交流电由电源提供。 第二部分包括导电台板，该导电台板设置在向线圈系统供电时引起磁场的区域。 线圈系统和压板相对于彼此布置，使得当电流通过线圈时，在压板中感应的磁场引起压板和线圈在第一和第二不同方向上的位移。

公开(公告)号：US07110083B2

公开(公告)日：2006-09-19

申请号：US10715828

申请日：2003-11-19

申请人： Erik Roelof Loopstra ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken

发明人： Erik Roelof Loopstra ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken

IPC分类号： G03B27/42 ,  G01B11/00

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70833

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes an illumination system for providing a beam of radiation used to irradiate a patterning device, and a first support that supports the patterning device. The patterning device capable of patterning the beam of radiation. The apparatus also includes a second support that supports a substrate, a projection system for projecting the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a projection system positioning module that controls at least one of a position and an orientation of the projection system based on at least one of a velocity and an acceleration of the projection system.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括用于提供用于照射图案形成装置的辐射束的照明系统和支撑图案形成装置的第一支撑件。 能够图案化辐射束的图案形成装置。 该装置还包括支撑基板的第二支撑件，用于将图案化的辐射束投射到基板的目标部分上的投影系统，以及投影系统定位模块，其控制投影的位置和取向中的至少一个 基于投影系统的速度和加速度中的至少一个的系统。

公开(公告)号：US07110081B2

公开(公告)日：2006-09-19

申请号：US10831370

申请日：2004-04-26

申请人： Christian Alexander Hoogendam ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Hans Jansen ,  Jacobus Johannus Leonardus Hendricus Verspay ,  Antonius Theodorus Anna Maria Derksen ,  Joeri Lof ,  Erik Roelof Loopstra ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk

发明人： Christian Alexander Hoogendam ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Hans Jansen ,  Jacobus Johannus Leonardus Hendricus Verspay ,  Antonius Theodorus Anna Maria Derksen ,  Joeri Lof ,  Erik Roelof Loopstra ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Alexander Straaijer ,  Bob Streefkerk

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F9/7088

摘要： In a lithographic projection apparatus, there is provided a liquid supply system comprising a container at least partly defining a space between the projection system and the substrate, the container having a selectively openable and closeable aperture therein, and a closure configured to selectively close and open the aperture. In an embodiment, the shutter may comprise a channel in a surface of the shutter facing the aperture and/or the shutter may be displaced from the liquid supply system when connected to the liquid supply system. Further, in a lithographic apparatus, there is provided a liquid supply system configured to provide a liquid, through which the beam is to be projected, in a space between a projection system and a substrate and a controller configured to control application to the projection system of a force related to a weight transfer attributable to a member of the liquid supply system.

摘要翻译： 在光刻投影设备中，提供了一种液体供应系统，其包括至少部分地限定投影系统和基板之间的空间的容器，该容器在其中具有可选择的可开启和关闭的孔，以及关闭构造成选择性地关闭和打开 光圈。 在一个实施例中，快门可以包括位于快门面向孔的表面中的通道和/或当连接到液体供应系统时活门可以从液体供应系统移位。 此外，在光刻设备中，提供了一种液体供应系统，其配置为在投影系统和基板之间的空间中提供待投射的光束的液体，以及被配置为控制对投影系统的应用的控制器 与由液体供给系统的构件产生的重量传递有关的力。

公开(公告)号：US07105955B2

公开(公告)日：2006-09-12

申请号：US10825224

申请日：2004-04-16

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Henricus Wilhelmus Aloysius Janssen ,  Erik Roelof Loopstra

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Henricus Wilhelmus Aloysius Janssen ,  Erik Roelof Loopstra

IPC分类号： H02K41/02 ,  H02K3/04 ,  G03B27/52

CPC分类号： H02K41/03 ,  G03F7/70758 ,  H02K3/04

摘要： A coil assembly has at least two coils which are arranged in a common plane, and partially overlap in crossover sections of the coils. The crossover sections have a reduced height, which results in a reduced total height of the coil assembly. This leads to a more compact coil assembly, and hence to better dynamic characteristics of a positioning device in which the coil assembly is applied.

