公开(公告)号：US20050176572A1

公开(公告)日：2005-08-11

申请号：US10509029

申请日：2003-03-26

Applicant: Hideo Hosono ,  Kouichi Kajihara ,  Masahiro Hirano ,  Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikukawa

Inventor： Hideo Hosono ,  Kouichi Kajihara ,  Masahiro Hirano ,  Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikukawa

IPC: C03B20/00 ,  C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C23/00 ,  G02B1/02 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03C3/06 ,  C03C23/0025 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/50 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

Abstract: Disclosed is a synthetic silica glass for use with light having a wavelength of 150 to 200 nm, which has an OH group at a concentration of less than 1 ppm, an oxygen-excess type defect at a concentration of 1×1016 defects/cm3 or less, a hydrogen molecule at a concentration of less than 1×1017 molecules/cm3, and a non-bridging oxygen radical at a concentration of 1×1016 radicals/cm3 or less in the state after the synthetic silica glass is irradiated with light of a xenon excimer lamp having an energy density of 10 mW/cm2 and 3 kJ/cm2 or with light of an F2 laser by 107 pulses at an energy density of 10 mJ/cm2/pulse. The synthetic silica glass can exhibit excellent resistance to ultraviolet light with a wavelength of 150 to 190 nm when incorporated in a device using ultraviolet light with a wavelength of 150 to 190 nm as a light source.

Abstract translation: 公开了一种合成石英玻璃，其用于波长为150至200nm的光，其具有浓度小于1ppm的OH基，浓度为1×10 16的氧过量型缺陷， SUP>缺陷/ cm 3以下，浓度小于1×10 17分子/ cm 3的氢分子， 在合成石英玻璃用具有能量密度的氙准分子灯的光照射之后的状态下，以1×10 16个/ cm 3以下的浓度桥接氧自由基 10mW / cm 2和3kJ / cm 2的光，或者具有10 2激光的光的10 / >脉冲，能量密度为10mJ / cm 2 /脉冲。 合成石英玻璃当掺入使用波长为150〜190nm的紫外光的装置中作为光源时，可以表现出优异的抗紫外线，波长为150〜190nm。

公开(公告)号：US20050068644A1

公开(公告)日：2005-03-31

申请号：US10969954

申请日：2004-10-22

Applicant: Yoshiaki Ikuta ,  Noriyuki Agata

Inventor： Yoshiaki Ikuta ,  Noriyuki Agata

IPC: C03C3/06 ,  G02B1/02 ,  G03F7/20 ,  G02B5/04

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  G02B1/02

Abstract: A synthetic quartz glass for an optical member, which is to be used in an optical device employing an ArF excimer laser beam as a light source at an energy density of at most 2 mJ/cm2/pulse or in an optical device employing a KrF excimer laser beam as a light source at an energy density of at most 30 mJ/cm2/pulse, characterized in that the hydrogen molecule concentration is within a range of at least 1×1016 molecules/cm3 and less than 5×1016 molecules/cm3.

Abstract translation: 一种用于光学构件的合成石英玻璃，其用于使用ArF准分子激光束作为能量密度为至多2mJ / cm 2 /脉冲的光源的光学装置中，或者在采用 KrF准分子激光束作为能量密度为至多30mJ / cm 2 /脉冲的光源，其特征在于氢分子浓度在至少1×10 16分子/ cm 3的范围内 和小于5×10 16分子/ cm 3。

公开(公告)号：US06783898B2

公开(公告)日：2004-08-31

申请号：US09876194

申请日：2001-06-06

Applicant: George Edward Berkey ,  Lisa Anne Moore ,  Charles Chunzhe Yu

Inventor： George Edward Berkey ,  Lisa Anne Moore ,  Charles Chunzhe Yu

IPC: G03F900

CPC classification number: C03B23/07 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B19/1492 ,  C03B23/043 ,  C03B23/045 ,  C03B23/051 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/02 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/52 ,  C03B2207/54 ,  C03B2207/66 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/50 ,  G03F1/60

Abstract: The invention includes methods of making lithography photomask blanks. The invention also includes lithography photomask blanks and preforms for producing lithography photomask. The method of making a lithography photomask blank includes providing a soot deposition surface, producing SiO2 soot particles and projecting the SiO2 soot particles toward the soot deposition surface. The method includes successively depositing layers of the SiO2 soot particle on the deposition surface to form a coherent SiO2 porous glass preform body comprised of successive layers of the SiO2 soot particles and dehydrating the coherent SiO2 glass preform body to remove OH from the preform body. The SiO2 is exposed to and reacted with a fluorine containing compound and consolidated into a nonporous silicon oxyfluoride glass body with parallel layers of striae. The method further includes forming the consolidated silicon oxyfluoride glass body into a photomask blank having a planar surface with the orientation of the striae layer parallel to the photomask blank planar surface.

