公开(公告)号：US08705007B2

公开(公告)日：2014-04-22

申请号：US12690221

申请日：2010-01-20

申请人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Henricus Petrus Maria Pellemans

发明人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Henricus Petrus Maria Pellemans

IPC分类号： G01B11/00 ,  G01N21/86 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/74

CPC分类号： G01N21/956 ,  G01J3/18 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/4412 ,  G01N21/4788 ,  G01N21/9501 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7092

摘要： For angular resolved spectrometry a radiation beam is used having an illumination profile having four quadrants is used. The first and third quadrants are illuminated whereas the second and fourth quadrants aren't illuminated. The resulting pupil plane is thus also divided into four quadrants with only the zeroth order diffraction pattern appearing in the first and third quadrants and only the first order diffraction pattern appearing in the second and third quadrants.

摘要翻译： 对于角度分辨光谱法，使用具有具有四个象限的照明轮廓的辐射束。 第一和第三象限被照亮，而第二和第四象限不被照亮。 因此，所得到的光瞳面也被分成四个象限，仅在第一和第三象限中出现零级衍射图案，并且仅在第二和第三象限中出现一级衍射图案。

公开(公告)号：US20120044472A1

公开(公告)日：2012-02-23

申请号：US13264256

申请日：2010-05-04

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Paul Christiaan Hinnen

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Paul Christiaan Hinnen

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70641

摘要： A method is used to determine focus of a lithographic apparatus used in a lithographic process on a substrate. The lithographic process is used to form at least two periodic structures on the substrate. Each structure has at least one feature that has an asymmetry between opposing side wall angles that varies as a different function of the focus of the lithographic apparatus on the substrate. A spectrum produced by directing a beam of radiation onto the at least two periodic structures is measured and ratios of the asymmetries are determined. The ratios and a relationship between the focus and the side wall asymmetry for each structure is used to determine the focus of the lithographic apparatus on the substrate.

摘要翻译： 使用一种方法来确定在光刻工艺中使用的光刻设备在基板上的焦点。 光刻工艺用于在衬底上形成至少两个周期性结构。 每个结构具有至少一个特征，其具有相对的侧壁角度之间的不对称性，所述相对侧壁角度随着光刻设备在基底上的焦点的不同功能而变化。 测量通过将辐射束引导到至少两个周期性结构上产生的光谱，并且确定不对称性的比率。 使用每个结构的焦点和侧壁不对称之间的比率和关系来确定光刻设备在基底上的焦点。

公开(公告)号：US20110249244A1

公开(公告)日：2011-10-13

申请号：US13062861

申请日：2009-10-02

申请人： Christian Marinus Leewis ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Marcus Adrianus Van de Kerkhof ,  Johannes Anna Quaedackers ,  Christine Corinne Mattheus

发明人： Christian Marinus Leewis ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Marcus Adrianus Van de Kerkhof ,  Johannes Anna Quaedackers ,  Christine Corinne Mattheus

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F7/70641 ,  G03F1/38 ,  G03F7/706 ,  G03F7/70608 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70675 ,  G03F7/70683

摘要： In order to determine whether an exposure apparatus is outputting the correct dose of radiation and its projection system is focusing the radiation correctly, a test pattern is used on a mask for printing a specific marker onto a substrate. This marker is then measured by an inspection apparatus, such as a scatterometer, to determine whether there are errors in focus and dose and other related properties. The test pattern is configured such that changes in focus and dose may be easily determined by measuring the properties of a pattern that is exposed using the mask. The test pattern may be a 2D pattern where physical or geometric properties, e.g., pitch, are different in each of the two dimensions. The test pattern may also be a one-dimensional pattern made up of an array of structures in one dimension, the structures being made up of at least one substructure, the substructures reacting differently to focus and dose and giving rise to an exposed pattern from which focus and dose may be determined.

摘要翻译： 为了确定曝光装置是否正在输出正确剂量的辐射，并且其投影系统正确地对准辐射，在掩模上使用测试图案将特定标记物印刷到基底上。 然后通过诸如散射仪的检查装置测量该标记，以确定焦点和剂量以及其它相关性质是否存在错误。 测试图案被配置为使得可以通过测量使用掩模曝光的图案的特性容易地确定聚焦和剂量的变化。 测试图案可以是二维图案，其中物理或几何特性，例如间距，在两个维度的每一个中是不同的。 测试图案也可以是由一维结构阵列组成的一维图案，该结构由至少一个子结构构成，该子结构与焦点和剂量不同地反应并产生暴露图案， 可以确定焦点和剂量。

公开(公告)号：US07916927B2

公开(公告)日：2011-03-29

申请号：US11653441

申请日：2007-01-16

申请人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Durk Oeds Van Der Ploeg ,  Goce Naumoski ,  Roland Mark Van Weel