摘要翻译： 线圈组件具有布置在公共平面中的至少两个线圈，并且在线圈的交叉部分中部分重叠。 交叉部分具有降低的高度，这导致线圈组件的总高度减小。 这导致更紧凑的线圈组件，并且因此导致施加线圈组件的定位装置的更好的动态特性。

公开(公告)号：US06967756B2

公开(公告)日：2005-11-22

申请号：US10834834

申请日：2004-04-30

申请人： Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken

发明人： Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken

IPC分类号： G02B5/10 ,  G02B7/185 ,  G02B26/08 ,  G03F7/20 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027 ,  G02B7/182 ,  G02B26/00

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G02B7/185 ,  G02B26/0825 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70266

摘要： A lithographic projection apparatus includes an active reflector in a radiation system providing a projection beam of radiation and/or in a projection system. The active reflector includes a body member, a reflective multilayer and at least one actuator controllable to adjust the surface figure of the reflecting multilayer, wherein the actuator exerts a substantial force component in a direction parallel to the surface figure of said reflective multilayer. The actuator may be operative to apply torques to said reflector.

摘要翻译： 光刻投影设备包括在辐射系统中的有源反射器，该辐射系统提供辐射的投影光束和/或投影系统。 主动反射器包括主体构件，反射多层和至少一个可控制的致动器，用于调节反射多层的表面图形，其中致动器沿平行于所述反射多层的表面图形的方向施加显着的力分量。 致动器可操作以将扭矩施加到所述反射器。

公开(公告)号：US06927403B2

公开(公告)日：2005-08-09

申请号：US10216547

申请日：2002-08-09

申请人： Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Johannes Wangler ,  Wilhelm Egle ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Erik Roelof Loopstra

发明人： Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Johannes Wangler ,  Wilhelm Egle ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Erik Roelof Loopstra

IPC分类号： G02B5/08 ,  G02B5/10 ,  G02B17/00 ,  G02B27/18 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G01N21/64

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70275

摘要： There is provided an illumination system for wavelengths of ≦193 nm. The illumination system includes an object plane, a plane conjugated to the object plane, a first collector between the object plane and the conjugated plane, and a second collector after the conjugated plane. The first collector focuses a beam bundle of rays from the object plane in the conjugated plane. At least one of the first and second collectors includes a mirror shell. The rays strike the mirror shell at an angle of incidence of less than 20° relative to a surface tangent of the mirror shell.

摘要翻译： 提供了波长<= 193nm的照明系统。 照明系统包括物平面，与物平面共轭的平面，物平面和共轭平面之间的第一集电体，以及共轭平面之后的第二集电体。 第一个收集器将来自物平面的光束束聚焦在共轭平面中。 第一和第二收集器中的至少一个包括镜壳。 射线以相对于镜壳的表面切线小于20°的入射角撞击镜壳。

公开(公告)号：US06750949B2

公开(公告)日：2004-06-15

申请号：US10193688

申请日：2002-07-12

申请人： Erik Roelof Loopstra ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Josephus Jacobus Smits ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Albrecht Hof ,  Günter Maul ,  Michael Mühlbeyer ,  Klaus Mehlkopp

发明人： Erik Roelof Loopstra ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Josephus Jacobus Smits ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Albrecht Hof ,  Günter Maul ,  Michael Mühlbeyer ,  Klaus Mehlkopp

IPC分类号： G03B2742

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G02B7/008 ,  G02B7/02 ,  G03F7/70833

摘要： A lithographic projection apparatus according to one embodiment of the invention includes a projection system having a plurality of optical elements or sensors mounted on a frame. The frame includes support portions made of a material (e.g. a glass ceramic) having a coefficient of thermal expansion of less than or approximately equal to 0.1×10−6 K−1.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的光刻投影设备包括具有安装在框架上的多个光学元件或传感器的投影系统。 框架包括由热膨胀系数小于或大约等于0.1×10 -6 K -1的材料（例如玻璃陶瓷）制成的支撑部分。