公开(公告)号：US06245213B1

公开(公告)日：2001-06-12

申请号：US09262740

申请日：1999-03-05

申请人： Lennart Olsson ,  Babak Heidari

发明人： Lennart Olsson ,  Babak Heidari

IPC分类号： C25F300

CPC分类号： C23F1/02 ,  C25F3/02 ,  H05K3/07

摘要： In a method for anisotropic etching of a structure in an electrically conductive substance to be etched, use is made of an etchant which in concentrated solution is usable for isotopic etching of structures in the substance to be etched. The substance to be etched is contacted with the etchant in a solution which is so diluted that the etchant is unusable for isotropic etching. The etchant is subjected, adjacent to the substance to be etched, to an electric field of such a strength that anisotropic etching of the substance to be etched is accomplished. Moreover, an etching fluid is described, comprising an etchant in dilute solution, in which the etchant is present in a concentration of 200 mM at most, and use of such an etching fluid for making structures which are 50 &mgr;m or less is also described.

摘要翻译： 在要蚀刻的导电物质中的结构的各向异性蚀刻的方法中，使用在浓缩溶液中用于蚀刻物质中的结构的同位素蚀刻的蚀刻剂。 要蚀刻的物质在溶液中与蚀刻剂接触，溶液如此稀释，使得蚀刻剂不能用于各向同性蚀刻。 将蚀刻剂与待蚀刻的物质相邻地进行到这样的强度，即要实现蚀刻物质的各向异性腐蚀。 此外，描述了一种蚀刻流体，其包括在稀溶液中的蚀刻剂，其中蚀刻剂最多以200mM的浓度存在，并且还描述了使用这种蚀刻流体来制造50μm或更小的结构。

公开(公告)号：US6125183A

公开(公告)日：2000-09-26

申请号：US68126

申请日：1998-04-30

申请人： Rizgar Nabi Jiawook ,  Babak Heidari ,  Lennart Olsson

发明人： Rizgar Nabi Jiawook ,  Babak Heidari ,  Lennart Olsson

IPC分类号： G06F1/00 ,  G06F21/80 ,  G11B20/00 ,  G11B20/18 ,  H04N5/913 ,  H04L9/06 ,  H03M13/27

CPC分类号： G06F21/80 ,  G11B20/00086 ,  G11B20/0021 ,  G11B20/1806 ,  H04N5/913 ,  G06F2211/007 ,  G06F2221/2107 ,  H04N2005/91364

摘要： A method of encrypting and decrypting digital data such as text, numeric, images, pictures, especially tailored for optical compact discs; said method comprising of ciphering/deciphering and error detection and correction using algebraic method, namely Reed-Solomon code.

摘要翻译： PCT No.PCT / SE96 / 01391 Sec。 371日期：1998年4月30日 102（e）1998年4月30日PCT PCT 1996年10月30日PCT公布。 公开号WO97 / 16896 日期1997年5月9日一种加密和解密诸如文本，数字，图像，图片等数字数据的方法，特别针对光盘制作; 所述方法包括使用代数方法的加密/解密和错误检测和校正，即Reed-Solomon码。

公开(公告)号：US06423207B1

公开(公告)日：2002-07-23

申请号：US09653945

申请日：2000-09-01

申请人： Babak Heidari ,  Lennart Olsson

发明人： Babak Heidari ,  Lennart Olsson

IPC分类号： C25F300

CPC分类号： C25F3/14 ,  H05K3/07

摘要： A method of making, by etching, depressions in selected portions of an etching surface of an electrically conductive etching material, the depressions forming an etching pattern, comprises the step of contacting the etching material with an etchant. A passivating layer is formed on the etching material which layer decreases or stops the etching capability of the etchant on the surface and which is dissolved in a chemical reaction when exposed to electromagnetic radiation. An electrode with electrically conductive electrode portions in selected portions of an electrode surface is provided, the electrode portions forming an electrode pattern corresponding to the etching pattern. The electrode is arranged in contact with the etchant and with the electrode portions facing the etching surface of the etching material, an electric voltage is applied between the electrode and the etching material, and the etching material is exposed to electromagnetic radiation essentially perpendicular to the etching surface.