Abstract translation: 本发明包括制造光刻光掩模坯料的方法。 本发明还包括光刻光掩模坯料和用于生产光刻光掩模的预成型件。 制造光刻光掩模坯料的方法包括提供烟灰沉积表面，产生SiO 2烟灰颗粒并将SiO 2烟灰颗粒投射到烟灰沉积表面。 该方法包括在沉积表面上依次沉积SiO 2烟灰颗粒的层，以形成由SiO 2烟灰颗粒的连续层组成的粘结SiO 2多孔玻璃预制体，并使相干的SiO 2玻璃预制体脱水以从预成型体中去除OH。 将SiO 2暴露于含氟化合物并与其反应，并固化成具有平行的条纹层的无孔氟氧化硅玻璃体。 该方法还包括将固化的氟氧化硅玻璃体形成为具有平坦表面的光掩模坯料，其中条纹层的取向平行于光掩模坯料平面。

公开(公告)号：US20040161216A1

公开(公告)日：2004-08-19

申请号：US10773636

申请日：2004-02-06

Inventor： George E. Berkey ,  Dana C. Bookbinder ,  Richard M. Fiacco ,  Dale R. Powers

IPC: G02B006/16

CPC classification number: C03C25/607 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/0146 ,  C03B37/01486 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/31 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C13/047 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/22 ,  C03C2203/54 ,  G02B6/02

Abstract: Optical waveguide fiber having low water peak as well as optical waveguide fiber preforms and methods of making optical waveguide fiber preforms from which low water peak and/or low hydrogen aged attenuation optical waveguide fibers are formed, including optical waveguide fiber and preforms made via OVD. The fibers may be hydrogen resistant, i.e. exhibit low hydrogen aged attenuation. A low water peak, hydrogen resistant optical waveguide fiber is disclosed which exhibits an optical attenuation at a wavelength of about 1383 nm which is less than or equal to an optical attenuation exhibited at a wavelength of about 1310 nm.

Abstract translation: 具有低水峰的光波导纤维以及光波导纤维预制件以及制造出低水峰值和/或低氢老化衰减光波导纤维的光波导纤维预制棒的方法，包括通过OVD制造的光波导纤维和预制棒。 纤维可以是耐氢性的，即表现出低氢老化衰减。 公开了一种低水峰，耐氢光波导纤维，其在约1383nm的波长处表现出光衰减，其小于或等于在约1310nm的波长处显示的光衰减。

公开(公告)号：US20040161215A1

公开(公告)日：2004-08-19

申请号：US10723028

申请日：2003-11-26

Inventor： Robert G. Wiley

IPC: G02B006/16

CPC classification number: G02B6/02114 ,  C03C25/002 ,  C03C25/607 ,  C03C25/6226 ,  C03C2201/21 ,  G02B6/02123

Abstract: A system and method in accordance with the present invention applies short bursts of a high temperature fluid to a hydrogen-loaded fiber to relocate the hydrogen within the fiber in the proximity of the fiber's corenullto achieve a fiber having significantly improved photosensitivity. A stronger fiber grating is realized when the fiber is subsequently exposed to ultraviolet light.

Abstract translation: 根据本发明的系统和方法将高温流体的短脉冲应用于负载氢的纤维，以将纤维内的氢重新定位在纤维芯的附近，以实现具有显着提高的光敏性的纤维。 当纤维随后暴露于紫外线时，实现更强的光纤光栅。

公开(公告)号：US20040148968A1

公开(公告)日：2004-08-05

申请号：US10748193

申请日：2003-12-31

Applicant: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

Inventor： Jun Abe ,  Nonuyasu Mantoku ,  Shinji Makikawa ,  Seiki Ejima

IPC: C03B037/075

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C23/007 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/44

Abstract: A method for manufacturing a synthesized silica glass optical member, the method comprising: providing a porous silica glass body; heating the porous silica glass body in an atmosphere containing hydrogen or oxygen, and sintering the porous silica glass body in an atmosphere containing fluorine compound. Furthermore, a synthesized silica glass optical member manufactured by the method.

