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    Planographic printing original plate
    1.
    发明授权
    Planographic printing original plate 有权
    平版印刷原版

    公开(公告)号：US06689534B2

    公开(公告)日：2004-02-10

    申请号：US09925444

    申请日：2001-08-10

    申请人： Akio Oda ,  Ippei Nakamura ,  Tomotaka Tsuchimura

    发明人： Akio Oda ,  Ippei Nakamura ,  Tomotaka Tsuchimura

    IPC分类号： G03F7004

    CPC分类号： B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262

    摘要： A positive-type planographic printing original plate for direct plate-making with an infrared laser, with excellent latitude in forming an image by development, and excellent flaw resistance. The planographic printing original plate includes, on a support, a positive-type recording layer whose solubility with respect to an alkaline aqueous solution is increased by infrared laser exposure. The recording layer contains an alkali-soluble resin, which has a fluorine atom in the molecule, and an infrared absorbing agent. The alkali-soluble resin can be provided by introducing at least one substituent having a fluorine atom to a known alkali-soluble polymer compound.

    摘要翻译： 用于通过红外激光直接制版的正型平版印刷原版，通过显影形成图像具有优良的自由度，并且具有优异的抗缺陷性。 平版印刷原版在载体上包括通过红外激光曝光增加其相对于碱性水溶液的溶解度的正型记录层。 记录层含有在分子中具有氟原子的碱溶性树脂和红外线吸收剂。 碱可溶性树脂可以通过将至少一个具有氟原子的取代基引入已知的碱溶性聚合物化合物来提供。

    Positive-type image-forming material and planographic printing plate precursor
    2.
    发明授权
    Positive-type image-forming material and planographic printing plate precursor 失效
    正型成像材料和平版印刷版前体

    公开(公告)号：US06830865B2

    公开(公告)日：2004-12-14

    申请号：US10077943

    申请日：2002-02-20

    申请人： Tomotaka Tsuchimura ,  Ippei Nakamura ,  Akio Oda

    发明人： Tomotaka Tsuchimura ,  Ippei Nakamura ,  Akio Oda

    IPC分类号： G03F7004

    CPC分类号： B41C1/1008 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  Y10S430/165

    摘要： A positive-type image-forming material and a planographic printing plate precursor having a recording layer composed of the material on a support. The material includes (a) a water-insoluble, aqueous alkaline solution-soluble polymer compound, (b) a light-heat converting agent, and (c) a phenol including a partial structure represented by the following formula (I). Solubility of the material in an aqueous alkaline solution is increased upon heating. In the formula (I), X represents a monovalent terminal group having 2 or more carbon atoms or a linking group of —CY1Y2— or —CHY1— in which Y1 and Y2 each represent a monovalent terminal group having 1 or more carbon atoms, W represents a monovalent terminal group, and n represents an integer from 1 to 4.

    摘要翻译： 正型图像形成材料和平版印刷版原版，其具有由载体上的材料构成的记录层。 该材料包括（a）不溶于水的碱溶性水溶性聚合物化合物，（b）轻热转化剂，和（c）包含由下式（I）表示的部分结构的苯酚。 加热后材料在碱性水溶液中的溶解度增加。 在式（I）中，X表示具有2个以上碳原子的一价末端基团或-CY 1 Y 2 - 或-CHY 1 - 的连接基团，其中Y 1和Y' 2表示具有1个以上碳原子的一价末端基，W表示一价末端基，n表示1〜4的整数。

    Positive photosensitive composition
    9.
    发明授权
    Positive photosensitive composition 有权
    正光敏组合物

    公开(公告)号：US08148044B2

    公开(公告)日：2012-04-03

    申请号：US12608567

    申请日：2009-10-29

    申请人： Shuhei Yamaguchi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yuko Tada

    发明人： Shuhei Yamaguchi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yuko Tada

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C07C309/15

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/66 ,  C07C2603/74 ,  C09B49/126 ,  C09B57/00 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126

    摘要： A positive photosensitive composition includes at least one compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates any of the sulfonic acids of general formula (I) and a resin whose solubility in an alkali developer is increased by the action of an acid, wherein each of X1 and X2 independently represents a fluorine atom or a fluoroalkyl group, R1 represents a group with a polycyclic structure, provided that the polycyclic structure may have a substituent, and R2 represents a hydrogen atom, a chain alkyl group, a monocyclic alkyl group, a group with a polycyclic structure or a monocyclic aryl group, provided that each of the chain alkyl group, monocyclic alkyl group, polycyclic structure and monocyclic aryl group may have a substituent, and provided that R1 and R2 may be bonded to each other to thereby form a polycyclic structure.

    摘要翻译： 正型光敏组合物包括至少一种化合物，当暴露于光化射线或辐射时，产生通式（I）的任何磺酸和其在碱显影剂中的溶解度通过酸的作用而增加的树脂，其中每种 的X 1和X 2独立地表示氟原子或氟烷基，R 1表示具有多环结构的基团，条件是多环结构可以具有取代基，并且R 2表示氢原子，链烷基，单环烷基， 具有多环结构或单环芳基的基团，条件是链烷基，单环烷基，多环结构和单环芳基中的每一个可以具有取代基，并且条件是R 1和R 2可以彼此键合，从而 形成多环结构。

    Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor
    10.
    发明授权
    Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor 有权
    光敏树脂组合物，遮光滤色片及其制作方法及图像传感器

    公开(公告)号：US08110324B2

    公开(公告)日：2012-02-07

    申请号：US12407935

    申请日：2009-03-20

    申请人： Toru Fujimori ,  Yoichi Maruyama ,  Hiroyuki Einaga ,  Kazuto Shimada ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yushi Kaneko

    发明人： Toru Fujimori ,  Yoichi Maruyama ,  Hiroyuki Einaga ,  Kazuto Shimada ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yushi Kaneko

    IPC分类号： G02B5/20

    CPC分类号： G03F7/0007

    摘要： A photosensitive resin composition is provided that includes at least (A) titanium black, (B) two or more types of polymerizable compounds, (C) a resin, (D) a photopolymerization initiator, and (E) an organic solvent. There are also provided a light-shielding color filter formed by using the photosensitive resin composition, and a process for producing a light-shielding color filter, the process including a step of coating a substrate with the photosensitive resin composition, a step of imagewise exposing, and a step of developing to form a pattern. Furthermore, there is provided an image sensor that includes the light-shielding color filter.

    摘要翻译： 提供至少包含（A）钛黑，（B）两种或更多种可聚合化合物，（C）树脂，（D）光聚合引发剂和（E）有机溶剂）的感光性树脂组合物。 还提供了使用感光性树脂组合物形成的遮光性滤色器，以及遮光性滤色片的制造方法，其特征在于，包括使用所述感光性树脂组合物涂布基材的工序，成像曝光工序 ，以及形成图案的步骤。 此外，提供了包括遮光滤色器的图像传感器。