摘要翻译： 通过蚀刻导电蚀刻材料的蚀刻表面的选定部分中的凹陷，形成蚀刻图案的凹陷的方法包括使蚀刻材料与蚀刻剂接触的步骤。 在蚀刻材料上形成钝化层，该层在暴露于电磁辐射时降低或停止表面上蚀刻剂的蚀刻能力并溶解在化学反应中。 提供了在电极表面的选定部分中具有导电电极部分的电极，电极部分形成对应于蚀刻图案的电极图案。 电极与蚀刻剂接触并且电极部分面向蚀刻材料的蚀刻表面，在电极和蚀刻材料之间施加电压，并且蚀刻材料暴露于基本垂直于蚀刻的电磁辐射 表面。

公开(公告)号：US07997890B2

公开(公告)日：2011-08-16

申请号：US11905036

申请日：2007-09-27

申请人： Babak Heidari ,  Marc Beck

发明人： Babak Heidari ,  Marc Beck

IPC分类号： B29C59/00 ,  B28B17/00 ,  B29B13/08

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C35/0888 ,  B29C43/003 ,  B29C43/021 ,  B29C43/10 ,  B29C59/022 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2043/025 ,  B29C2043/3647 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： Apparatus and method for transferring a pattern from a template (10) having a structured surface to a substrate (12) carrying a surface layer of a radiation polymerisable fluid (14). The apparatus comprises a first main part (101) and a second main part (102) having opposing surfaces (104;105), means for adjusting a spacing (115) between said main parts, support means (106) for supporting said template and substrate in mutual parallel engagement in said spacing with said structured surface facing said surface layer, a radiation source (110) devised to emit radiation into said spacing. A cavity (115) has a first wall comprising a flexible membrane (113) devised to engage said template or substrate, and means (114;116) are provided for applying an adjustable overpressure to a medium present in said cavity, whereby an even distribution of force is obtained over the whole of the contact surface between the substrate and the template. The apparatus further includes a heater device having a surface facing said spacing, for heating either fluid layer (14).

摘要翻译： 用于将图案从具有结构化表面的模板（10）传送到承载可辐射聚合流体（14）的表面层的基底（12）的装置和方法。 该设备包括具有相对表面（104; 105）的第一主要部分（101）和第二主要部分（102），用于调节所述主要部分之间的间距（115），用于支撑所述模板的支撑装置（106） 在与所述结构化表面相对于所述表面层的所述间隔中相互平行接合的衬底，设计成将辐射发射到所述间隔中的辐射源（110）。 空腔（115）具有第一壁，该第一壁包括被设计为接合所述模板或基底的柔性膜（113），并且提供装置（114; 116），用于将可调节的超压施加到存在于所述空腔中的介质，由此均匀分布 在基板和模板之间的整个接触表面上获得力。 该装置还包括具有面向所述间隔的表面的加热器装置，用于加热流体层（14）。

公开(公告)号：US20080229941A1

公开(公告)日：2008-09-25

申请号：US11808890

申请日：2007-06-13

申请人： Babak Heidari

发明人： Babak Heidari

IPC分类号： B31F1/20

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C59/04 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： An apparatus and a method in connection with the lithography of structures on a micro or nanometer scale. A nano-imprinting apparatus according to an embodiment of the invention comprises two rotatably mounted rollers for transferring a pattern of micro or nanometer size to the substrate to be patterned. A first rotatably mounted roller has a patterned circumferential surface for transferring a pattern from the first rotatably mounted roller to a deformable substrate by contacting the patterned surface with the substrate. A second rotatably mounted roller has a principally smooth circumferential surface which faces the patterned surface of the first rotatably mounted roller. Furthermore, the second rotatably mounted roller is rotatably coupled with the first rotatably mounted roller for synchronized rotation of the first and second rollers. The substrate is movable between the first and second rollers such that, when these rollers rotate with respect to each other, the patterned surface of the first rotatably mounted roller comes into contact with the substrate whereby this pattern is transferred from the patterned surface to the substrate.

