公开(公告)号：US5665527A

公开(公告)日：1997-09-09

申请号：US794135

申请日：1997-02-03

申请人： Robert David Allen ,  Gregory Michael Wallraff

发明人： Robert David Allen ,  Gregory Michael Wallraff

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027 ,  G03F7/36

CPC分类号： G03F7/30 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046

摘要： The invention relates to a process for generating a negative tone resist image comprising the steps of (1) coating a substrate with a film of a polymeric composition comprising (i) a polymer, (ii) a photosensitive acid generator, and (iii) acid labile groups; (2) imagewise exposing the film to radiation to generate free acid; and (3) developing the image with critical fluid.

摘要翻译： 本发明涉及一种产生负色调抗蚀剂图像的方法，包括以下步骤：（1）用聚合物组合物的膜涂覆基材，所述聚合物组合物包含（i）聚合物，（ii）光敏酸产生剂，和（iii）酸 不稳定团体 （2）将膜成像曝光以产生游离酸; 和（3）用临界流体开发图像。

公开(公告)号：US09851639B2

公开(公告)日：2017-12-26

申请号：US13436881

申请日：2012-03-31

申请人： Robert David Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Masaki Fujiwara ,  Kazuhiko Maeda ,  Hoa D. Truong

发明人： Robert David Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Masaki Fujiwara ,  Kazuhiko Maeda ,  Hoa D. Truong

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F228/02 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： A photoacid generating polymer (PAG polymer) comprises i) a first repeat unit of capable of reacting with a photogenerated acid to form a carboxylic acid containing repeat unit, ii) a second repeat unit of capable of forming the photogenerated acid, and iii) a third repeat unit comprising a norbornyl ester, wherein a norbornyl ring of the norbornyl ester comprises a monovalent substituent having the formula *-L′-C(CF3)2(OH). L′ is a divalent linking group comprising at least one carbon and the starred bond of L′ is linked to the norbornyl ring. The first repeat unit, second repeat unit, and the third repeat unit are covalently bound repeat units of the PAG polymer.

公开(公告)号：US20110256713A1

公开(公告)日：2011-10-20

申请号：US13170221

申请日：2011-06-28

申请人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Geraud Jean-Michel Dubois ,  Mark Whitney Hart ,  Robert Dennis Miller ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Geraud Jean-Michel Dubois ,  Mark Whitney Hart ,  Robert Dennis Miller ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： H01L21/288 ,  H01L21/283

CPC分类号： B05D3/067 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/31695 ,  H01L21/76807 ,  H01L21/76817 ,  H01L21/7682 ,  H01L2221/1047 ,  H05K3/1258

摘要： A method of forming low dielectric contrast structures by imprinting a silsesquioxane based polymerizable composition. The imprinting composition including: one or more polyhedral silsesquioxane oligomers each having one or more polymerizable groups, wherein each of the one or more polymerizable group is bound to a different silicon atom of the one or more polyhedral silsesquioxane oligomers; andone or more polymerizable diluents, the diluents constituting at least 50% by weight of the composition.

摘要翻译： 通过压印基于倍半硅氧烷的可聚合组合物形成低介电对比度结构的方法。 所述印记组合物包括：一个或多个多面体倍半硅氧烷低聚物，其各自具有一个或多个可聚合基团，其中所述一个或多个可聚合基团中的每一个与所述一个或多个多面体倍半硅氧烷低聚物的不同硅原子结合; 和一种或多种可聚合稀释剂，所述稀释剂占组合物的至少50重量％。

公开(公告)号：US20110120941A1

公开(公告)日：2011-05-26

申请号：US12624633

申请日：2009-11-24

申请人： Robert David Allen ,  James Lupton Hedrick ,  Young-Hye Na ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert David Allen ,  James Lupton Hedrick ,  Young-Hye Na ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： B01D71/06 ,  B01D67/00 ,  B01D71/40 ,  B01D71/72 ,  B01D71/58

CPC分类号： B01D71/52 ,  B01D65/08 ,  B01D67/0006 ,  B01D69/02 ,  B01D69/12 ,  B01D2321/168 ,  B01D2323/30 ,  B01D2323/345 ,  B01D2325/16 ,  B01D2325/48

摘要： A composite membrane includes a filtration membrane with a surface; and a layer on the surface of the filtration membrane. The layer includes a polymer including a poly(ethylene glycol) moiety cross-linked with an ammonium salt or a precursor of an ammonium salt

