公开(公告)号：US20060177774A1

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：US11338462

申请日：2006-01-24

申请人： David Abdallah ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski ,  John Biafore ,  Andrew Romano ,  WooKyu Kim

发明人： David Abdallah ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski ,  John Biafore ,  Andrew Romano ,  WooKyu Kim

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S430/151

摘要： A process for imaging a photoresist comprising the steps of, a) forming a stack of multiple layers of organic antireflective coatings on a substrate; b) forming a coating of a photoresist over the upper layer of the stack of multiple layers of organic antireflective coatings; c) imagewise exposing the photoresist with an exposure equipment; and, d) developing the coating with a developer.

摘要翻译： 一种用于对光致抗蚀剂进行成像的方法，包括以下步骤：a）在衬底上形成多层有机抗反射涂层的叠层; b）在多层有机抗反射涂层的堆叠的上层上形成光致抗蚀剂的涂层; c）用曝光设备成像曝光光致抗蚀剂; 和d）用显影剂显影涂层。

公开(公告)号：US20060177772A1

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：US11054723

申请日：2005-02-10

申请人： David Abdallah ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski ,  John Biafore ,  Andrew Romano

发明人： David Abdallah ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski ,  John Biafore ,  Andrew Romano

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/2041

摘要： A process for imaging a photoresist comprising the steps of, a) forming a stack of multiple layers of organic antireflective coatings on a substrate; b) forming a coating of a photoresist over the upper layer of the stack of multiple layers of organic antireflective coatings; c) imagewise exposing the photoresist with an exposure equipment; and, d) developing the coatings with a developer.

摘要翻译： 一种用于对光致抗蚀剂进行成像的方法，包括以下步骤：a）在衬底上形成多层有机抗反射涂层的叠层; b）在多层有机抗反射涂层的堆叠的上层上形成光致抗蚀剂的涂层; c）用曝光设备成像曝光光致抗蚀剂; 和d）用显影剂开发涂料。

公开(公告)号：US5614351A

公开(公告)日：1997-03-25

申请号：US491813

申请日：1990-03-12

申请人： Ralph Dammel ,  Juergen Lingnau ,  Georg Pawlowski ,  Juergen Theis

发明人： Ralph Dammel ,  Juergen Lingnau ,  Georg Pawlowski ,  Juergen Theis

IPC分类号： G03F7/039 ,  C07C271/28 ,  C07C275/50 ,  C08K5/00 ,  C08L61/00 ,  C08L61/04 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  G03C1/492 ,  C08F2/46 ,  G03C1/494 ,  G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0045 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： A radiation-curable mixture is disclosed which contains a compound which forms an acid under the action of high-energy radiation, and contains an acid-curable compound, wherein the compound which forms an acid contains aliphatically bound halogen (chlorine or bromine) and has a pK.sub.a value of less than about 12. A radiation-curable recording material and a process for recording high-energy radiation using the material are also disclosed. The mixture, and in particular the recording material produced therefrom, has relatively high sensitivity and improved resolution and, in addition, does not exhibit image fogging after development.

摘要翻译： 公开了一种可辐射固化的混合物，其包含在高能量辐射的作用下形成酸的化合物，并含有酸可固化的化合物，其中形成酸的化合物含有脂族结合的卤素（氯或溴）并具有 pKa值小于约12.可辐射固化的记录材料和使用该材料记录高能辐射的方法也被公开。 混合物，特别是由其制备的记录材料具有相对高的灵敏度和改进的分辨率，此外，显影后不会发生图像起雾。

公开(公告)号：US5525453A

公开(公告)日：1996-06-11

申请号：US196810

申请日：1994-02-15

申请人： Klaus J. Przybilla ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natumi Suehiro ,  Munirathna Padmanaban ,  Hiroshi Okazaki ,  Hajime Endo ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski

发明人： Klaus J. Przybilla ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natumi Suehiro ,  Munirathna Padmanaban ,  Hiroshi Okazaki ,  Hajime Endo ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/021

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039

摘要： A novel positive-working radiation-sensitive mixture having a high sensitivity to radiation in a short-wavelength UV region is provided which can be developed in an aqueous alkaline solution, has a stable acid latent image and is used for the production of a semiconductor. The mixture comprises, as indispensable components, a) a binder insoluble in water but soluble in an aqueous alkaline solution, b) a compound having at least one bond cleavable with an acid, c) a compound capable of producing an acid upon radiation, and d.sub.1) a basic ammonium compound or d.sub.2) a basic sulfonium compound.