摘要翻译： 与微观或纳米尺度的结构光刻相关的装置和方法。 根据本发明的实施例的纳米压印装置包括两个可旋转地安装的辊，用于将微米或纳米尺寸的图案转印到待图案化的基底上。 第一可旋转地安装的辊具有图案化的圆周表面，用于通过使图案化表面与基底接触将图案从第一可旋转地安装的辊转移到可变形基底。 第二可旋转地安装的辊具有面向第一可旋转地安装的辊的图案化表面的主要平滑的圆周表面。 此外，第二可旋转地安装的辊与第一可旋转地安装的辊可旋转地联接，用于第一和第二辊的同步旋转。 衬底可以在第一和第二辊之间移动，使得当这些辊相对于彼此旋转时，第一可旋转地安装的辊的图案化表面与衬底接触，由此该图案从图案化表面转移到衬底 。

公开(公告)号：US07195734B2

公开(公告)日：2007-03-27

申请号：US10149072

申请日：2000-12-04

申请人： Babak Heidari

发明人： Babak Heidari

IPC分类号： B28B1/10

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B41M1/06 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： Device in connection with the lithography of structures of nanometer size, which device comprises a first main part (1) with a first principally plane surface (2a) and a second main part (3) with a second principally plane surface (9a), said first surface and second surface being opposite to one another and being arranged in principle parallel in relation to one another, with an adjustable interval between them, and said first and second surface being arranged to form a support for a substrate (5) and a template (10) respectively, or vice-versa. According to the invention, said second main part (3) also comprises a cavity (6) for a medium, and means for adjusting a pressure of said medium, a wall of said cavity consisting of a flexible membrane (9), of which one side, which side faces away from the cavity (6), forms said second surface (9a). The invention also relates to a method that utilizes the device.

摘要翻译： 与纳米尺寸结构的平版印刷有关的装置，该装置包括具有第一主要平面表面（2a）的第一主要部分（1）和具有第二主要平面（9a）的第二主要部分（3） ，所述第一表面和第二表面彼此相对并且原则上彼此平行地布置，在它们之间具有可调节的间隔，并且所述第一和第二表面被布置成形成用于基底（5）和 一个模板（10），反之亦然。 根据本发明，所述第二主要部分（3）还包括用于介质的空腔（6）和用于调节所述介质的压力的装置，所述空腔的壁由柔性膜（9）组成，其中一个 所述侧面远离所述空腔（6），形成所述第二表面（9a）。 本发明还涉及利用该装置的方法。

公开(公告)号：US20070018362A1

公开(公告)日：2007-01-25

申请号：US10581497

申请日：2004-11-03

申请人： Babak Heidari ,  Marc Beck

发明人： Babak Heidari ,  Marc Beck

IPC分类号： B29C35/08 ,  B29C45/12 ,  B29C43/10

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2012 ,  H05K3/0014 ,  H05K3/0023 ,  H05K3/107 ,  H05K2201/0108 ,  H05K2203/0108

摘要： Apparatus and method for transferring a pattern from a template (10) having a structured surface to a substrate (12) carrying a surface layer of a radiation polymerisable fluid (14). The apparatus comprises a first main part (101) and a second main part (102) having opposing surfaces (104; 105), means for adjusting a spacing (115) between said main parts, support means (106) for supporting said template and substrate in mutual parallel engagement in said spacing with said structured surface facing said surface layer, a radiation source (110) devised to emit radiation into said spacing. A cavity (115) has a first wall comprising a flexible membrane (113) devised to engage said template or substrate, and means (114; 116) are provided for applying an adjustable overpressure to a medium present in said cavity, whereby an even distribution of force is obtained over the whole of the contact surface between the substrate and the template.

摘要翻译： 用于将图案从具有结构化表面的模板（10）传送到承载可辐射聚合流体（14）的表面层的基底（12）的装置和方法。 该设备包括具有相对表面（104; 105）的第一主要部分（101）和第二主要部分（102），用于调节所述主要部分之间的间距（115），用于支撑所述模板的支撑装置（106） 在与所述结构化表面相对于所述表面层的所述间隔中相互平行接合的衬底，设计成将辐射发射到所述间隔中的辐射源（110）。 空腔（115）具有第一壁，该第一壁包括被设计为接合所述模板或基底的柔性膜（113），并且提供装置（114; 116），用于将可调节的超压施加到存在于所述空腔中的介质，由此均匀分布 在基板和模板之间的整个接触表面上获得力。