摘要翻译： 复合膜包括具有表面的过滤膜; 和过滤膜表面上的一层。 该层包括包含与铵盐或铵盐前体交联的聚（乙二醇）部分的聚合物

公开(公告)号：US20100216899A1

公开(公告)日：2010-08-26

申请号：US12390127

申请日：2009-02-20

申请人： Robert David Allen ,  Na Young-Hye ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Masaki Fujiwara ,  Kazuhiro Yamanaka

发明人： Robert David Allen ,  Na Young-Hye ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Masaki Fujiwara ,  Kazuhiro Yamanaka

IPC分类号： C08J5/22

CPC分类号： C08G69/28 ,  B01D61/025 ,  B01D61/027 ,  B01D67/0006 ,  B01D69/02 ,  B01D69/125 ,  B01D71/56 ,  B01D2323/40 ,  B01D2325/30 ,  C08G69/26 ,  C08G69/42 ,  Y02A20/131

摘要： A polymeric membrane includes an active layer on a support. The active layer includes a polymer with a backbone, and the backbone has attached thereto at least one fluoroalcohol moiety.

摘要翻译： 聚合物膜包括载体上的活性层。 活性层包括具有主链的聚合物，并且主链已连接至少一个氟代醇部分。

公开(公告)号：US07476492B2

公开(公告)日：2009-01-13

申请号：US11441965

申请日：2006-05-26

申请人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D. Truong

发明人： Robert David Allen ,  Richard Anthony DiPietro ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D. Truong

IPC分类号： G03F7/30 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/60 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： The present invention relates to a radiation sensitive photoresist composition. The composition comprises a polymer comprising at least two monomers. The first monomer has an acid cleavable tertiary ester group. The second monomer is an acidic monomer. The acid cleavable ester group of the polymer has a surprisingly low activation energy which results in improved resist images in lithographic processes.

摘要翻译： 本发明涉及一种辐射敏感光刻胶组合物。 组合物包含包含至少两种单体的聚合物。 第一单体具有酸可裂解的叔酯基。 第二单体是酸性单体。 聚合物的酸可裂解酯基具有惊人的低活化能，这导致光刻工艺中抗蚀剂图像的改善。

公开(公告)号：US20090011377A1

公开(公告)日：2009-01-08

申请号：US12128129

申请日：2008-05-28

申请人： Robert David Allen ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Linda Karin Sundberg

发明人： Robert David Allen ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Linda Karin Sundberg

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： C08G77/04 ,  C08G77/045 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： A method of forming an image using a topcoat composition. A composition that includes functionalized polyhedral oligomeric silsesquioxanes derivatives of the formulas TmR3 where m is equal to 8, 10 or 12 and QnMnR1,R2,R3 where n is equal to 8, 10 or 12 are provided. The functional groups include aqueous base soluble moieties. Mixtures of the functionalized polyhedral oligomeric silsesquioxanes derivatives are highly suitable as a topcoat for photoresist in photolithography and immersion photolithography applications.

摘要翻译： 使用面漆组合物形成图像的方法。 提供了式TmR3的官能化多面体低聚倍半硅氧烷衍生物，其中m等于8,10或12，QnMnR1，R2，R3其中n等于8,10或12的组合物。 官能团包括碱水溶性部分。 官能化多面体低聚倍半硅氧烷衍生物的混合物非常适合用作光刻和浸没光刻应用中的光致抗蚀剂的顶涂层。

公开(公告)号：US07399581B2

公开(公告)日：2008-07-15

申请号：US11064871

申请日：2005-02-24

申请人： Robert David Allen ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Linda Karin Sundberg

发明人： Robert David Allen ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Linda Karin Sundberg

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11

CPC分类号： C08G77/04 ,  C08G77/045 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： A composition that includes functionalized polyhedral oligomeric silsesquioxanes derivatives of the formulas TmR3 where m is equal to 8, 10 or 12 and QnMnR1,R2,R3 where n is equal to 8, 10 or 12 are provided. The functional groups include aqueous base soluble moieties. Mixtures of the functionalized polyhedral oligomeric silsesquioxanes derivatives are highly suitable as a topcoat for photoresist in photolithography and immersion photolithography applications.