摘要翻译： 提供了一种在短波长UV区域对辐射具有高灵敏度的新型正性辐射敏感性混合物，其可以在碱性水溶液中显影，具有稳定的酸性潜像并用于制备半导体。 该混合物作为不可缺少的组分包含a）不溶于水但可溶于碱性水溶液的粘合剂，b）具有至少一个可与酸分离的键的化合物，c）能够在辐射时产生酸的化合物，和 d1）碱性铵化合物或d2）碱性锍化合物。

公开(公告)号：US5401608A

公开(公告)日：1995-03-28

申请号：US917364

申请日：1992-07-23

申请人： Georg Pawlowski ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert ,  Winfried Meier ,  Walter Spiess ,  Klaus-Juergen Przybilla

发明人： Georg Pawlowski ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert ,  Winfried Meier ,  Walter Spiess ,  Klaus-Juergen Przybilla

IPC分类号： G03F7/00 ,  C04B41/50 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027 ,  G03C1/492

CPC分类号： C04B41/5035 ,  G03F7/0295 ,  Y10S430/124

摘要： A negative-working radiation-sensitive mixture containinga) a compound which contains at least one --CBr.sub.3 group bound to an atom not linked in turn to a hydrogen atom,b) an alkoxymethylated melamine andc) a water-insoluble polymeric binder which is soluble, or at least swellable, in aqueous alkaline solutions and contains phenolic OH groups,wherein(1) the mixture has an absorption of

摘要翻译： 一种负性辐射敏感性混合物，其包含a）包含至少一个结合于未连接到氢原子上的原子的-CBr 3基团的化合物，b）烷氧基甲基化三聚氰胺和c）水不溶性聚合物粘合剂，其是 可溶或至少可溶胀的碱性溶液，并且含有酚OH基团，其中（1）该混合物在248nm具有<0.4μm-1的吸收，（2）化合物a）的CBr 3基团被结合 相对于组分b）和c）的总量，化合物a）以0.2至10重量％的量混合在混合物中，（3）质量比 的组分b）和c）在50:50和5:95之间，和（4）组分c）是羟基苯乙烯或其衍生物的均聚物或共聚物，所述均聚物或共聚物的去除速率为200-3000nm 在含有2.38重量％四甲基氢氧化铵的含水碱性显影剂中，在21℃下进行 优异的性能，包括对等离子体蚀刻的高抗性，以及出色的光刻性能，并且在记录材料中是有用的。

公开(公告)号：US5346806A

公开(公告)日：1994-09-13

申请号：US871011

申请日：1992-04-20

申请人： Georg Pawlowski ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert ,  Walter Spiess ,  Charlotte Eckes

发明人： Georg Pawlowski ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert ,  Walter Spiess ,  Charlotte Eckes

IPC分类号： C09K9/02 ,  C07C309/65 ,  C07C309/66 ,  C07C309/73 ,  C07C309/74 ,  C07C309/75 ,  C07C309/77 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03C1/73 ,  G03C1/725 ,  G03F7/025 ,  G03F7/027

CPC分类号： C07C309/65 ,  C07C309/66 ,  C07C309/73 ,  C07C309/74 ,  C07C309/75 ,  C07C309/77 ,  G03F7/039 ,  C07C2101/14 ,  C07C2102/28 ,  C07C2102/44 ,  C07C2103/68 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/126

摘要： Ligomeric sulfonic acid derivatives having repeating units of the formula I ##STR1## in which R.sup.1 is an alkyl, haloalkyl or aryl radical,R.sup.2 is a hydrogen atom, an alkyl, alkenyl or aryl radical or the group (R.sup.1 --SO.sub.2 --O--).sub.n X--,R.sup.3 is a cycloalkylenedialkyl, cycloalkenylenedialkyl, arylenedialkyl, heteroarylenedialkyl group, alkylene, alkenylene, alkynylene, cycloalkylene or arylene group,X is an alkylene, cycloalkylene or arylene group Y is O, S, CO, CO--O, SO.sub.2, SO.sub.2 --O, NR.sup.4, CO--NH, O--CO--NR.sup.5, NH--CO--NR.sup.5 or NR.sup.5 --CO--O,Z is O, CO--NR.sup.6, O--CO--NR.sup.6 or NH--CO--NR.sup.6,R.sup.4 is an acyl radical,R.sup.5 is a hydrogen atom or an alkyl-, cycloalkyl, alkenyl, alkynyl or aryl radical,R.sup.6 is an alkyl, cycloalkyl, alkenyl, alkynyl or aryl radical,k is 0, 1, 2, 3 or 4,m is an integer greater than 1 andn is 1, 2 or 3,generate sulfonic acids under irradiation and are cleavable by the latter. In combination with alkali-soluble binders, they give positive-working mixtures which are used especially in recording materials for UV radiation and high-energy radiation. The recording materials are distinguished by a high resolution in conjunction with high image contrast and excellent storage stability.