发明人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Durk Oeds Van Der Ploeg ,  Goce Naumoski ,  Roland Mark Van Weel

IPC分类号： G06K9/00 ,  G06K9/62

CPC分类号： G03F7/70625

摘要： Building of a model profile for a target is disclosed. An embodiment of the method includes importing an image of a known object and superimposing, on this image, either by hand or automatically, an estimated profile. The estimated profile is defined mathematically and adjusted segment by segment in order to match the image such that the adjusted estimated profile may be stored alongside a diffraction spectrum associated with the image. Alternatively or additionally, a user may trace (or free-draw) the profile of a known image and subsequently map a shape-definer of a mathematical function such as a polynomial equation, a spline or a vector onto the estimated profile in order to obtain a profile and one or more variables of that profile that may be used to reconstruct the profile of an unknown object from its diffraction pattern.

摘要翻译： 披露了目标的模型配置文件的构建。 该方法的一个实施例包括导入已知对象的图像并且在该图像上手动或自动地叠加估计的轮廓。 估计轮廓被数学地定义并且逐段地调整，以便匹配图像，使得调整的估计轮廓可以与与图像相关联的衍射谱一起存储。 或者或另外，用户可以跟踪（或自由绘制）已知图像的轮廓，并且随后将诸如多项式方程，样条或矢量的数学函数的形状定义器映射到估计轮廓上，以获得 该轮廓的轮廓和一个或多个变量可用于从其衍射图案重建未知物体的轮廓。

公开(公告)号：US07916284B2

公开(公告)日：2011-03-29

申请号：US11488170

申请日：2006-07-18

申请人： Mircea Dusa ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer

发明人： Mircea Dusa ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer

IPC分类号： G01B9/00 ,  G01B11/30 ,  G01B11/14 ,  G01B11/04 ,  G03F9/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70683 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641

摘要： In a scatterometric method differential targets with different sensitivities to parameters of interest are printed in a calibration matrix and difference spectra obtained. principal component analysis is applied to the difference spectra to obtain a calibration function that is less sensitive to variations in the underlying structure than a calibration function obtained from spectra obtained from a single target.

摘要翻译： 在散射方法中，将具有不同感光度的感光度的差分目标印刷在校准矩阵中并获得差分光谱。 将主成分分析应用于差分光谱，以获得对从单个目标获得的光谱获得的校准函数对底层结构的变化较不敏感的校准函数。

公开(公告)号：US20100201963A1

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：US12690221

申请日：2010-01-20

申请人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Henricus Petrus Maria Pellemans

发明人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Henricus Petrus Maria Pellemans

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/32

CPC分类号： G01N21/956 ,  G01J3/18 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/4412 ,  G01N21/4788 ,  G01N21/9501 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7092

摘要： For angular resolved spectrometry a radiation beam is used having an illumination profile having four quadrants is used. The first and third quadrants are illuminated whereas the second and fourth quadrants aren't illuminated. The resulting pupil plane is thus also divided into four quadrants with only the zeroth order diffraction pattern appearing in the first and third quadrants and only the first order diffraction pattern appearing in the second and third quadrants.

摘要翻译： 对于角度分辨光谱法，使用具有具有四个象限的照明轮廓的辐射束。 第一和第三象限被照亮，而第二和第四象限不被照亮。 因此，所得到的光瞳面也被分成四个象限，仅在第一和第三象限中出现零级衍射图案，并且仅在第二和第三象限中出现一级衍射图案。

公开(公告)号：US20080088832A1

公开(公告)日：2008-04-17

申请号：US11580265

申请日：2006-10-13

申请人： Hugo Angustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers

发明人： Hugo Angustinus Joseph Cramer ,  Antoine Gaston Marie Kiers

IPC分类号： G01N21/00 ,  G01B11/00

CPC分类号： G01N21/47 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633

摘要： In a scatterometric method, different targets with different sensitivities to a parameter of interest are printed in a calibration matrix and different spectra obtained. Principal component analysis is applied to the different spectra to obtain a calibration function that is less sensitive to variation in the underlying structure than a calibration function obtained from spectra obtained from a single target.