摘要翻译： 一种组合物，其包含式T m 3的功能化多面体低聚倍半硅氧烷衍生物，其中m等于8,10或12和Q n M R1，R2，R3其中n等于8,10或12。 官能团包括碱水溶性部分。 官能化多面体低聚倍半硅氧烷衍生物的混合物非常适合用作光刻和浸没光刻应用中的光致抗蚀剂的顶涂层。

公开(公告)号：US20080153034A1

公开(公告)日：2008-06-26

申请号：US12019676

申请日：2008-01-25

申请人： Robert David Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Richard Anthony DiPietro ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D. Truong

发明人： Robert David Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Richard Anthony DiPietro ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D. Truong

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07J9/005 ,  C07J17/00 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

摘要： A dissolution modification agent suitable for use in a photoresist composition including a polymer, a photoacid generator and casting solvent. The dissolution modification agent is insoluble in aqueous alkaline developer and inhibits dissolution of the polymer in the developer until acid is generated by the photoacid generator being exposed to actinic radiation, whereupon the dissolution modifying agent, at a suitable temperature, becomes soluble in the developer and allows the polymer to dissolve in the developer. The DMAs are glucosides, cholates, citrates and adamantanedicarboxylates protected with acid-labile ethoxyethyl, tetrahydrofuranyl, and angelicalactonyl groups.

摘要翻译： 适用于包含聚合物，光致酸产生剂和浇铸溶剂的光致抗蚀剂组合物的溶解改性剂。 溶解改性剂不溶于含水碱性显影剂中，并且抑制聚合物在显影剂中的溶解，直至酸被光致酸性发生剂暴露于光化辐射为止，因此溶解改性剂在合适的温度下变得可溶于显影剂， 允许聚合物溶解在显影剂中。 DMA是用酸不稳定的乙氧基乙基，四氢呋喃基和天竺葵酰基保护的葡糖苷，胆酸盐，柠檬酸盐和金刚烷二羧酸盐。

公开(公告)号：US06806026B2

公开(公告)日：2004-10-19

申请号：US10159635

申请日：2002-05-31

申请人： Robert David Allen ,  Gregory Breyta ,  Phillip Brock ,  Richard A. DiPietro ,  Debra Fenzel-Alexander ,  Carl Larson ,  David R. Medeiros ,  Dirk Pfeiffer ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D. Truong ,  Gregory M. Wallraff

发明人： Robert David Allen ,  Gregory Breyta ,  Phillip Brock ,  Richard A. DiPietro ,  Debra Fenzel-Alexander ,  Carl Larson ,  David R. Medeiros ,  Dirk Pfeiffer ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D. Truong ,  Gregory M. Wallraff

IPC分类号： G03F7039

CPC分类号： C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/108

摘要： A photoresist composition is provided that includes a polymer having at least one acrylate or methacrylate monomer having a formula: where R1 represents hydrogen (H), a linear or branched alkyl group of 1 to 20 carbons, or a semi- or perfluorinated linear or branched alkyl group of 1 to 20 carbons; and where R2 represents an unsubstituted aliphatic group or a substituted aliphatic group having zero or one trifluoromethyl (CF3) group attached to each carbon of the substituted aliphatic group, or a substituted or unsubstituted aromatic group; and where R3 represents hydrogen (H), methyl (CH3), trifluoromethyl (CF3), difluoromethyl (CHF2), fluoromethyl (CH2F), or a semi- or perfluorinated aliphatic chain; and where R4 represents trifluoromethyl (CF3), difluoromethyl (CHF2), fluoromethyl (CH2F), or a semi- or perfluorinated substituted or unsubstituted aliphatic group. A method of patterning a substrate using the photoresist composition is also provided herein.

摘要翻译： 提供了一种光致抗蚀剂组合物，其包括具有至少一种具有下式的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯单体的聚合物：其中R 1表示氢（H），1-20个碳的直链或支链烷基，或半或全氟 1〜20个碳原子的直链或支链烷基; 并且其中R 2表示未取代的脂族基团或具有连接在取代的脂族基团的每个碳上的零个或一个三氟甲基（CF 3）基团的取代的脂族基团，或取代或未取代的芳族基团; 并且其中R 3表示氢（H），甲基（CH 3），三氟甲基（CF 3），二氟甲基（CHF 2），氟甲基（CH 2 F）或半或全氟化脂族链; 并且其中R 4表示三氟甲基（CF 3），二氟甲基（CHF 2），氟甲基（CH 2 F）或半或全氟取代或未取代的脂族基团。 本文还提供了使用光致抗蚀剂组合物图案化衬底的方法。