公开(公告)号：US20060279025A1

公开(公告)日：2006-12-14

申请号：US11268574

申请日：2005-11-08

申请人： Babak Heidari ,  Anette Lofstrand ,  Erik Bolmsjo ,  Erik Theander ,  Marc Beck

发明人： Babak Heidari ,  Anette Lofstrand ,  Erik Bolmsjo ,  Erik Theander ,  Marc Beck

IPC分类号： B29C59/02 ,  B29C35/08

CPC分类号： B29C33/3857 ,  B29C35/0888 ,  B29C59/022 ,  B29C59/026 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： The invention relates to a two-step process for transferring a pattern from a template (1) to a target surface of a substrate, by creating an intermediate flexible polymer stamp (5) from the template in a primary step, and then using the polymer stamp to make an imprint in a radiation-sensitive moldable layer on the target surface in a secondary step. In the secondary step, the process steps of pressing the polymer stamp and the substrate against each other, UV exposure of the moldable layer through the polymer stamp, and postbaking of the radiated moldable layer, are all performed at a control constant temperature, in order to eliminate damages to the pattern created in the moldable layer caused by thermal expansion effects.

摘要翻译： 本发明涉及通过在初级步骤中从模板中生成中间柔性聚合物印模（5），然后使用聚合物（2），将图案从模板（1）转移到基材的目标表面的两步法 在第二步骤中对目标表面上的辐射敏感的可成型层进行印记。 在第二步骤中，将聚合物印模和基板彼此挤压，通过聚合物印模的可模制层的UV曝光和辐射的可模塑层的后烘烤的工艺步骤全部按照控制恒温进行 以消除由热膨胀效应引起的在可模塑层中产生的图案的损坏。

公开(公告)号：US06923930B2

公开(公告)日：2005-08-02

申请号：US10181487

申请日：2001-01-19

申请人： Torbjörn Ling ,  Lars Montelius ,  Babak Heidari

发明人： Torbjörn Ling ,  Lars Montelius ,  Babak Heidari

IPC分类号： G03F7/00 ,  B29C33/66 ,  B81C1/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10S977/887

摘要： A metal mold for use in a nano-imprinting process comprises a firmly adhering monomolecular non-sticking layer. The layer was obtained by subjecting the mold to a reaction with a fluoroalkyl compound having a mercapto group. As a result of said reaction, the layer comprises an organic sulfide of said metal.

摘要翻译： 用于纳米压印方法的金属模具包括牢固粘附的单分子不粘层。 通过使模具与具有巯基的氟烷基化合物反应来获得该层。 作为所述反应的结果，该层包含所述金属的有机硫化物。

公开(公告)号：US07972553B2

公开(公告)日：2011-07-05

申请号：US11579540

申请日：2004-11-25

申请人： Marc Beck ,  Babak Heidari ,  Erik Bolmsjö ,  Erik Theander

发明人： Marc Beck ,  Babak Heidari ,  Erik Bolmsjö ,  Erik Theander

IPC分类号： B29C35/02 ,  B29C35/08

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C35/0888 ,  B29C43/003 ,  B29C43/021 ,  B29C43/10 ,  B29C59/022 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2043/025 ,  B29C2043/3647 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： Method for transferring a pattern from a template (10) having a structured surface (11) to a substrate (12) carrying a surface layer (14) of a material devised to 5 solidify upon exposure to radiation, comprising: arranging said template and substrate mutually parallel in an imprint apparatus, with said structured surface facing said surface layer; heating the template and the substrate to a temperature Tp by means of a heater device (20); and while maintaining said temperature Tp, performing the steps of: pressing the template towards the substrate for imprinting said pattern into said layer; exposing said layer to radiation (19) for solidifying the layer, and—postbaking the layer.

摘要翻译： 用于将图案从具有结构化表面（11）的模板（10）转移到承载设计为5的材料的表面层（14）的基底（12）的方法，其在暴露于辐射时固化，包括：布置所述模板和基底 在压印装置中相互平行，所述结构化表面面向所述表面层; 通过加热器装置（20）将模板和衬底加热至温度Tp; 并且在保持所述温度Tp的同时，执行以下步骤：将模板压向基板以将所述图案压印到所述层中; 将所述层暴露于辐射（19）以固化该层，并且对该层进行后烘烤。