摘要翻译： 在散射测量方法中，将不同的感兴趣参数的目标印刷在校准矩阵中，并获得不同的光谱。 将主成分分析应用于不同的光谱，以获得对从单个目标获得的光谱获得的校准函数对底层结构的变化较不敏感的校准函数。

公开(公告)号：US07112813B2

公开(公告)日：2006-09-26

申请号：US10665720

申请日：2003-09-22

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Frank Bornebroek ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Mircea Dusa ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Justin Lloyd Kreuzer ,  Maurits Van Der Schaar ,  Paul Jacques Van Wijnen ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Pieter Willem Herman De Jager ,  Hans Van Der Laan ,  Paul Frank Luehrmann

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Frank Bornebroek ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Mircea Dusa ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Justin Lloyd Kreuzer ,  Maurits Van Der Schaar ,  Paul Jacques Van Wijnen ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Pieter Willem Herman De Jager ,  Hans Van Der Laan ,  Paul Frank Luehrmann

IPC分类号： G01N21/86

CPC分类号： G03F9/7084 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7092

摘要： A method of device inspection, the method comprising providing an asymmetric marker on a device to be inspected, the form of asymmetry of the marker being dependent upon the parameter to be inspected, directing light at the marker, obtaining a first measurement of the position of the marker via detection of diffracted light of a particular wavelength or diffraction angle, obtaining a second measurement of the position of the marker via detection of diffracted light of a different wavelength or diffraction angle, and comparing the first and second measured positions to determine a shift indicative of the degree of asymmetry of the marker.

摘要翻译： 一种设备检查方法，所述方法包括在要检查的设备上提供不对称标记，标记的不对称形式取决于待检查的参数，将光引导到标记处，获得第一测量位置 通过检测特定波长或衍射角的衍射光，通过检测不同波长或衍射角的衍射光来获得标记的位置的第二测量，并且比较第一和第二测量位置以确定偏移 指示标记物的不对称程度。

公开(公告)号：US20050079823A1

公开(公告)日：2005-04-14

申请号：US10683627

申请日：2003-10-10

申请人： Wojciech Kurek ,  Joseph Cramer ,  Bin Hu

发明人： Wojciech Kurek ,  Joseph Cramer ,  Bin Hu

IPC分类号： H04L20060101 ,  H04L12/28 ,  H04L12/56 ,  H04W36/00 ,  H04W48/16 ,  H04Q7/20

CPC分类号： H04W36/0055 ,  H04W36/18 ,  H04W48/16

摘要： A communication circuit (10) and method updates an active link set list (50) in an asynchronous wireless communication system. In one embodiment, the communication circuit (10) may be a wireless device (600) or any other suitable communication device. The communication circuit (10) includes candidate reference link determination circuitry (30) to receive an active link set update message (60) and in response, to create the candidate list of reference links (20) from the active link set list (50). The candidate reference link determination circuitry (30) creates the candidate list of reference links based on, for example, an indication in the received active link set update message (60) to retain links from the active link set list (50).

摘要翻译： 通信电路（10）和方法更新异步无线通信系统中的主动链路集列表（50）。 在一个实施例中，通信电路（10）可以是无线设备（600）或任何其它合适的通信设备。 通信电路（10）包括用于接收活动链路组更新消息（60）的候选参考链路确定电路（30），并且响应于从主动链路集列表（50）创建参考链路（20）的候选列表， 。 候选参考链路确定电路（30）基于例如接收到的活动链路集更新消息（60）中的指示来保留来自活动链路集列表（50）的链路来创建参考链路的候选列表。

公开(公告)号：US06809797B2

公开(公告)日：2004-10-26

申请号：US10109038

申请日：2002-03-29

申请人： Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Adrianus Franciscus Petrus Engelen ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Jozef Maria Finders ,  Carsten Kohler

发明人： Johannes Jacobus Matheus Baselmans ,  Adrianus Franciscus Petrus Engelen ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Jozef Maria Finders ,  Carsten Kohler

IPC分类号： G02B2768

CPC分类号： G03F7/705 ,  G03F7/706

摘要： A device manufacturing method is disclosed in which the aberration of the projection system of a lithographic projection apparatus is obtained in terms of the Zernike expansion. The field distribution of displacement error and focal plane distortion of the projected image are calculated on the basis of the Zernike aberration and sensitivity coefficients which quantify the relationship between Zernike aberration components and the error in the image. A calculation is then performed to determine the compensation to apply to the apparatus in order to minimize the error in the image. The compensation is then applied to the apparatus. The compensation may comprise increasing one component of aberration of the apparatus in order to decrease the effect of another aberration, such that, on balance, the image quality as a whole is improved.

摘要翻译： 公开了一种装置制造方法，其中光泽投影装置的投影系统的像差取得Zernike扩展。 基于Zernike像差和灵敏度系数计算投影图像的位移误差和焦平面失真的场分布，Zernike像差和灵敏度系数量化了Zernike像差分量与图像中的误差之间的关系。 然后执行计算以确定应用于装置的补偿，以使图像中的误差最小化。 然后将补偿应用于该装置。 补偿可以包括增加装置的像差的一个分量，以便减小另一个像差的影响，从而平衡地改善了整体上的图像质量。