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    METHOD OF FABRICATING PATTERNED FUNCTIONAL SUBSTRATES
    26.
    发明申请
    METHOD OF FABRICATING PATTERNED FUNCTIONAL SUBSTRATES 有权
    制作图案功能基板的方法

    公开(公告)号：US20130323652A1

    公开(公告)日：2013-12-05

    申请号：US13489099

    申请日：2012-06-05

    申请人： Andres Fernandez ,  Shaunak Roy ,  Jay Shafto ,  Norman L. Burns ,  Claudia Richter ,  Pierre F. Indermuhle

    发明人： Andres Fernandez ,  Shaunak Roy ,  Jay Shafto ,  Norman L. Burns ,  Claudia Richter ,  Pierre F. Indermuhle

    IPC分类号： G03F7/20 ,  B05D1/00

    CPC分类号： G03F7/20 ,  B05D1/60 ,  G03F7/405

    摘要： Methods of preparing organosilane-functionalized regions on a substrate surface and more specifically fabricating patterned functionalized substrates suitable to be optically read, the methods generally comprising employing a vapor deposition process of an organosilane gas onto a lithographically patterned silicon surface followed by removal of the patterning media in a bath of organic solvents and ultrasonic excitation. The inventive methods provide optimized surface density of functional species while avoiding deleterious effects that can occur when lithographically patterned substrates are exposed to various gaseous species during the functionalization process.

    摘要翻译： 在衬底表面上制备有机硅烷官能化区域的方法，更具体地制备适于光学读取的图案化官能化衬底的方法，所述方法通常包括将有机硅烷气体的气相沉积工艺应用于光刻图案化的硅表面，随后除去图案形成介质 在有机溶剂和超声波激发浴中。 本发明的方法提供功能物质的优化的表面密度，同时避免当在功能化过程中将光刻图案化的基底暴露于各种气态物质时可能发生的有害影响。

    Method of fabricating patterned functional substrates
    27.
    发明授权
    Method of fabricating patterned functional substrates 有权
    制作图案化功能基板的方法

    公开(公告)号：US08765359B2

    公开(公告)日：2014-07-01

    申请号：US13489099

    申请日：2012-06-05

    申请人： Andres Fernandez ,  Shaunak Roy ,  Jay Shafto ,  Norman L. Burns ,  Claudia Richter ,  Pierre F. Indermuhle

    发明人： Andres Fernandez ,  Shaunak Roy ,  Jay Shafto ,  Norman L. Burns ,  Claudia Richter ,  Pierre F. Indermuhle

    IPC分类号： G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/20 ,  B05D1/60 ,  G03F7/405

    摘要： Methods of preparing organosilane-functionalized regions on a substrate surface and more specifically fabricating patterned functionalized substrates suitable to be optically read, the methods generally comprising employing a vapor deposition process of an organosilane gas onto a lithographically patterned silicon surface followed by removal of the patterning media in a bath of organic solvents and ultrasonic excitation. The inventive methods provide optimized surface density of functional species while avoiding deleterious effects that can occur when lithographically patterned substrates are exposed to various gaseous species during the functionalization process.

    摘要翻译： 在衬底表面上制备有机硅烷官能化区域的方法，更具体地制备适于光学读取的图案化官能化衬底的方法，所述方法通常包括将有机硅烷气体的气相沉积工艺应用于光刻图案化的硅表面，随后除去图案形成介质 在有机溶剂和超声波激发浴中。 本发明的方法提供功能物质的优化的表面密度，同时避免当在功能化过程中将光刻图案化的基底暴露于各种气态物质时可能发生的有害影响。

    System and method of measuring molecular interactions
    28.
    发明申请
    System and method of measuring molecular interactions 审中-公开
    测量分子相互作用的系统和方法

    公开(公告)号：US20060127278A1

    公开(公告)日：2006-06-15

    申请号：US10508294

    申请日：2003-04-25

    申请人： Alice Gast ,  James Kellis ,  Joon-H Kim ,  Ayrookaran Poulose ,  Shaunak Roy

    发明人： Alice Gast ,  James Kellis ,  Joon-H Kim ,  Ayrookaran Poulose ,  Shaunak Roy

    IPC分类号： G01N21/64

    CPC分类号： G01N21/553 ,  B82Y15/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  G01N21/648 ,  G01N2021/212

    摘要： The present disclosure relates to a device for measuring surface plasmon resonance and fluorescence of a sample, a system for determining the rate of catalytic activity of an enzyme, a method of determining the rate of catalytic activity of an enzyme, and a method of measuring the adsorption and reactivity of a substance, all of which use SPR and SPEF methods simultaneously. This invention also relates generally to systems and methods for measuring diffusion and reactivity of macromolecules on a surface.

    摘要翻译： 本公开涉及一种用于测量样品的表面等离子体共振和荧光的装置，用于确定酶的催化活性速率的系统，确定酶的催化活性速率的方法以及测量方法 物质的吸附和反应性，所有这些都同时使用SPR和SPEF方法。 本发明还涉及用于测量表面上大分子的扩散和反应性的系统和方法。