公开(公告)号：US20060069171A1

公开(公告)日：2006-03-30

申请号：US11220768

申请日：2005-09-07

Applicant: Gregory Prokopowicz ,  Michael Gallagher

Inventor： Gregory Prokopowicz ,  Michael Gallagher

IPC: C08J9/26

CPC classification number: H01L21/31695 ,  C08G77/045 ,  C08G77/12 ,  C08G77/70 ,  C08J9/26 ,  C08J2201/046 ,  C08J2383/14 ,  C08L83/04 ,  C08L83/14 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3121 ,  H01L21/318 ,  H01L21/7682 ,  H01L2221/1047 ,  C08L2666/04

Abstract: Compositions useful in the preparation of porous organic polysilica films, particularly for use in the manufacture of integrated circuits, are provided. Methods of forming such compositions and films are also provided.

Abstract translation: 提供了用于制备多孔有机聚硅氧烷膜的组合物，特别是用于制造集成电路的组合物。 还提供了形成这种组合物和膜的方法。

公开(公告)号：US20050089642A1

公开(公告)日：2005-04-28

申请号：US10976292

申请日：2004-10-27

Applicant: Timothy Adams ,  Hongshi Zhen ,  Gregory Prokopowicz ,  Michael Gallagher

Inventor： Timothy Adams ,  Hongshi Zhen ,  Gregory Prokopowicz ,  Michael Gallagher

IPC: C07F7/08 ,  H01L21/312 ,  B05D5/12 ,  C07F7/04

CPC classification number: C08G77/50 ,  C07F7/0874 ,  C08G77/56 ,  C08G77/58 ,  C09D183/14 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122

Abstract: A method of preparing an organic polysilica partial condensate using basic and acidic catalysts is provided. Upon curing, such organic polysilica material has improved mechanical properties.

Abstract translation: 提供了使用碱性和酸性催化剂制备有机聚硅氧烷部分缩合物的方法。 固化后，这种有机聚硅氧烷材料具有改进的机械性能。

公开(公告)号：US20070072112A1

公开(公告)日：2007-03-29

申请号：US11417374

申请日：2006-05-04

Applicant: Gregory Prokopowicz ,  Michael Gallagher

Inventor： Gregory Prokopowicz ,  Michael Gallagher

IPC: G03C1/00

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08K3/36 ,  C09D129/04 ,  C09D133/02 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

Abstract: In one aspect, coating compositions are provided that comprise a component a component that comprises one or more silicon, antimony, aluminum, yttrium, cerium, lanthanum, tin, titanium, zirconium, hafnium, indium or zinc compounds. In another aspect, coating compositions are provided that comprise a plurality of discrete particles. Preferred coating compositions of the invention are useful for antireflective purposes, particularly with an underlaying photoresist coating layer, as well as for a barrier layer in immersion lithography.

Abstract translation: 在一个方面，提供了包含组分的涂料组合物，该组分包含一种或多种硅，锑，铝，钇，铈，镧，锡，钛，锆，铪，铟或锌化合物。 在另一方面，提供包含多个离散颗粒的涂料组合物。 本发明优选的涂料组合物可用于抗反射目的，特别是对于底涂光致抗蚀剂涂层以及浸没式光刻中的阻挡层而言是有用的。

公开(公告)号：US20060204742A1

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：US11387425

申请日：2006-03-23

Applicant: Dana Gronbeck ,  Michael Gallagher ,  Jeffrey Calvert ,  Gregory Prokopowicz ,  Timothy Adams

Inventor： Dana Gronbeck ,  Michael Gallagher ,  Jeffrey Calvert ,  Gregory Prokopowicz ,  Timothy Adams

IPC: B05D5/12 ,  B05D3/02 ,  B32B9/00

CPC classification number: H01L21/02126 ,  C09D183/04 ,  C09D183/14 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/31695 ,  Y10T428/249987

Abstract: Methods for depositing uniform, pinhole-defect free organic polysilica coatings are provided. These methods allow for the use of these materials as spin-on cap layers in the manufacture of integrated circuits.

Abstract translation: 提供了沉积均匀的针孔缺陷有机聚硅氧烷涂层的方法。 这些方法允许在制造集成电路中使用这些材料作为旋涂帽层。

公开(公告)号：US20060105272A1

公开(公告)日：2006-05-18

申请号：US11173932

申请日：2005-07-01

Applicant: Michael Gallagher ,  Gerald Wayton ,  Gregory Prokopowicz ,  Stewart Robertson

Inventor： Michael Gallagher ,  Gerald Wayton ,  Gregory Prokopowicz ,  Stewart Robertson

IPC: G03C5/00

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/11

Abstract: The present invention relates to barrier layer compositions that are applied above a photoresist composition for immersion lithography processing. In a further aspect, new methods are provided for immersion lithography processing.

Abstract translation: 本发明涉及用于浸没式光刻处理的光致抗蚀剂组合物上的阻挡层组合物。 在另一方面，提供了用于浸没式光刻处理的新方法。