摘要翻译： 具有式I（I）的重复单元的二元磺酸衍生物，其中R 1是烷基，卤代烷基或芳基，R 2是氢原子，烷基，烯基或芳基或基团（R 1 -SO 2 - 环烷基亚烷基，亚芳基亚烷基，亚炔基，亚环烷基或亚芳基，X是亚烷基，亚环烷基或亚芳基，Y是O，S，CO，CO-O， SO2，SO2-O，NR4，CO-NH，O-CO-NR5，NH-CO-NR5或NR5-CO-O，Z是O，CO-NR6，O-CO-NR6或NH-CO-NR6， R4是酰基，R5是氢原子或烷基 - ，环烷基，烯基，炔基或芳基，R6是烷基，环烷基，烯基，炔基或芳基，k是0,1,2,3或4 ，m是大于1且n为1,2或3的整数，在照射下产生磺酸并可被后者切割。 与碱溶性粘合剂组合使用时，它们可以提供特别用于UV辐射和高能辐射记录材料的正性混合物。 记录材料通过高分辨率和高图像对比度以及优异的存储稳定性来区分。

公开(公告)号：US5302488A

公开(公告)日：1994-04-12

申请号：US841545

申请日：1992-02-26

申请人： Horst Roeschert ,  Hans-Joachim Merrem ,  Georg Pawlowski ,  Juergen Fuchs ,  Ralph Dammel

发明人： Horst Roeschert ,  Hans-Joachim Merrem ,  Georg Pawlowski ,  Juergen Fuchs ,  Ralph Dammel

IPC分类号： B41M5/26 ,  C08F12/00 ,  C08F212/14 ,  G03F7/023 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/023

摘要： A radiation-sensitive polymer and a mixture containing this radiation-sensitive polymer as a binder are disclosed. A process for the preparation of the radiation-sensitive polymer binder and a positive-working radiation-sensitive recording material which is prepared using the radiation-sensitive mixture are also disclosed.

摘要翻译： 公开了一种辐射敏感性聚合物和含有该辐射敏感性聚合物作为粘合剂的混合物。 还公开了制备辐射敏感性聚合物粘合剂的方法和使用该辐射敏感性混合物制备的正性辐射敏感记录材料。

公开(公告)号：US5843319A

公开(公告)日：1998-12-01

申请号：US902072

申请日：1997-07-29

申请人： Klaus Juergen Przybilla ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natsumi Suehiro ,  Munirathna Padmanaban ,  Hiroshi Okazaki ,  Hajime Endo ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski

发明人： Klaus Juergen Przybilla ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natsumi Suehiro ,  Munirathna Padmanaban ,  Hiroshi Okazaki ,  Hajime Endo ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  B01D15/00 ,  B01J39/00 ,  C02F1/42

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039

摘要： A process for producing a solution of a basic or non-basic sulfonium compound (A) of formulae II-V: ##STR1## wherein R.sup.5, R.sup.6 and R.sup.7 each independently represent a C.sub.1 -C.sub.18 alkyl, aryl or heteroaryl group or an aryl group mono-, di- or tri-substituted with an alkyl, an alkylaryl, an aryl, a halogen, an alkoxy, a phenoxy, a thiophenol, a phenylsulfonyl or a phenylsulphenyl; Y represents (CH.sub.2).sub.n (wherein n is 0 or 1), O or S; R.sup.8 and R.sup.9 represent a C.sub.1 -C.sub.4 alkyl, alkoxy or a halogen; R.sup.10 and R.sup.11 represent a C.sub.1 -C.sub.4 alkyl, alkoxy or a halogen; n is 5 or 6; and X.sub.2.sup.- represents a basic anion having a pK.sub.B value of -3 to +5; comprising the steps of: (a) dissolving a sulfonium salt (B) in a metal-ion free polar or non-polar solvent to form a solution, said sulfonium salt (B) being selected from said formulae II-V, wherein R.sup.5 to R.sup.11, Y and n of said sulfonium salt (B) have the sane meaning as above and X.sub.2.sup.- represents a non-nucleophilic anion; (b) contacting said solution for a sufficient amount of time with a basic ion-exchange resin having a quaternary ammonium group to replace the anion of (B) with a hydroxide ion and to form a sulfonium hydroxide solution; (c) separating said sulfonium hydroxide solution from the resin; and optionally (d) adding an active hydrogen containing compound or its base-labile precursor to said sulfonium hydroxide solution to yield a solution of the sulfonium compound (A) wherein X.sub.2.sup.- represents a basic anion other than a hydroxy ion.