Abstract translation: 一种合成石英玻璃光学部件的制造方法，其特征在于，具备：多孔石英玻璃体; 在含有氢或氧的气氛中加热多孔石英玻璃体，并在含氟化合物的气氛中烧结多孔石英玻璃体。 此外，通过该方法制造的合成石英玻璃光学构件。

公开(公告)号：US06682859B2

公开(公告)日：2004-01-27

申请号：US09997785

申请日：2001-11-28

Applicant: Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

Inventor： Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

IPC: G03F900

CPC classification number: G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/38 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958

Abstract: High purity silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed with the silicon oxyfluoride glass having a preferred fluorine content

Abstract translation: 公开了具有优选氟含量<0.5重量％的氟氧化硅玻璃，适合用作光刻应用中的低于190nm的VUV波长区域的光掩模基板的高纯度氟氧化硅玻璃。 本发明的氟氧化硅玻璃在157nm波长下是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模基材是“真空”的氟氧化硅玻璃，其在真空紫外（VUV）波长区域中表现出非常高的透射率，同时保持通常与高纯度熔融石英相关的优异的热和物理性能。 除了含氟并且具有很少或不具有OH含量之外，本发明的适合用作157nm的光掩模衬底的氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于1×10 17分子/ cm 3的分子氢和低 氯水平。

公开(公告)号：US06680455B2

公开(公告)日：2004-01-20

申请号：US09940077

申请日：2001-08-27

Applicant: Kyoichi Inaki ,  Naoki Hayashi ,  Tohru Segawa

Inventor： Kyoichi Inaki ,  Naoki Hayashi ,  Tohru Segawa

IPC: B23K1000

CPC classification number: H01J37/32477 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/42 ,  C03C2204/08 ,  H01J37/32559 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/68757 ,  Y10T428/24355

Abstract: It is an object of the present invention to provide a quartz glass jig excellent in the plasma etching resistant characteristics, which does not generate an abnormal etching and particles when used for a plasma generating apparatus. The above Object is obtained by a plasma resistant quartz glass jig that is used for an apparatus of generating plasma, wherein the surface roughness Ra of the quartz glass surface is in a range of from 5 &mgr;m to 0.05 &mgr;m, the number of microcracks of the surface is not more than 500 microcracks/cm2, and the hydrogen molecule concentration in the quartz glass is at least 5×1016 molecules/cm3.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种等离子体耐蚀刻性能优良的石英玻璃夹具，其在用于等离子体发生装置时不产生异常蚀刻和颗粒。上述目的是通过等离子体耐蚀石英玻璃 用于产生等离子体的装置的夹具，其中石英玻璃表面的表面粗糙度Ra在5μm至0.05μm的范围内，表面的微裂纹数不超过500μm/ cm 2 >，并且石英玻璃中的氢分子浓度为至少5×10 16分子/ cm 3。

公开(公告)号：US06649268B1

公开(公告)日：2003-11-18

申请号：US09520190

申请日：2000-03-07

Applicant: Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo ,  Norihisa Yamaguchi

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo ,  Norihisa Yamaguchi

IPC: C03B804

CPC classification number: C03B19/1415 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/22 ,  C03B2207/24 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/40

Abstract: An optical member made of silica glass manufactured by the direct method where a material gas comprising an organosilicon compound is allowed to react in an oxidizing flame, said optical member having a 2×1014 molecules/cm3 or less concentration of formyl radical generated by X-ray irradiation whose dose is 0.01 Mrad or more and 1 Mrad or less.

Abstract translation: 通过直接法制造的由石英玻璃制成的光学构件，其中包含有机硅化合物的材料气体在氧化火焰中反应，所述光学构件具有2×10 14分子/ cm 3或更低浓度的甲酰基 其剂量为0.01Mrad以上且1Mrad以下的X射线照射产生。

公开(公告)号：US20030064877A1

公开(公告)日：2003-04-03

申请号：US10255731

申请日：2002-09-25

Inventor： Jeffrey J. Domey ,  Michael R. Heslin ,  Julie L. Ladison ,  Michael W. Linder ,  John E. Maxon ,  Johannes Moll ,  Robert S. Pavlik JR. ,  Daniel R. Sempolinski

IPC: C03C003/06

CPC classification number: G03F7/70966 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  G03F7/70958

Abstract: Fused silica members having high internal transmission and low birefringence are disclosed. Methods of making such fused silica members are also disclosed. According to the present invention, fused silica members having an internal transmission equal to or greater than 99.65%/cm at 193 nm and having an absolute maximum birefringence along the use axis of less than or equal to 0.75 nm/cm are provided.

Abstract translation: 公开了具有高内部透射率和低双折射率的熔融二氧化硅构件。 还公开了制造这种熔融二氧化硅构件的方法。 根据本发明，提供了在193nm处具有等于或大于99.65％/ cm的内部透光率并且沿着使用轴具有小于或等于0.75nm / cm的绝对最大双折射的熔融二氧化硅构件。