摘要翻译： 制备式II-V的碱性或非碱性锍化合物（A）的溶液的方法：[SR5R6R7] + X2-Ⅱ其中R5，R6和R7各自独立地 独立地表示C1-C18烷基，芳基或杂芳基或被烷基，烷基芳基，芳基，卤素，烷氧基，苯氧基，苯硫酚，苯基磺酰基或苯基磺酰基单 - ，二 - 或三 - 取代的芳基 苯基磺酰基; Y表示（CH 2）n（其中n为0或1），O或S; R8和R9代表C1-C4烷基，烷氧基或卤素; R10和R11表示C1-C4烷基，烷氧基或卤素; n为5或6; X2-表示pKB值为-3〜+5的碱性阴离子; 包括以下步骤：（a）将锍盐（B）溶解在无金属离子的极性或非极性溶剂中以形成溶液，所述锍盐（B）选自所述式II-V，其中R5至 所述锍盐（B）的R 11，Y和n具有如上所述的正义，X2-表示非亲核阴离子; （b）用具有季铵基团的碱性离子交换树脂将所述溶液接触足够的时间以用氢氧根离子代替（B）的阴离子并形成氢氧化锍溶液; （c）从树脂中分离出氢氧化锍溶液; 和任选地（d）在所述氢氧化锍溶液中加入含活性氢的化合物或其碱不稳定的前体，得到其中X2代表羟基离子以外的碱性阴离子的锍化合物（A）的溶液。

公开(公告)号：US5326826A

公开(公告)日：1994-07-05

申请号：US841532

申请日：1992-02-26

申请人： Horst Roeschert ,  Hans-Joachim Merrem ,  Georg Pawlowski ,  Juergen Fuchs ,  Ralph Dammel

发明人： Horst Roeschert ,  Hans-Joachim Merrem ,  Georg Pawlowski ,  Juergen Fuchs ,  Ralph Dammel

IPC分类号： C08F8/30 ,  C08F12/00 ,  C08F12/14 ,  C08F212/14 ,  C08F220/20 ,  G03F7/039 ,  C03F7/023 ,  C08F30/08

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F8/30

摘要： Radiation-sensitive polymers, a mixture containing these radiation-sensitive polymers as binder, and a process for the preparation of the radiation-sensitive polymer binders are disclosed. A positive radiation-sensitive recording material containing the radiation-sensitive polymer is also disclosed.

摘要翻译： 公开了辐射敏感聚合物，含有这些辐射敏感聚合物作为粘合剂的混合物，以及制备辐射敏感性聚合物粘合剂的方法。 还公开了含有辐射敏感性聚合物的正性辐射敏感记录材料。

公开(公告)号：US5340682A

公开(公告)日：1994-08-23

申请号：US46484

申请日：1993-04-09

申请人： Georg Pawlowski ,  Hans-Joachim Merrem ,  Juergen Lingnau ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert

发明人： Georg Pawlowski ,  Hans-Joachim Merrem ,  Juergen Lingnau ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/016 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03F7/023 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0163

摘要： A positive-working radiation-sensitive mixture is disclosed which contains as essential constituents:a) an .alpha.-carbonyl-.alpha.-sulfonyl-diazomethane, which forms a strong acid on irradiation, of the general formula I ##STR1## in which R.sup.1 and R.sup.2, independently of one another, denote an alkyl-, cycloalkyl-, aryl- or heteroaryl radicalb) a compound having at least one C--O--C or C--O--Si bond which can be cleaved by acid, andc) a water-insoluble binder which is soluble or at least swellable in aqueous-alkaline solutions.The radiation-sensitive mixture according to the invention is notable for a high sensitivity over a wide spectral range. It also exhibits a high thermal stability and does not form any corrosive photoylsis products on exposure to light.

摘要翻译： 公开了一种正面工作的辐射敏感性混合物，其包含作为必要成分的：a）在辐射下形成强酸的α-羰基-α-磺酰基重氮甲烷，其通式I（I） R 1和R 2彼此独立地表示烷基 - ，环烷基 - ，芳基 - 或杂芳基b）具有至少一个可被酸裂解的COC或CO-Si键的化合物，和c）不溶于水的 在碱性水溶液中可溶或至少可溶胀的粘合剂。 根据本发明的辐射敏感性混合物在宽光谱范围内对于高灵敏度是显着的。 它还具有高的热稳定性，并且在曝光时不会形成任何腐蚀性的光氧化产物。