公开(公告)号：US20110208459A1

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：US13018226

申请日：2011-01-31

申请人： Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

发明人： Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic apparatus includes a stage to hold an object, the stage being moveable relative to a reference structure in a motion range; a magnet structure to provide a spatially varying magnetic field in at least a part of the motion range, the magnet structure being moveable relative to the reference structure and the stage; a first position measurement system to provide a first measurement signal corresponding to a position of the stage and/or the object in a measurement direction relative to the reference structure; a second position measurement system to provide a second measurement signal corresponding to a position of the stage relative to the magnet structure; and a data processor to correct the first measurement signal with a value dependent on the second measurement signal to provide a corrected first measurement signal representative of the position of the stage and/or the object relative to the reference structure in the measurement direction.

摘要翻译： 光刻设备包括用于保持物体的平台，所述平台相对于基准结构在运动范围内可移动; 磁体结构，用于在所述运动范围的至少一部分中提供空间变化的磁场，所述磁体结构可相对于所述参考结构和所述平台移动; 第一位置测量系统，用于相对于参考结构在测量方向上提供对应于舞台和/或物体的位置的第一测量信号; 第二位置测量系统，用于提供对应于舞台相对于磁体结构的位置的第二测量信号; 以及数据处理器，用取决于所述第二测量信号的值来校正所述第一测量信号，以在所述测量方向上提供表示所述平台和/或所述对象相对于所述参考结构的位置的校正的第一测量信号。

公开(公告)号：US08781775B2

公开(公告)日：2014-07-15

申请号：US13018226

申请日：2011-01-31

申请人： Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

发明人： Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

IPC分类号： G01C17/38

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic apparatus includes a stage to hold an object, the stage being moveable relative to a reference structure in a motion range; a magnet structure to provide a spatially varying magnetic field in at least a part of the motion range, the magnet structure being moveable relative to the reference structure and the stage; a first position measurement system to provide a first measurement signal corresponding to a position of the stage and/or the object in a measurement direction relative to the reference structure; a second position measurement system to provide a second measurement signal corresponding to a position of the stage relative to the magnet structure; and a data processor to correct the first measurement signal with a value dependent on the second measurement signal to provide a corrected first measurement signal representative of the position of the stage and/or the object relative to the reference structure in the measurement direction.

摘要翻译： 光刻设备包括用于保持物体的平台，所述平台相对于基准结构在运动范围内可移动; 磁体结构，用于在所述运动范围的至少一部分中提供空间变化的磁场，所述磁体结构可相对于所述参考结构和所述平台移动; 第一位置测量系统，用于相对于参考结构在测量方向上提供对应于舞台和/或物体的位置的第一测量信号; 第二位置测量系统，用于提供对应于舞台相对于磁体结构的位置的第二测量信号; 以及数据处理器，用取决于所述第二测量信号的值来校正所述第一测量信号，以在所述测量方向上提供表示所述平台和/或所述对象相对于所述参考结构的位置的校正的第一测量信号。

公开(公告)号：US07483120B2

公开(公告)日：2009-01-27

申请号：US11430196

申请日：2006-05-09

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03B27/53 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775

摘要： A displacement measurement system, in particular for measuring the displacement of a substrate table in a lithographic apparatus relative to a reference frame is presented. The displacement measure system includes a plurality of displacement sensors mounted to the substrate table and a target associated with each displacement sensor mounted to the reference frame.

摘要翻译： 提出了一种位移测量系统，特别是用于测量光刻设备中的衬底台相对于参考系的位移。 位移测量系统包括安装到衬底台的多个位移传感器和与安装到参考框架的每个位移传感器相关联的目标。

公开(公告)号：US07408617B2

公开(公告)日：2008-08-05

申请号：US11165575

申请日：2005-06-24

申请人： Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

发明人： Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70625

摘要： A lithographic apparatus comprises an illumination system, an array of individually controllable elements, a substrate table, a projection system, a position encoder, an imaging device, and an image processing unit. The illumination system conditions a radiation beam. The array of individually controllable elements modulates the cross-section of the radiation beam. The substrate table supports a substrate. The projection system projects the modulated radiation beam onto a target portion of the substrate, thereby applying a pattern to the target portion of the substrate. The pattern comprises a first line and a second line. The first line is offset from the second line. The position encoder determines a position of the substrate table. The position encoder comprises a position sensor and a scale. The scale comprises a plurality of lines intended to be straight and parallel to one another. The imaging device obtains an image of the first line and the second line. The image processing unit measures the separation between the first line and the second line in a plurality of locations, and determines the non-uniformity of at least a part of the scale from the plurality of separations.

摘要翻译： 光刻设备包括照明系统，独立可控元件的阵列，衬底台，投影系统，位置编码器，成像设备和图像处理单元。 照明系统调节辐射束。 独立可控元件的阵列调制辐射束的横截面。 衬底台支撑衬底。 投影系统将调制的辐射束投影到基板的目标部分上，从而将图案施加到基板的目标部分。 该图案包括第一行和第二行。 第一行偏离第二行。 位置编码器确定衬底台的位置。 位置编码器包括位置传感器和秤。 该刻度尺包括多条相互直线并平行的线。 成像装置获得第一行和第二行的图像。 图像处理单元测量多个位置中第一线和第二线之间的间隔，并且从多个分离中确定刻度的至少一部分的不均匀性。

公开(公告)号：US09316928B2

公开(公告)日：2016-04-19

申请号：US13194791

申请日：2011-07-29

申请人： Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Robbert Edgar Van Leeuwen

发明人： Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Robbert Edgar Van Leeuwen

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/58 ,  G03B27/42 ,  G03B27/62 ,  G03F7/20 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085

摘要： A measurement system configured to measure a position dependent signal of an object table, the measurement system including at least one sensor mountable on the object table and a sensor target object mountable on a substantially stationary frame, and a mounting device configured to mount the sensor target object on the substantially stationary frame, wherein the measurement system further includes a compensator configured to compensate movements and/or deformations of the sensor target object with respect to the substantially stationary frame. The compensator may include a passive or an active damper and/or a feedback position controller. In an alternative embodiment, the compensator includes a gripping device which fixes the position of the sensor target object during a high accuracy movement of the movable object.

摘要翻译： 一种测量系统，被配置为测量对象台的与位置相关的信号，所述测量系统包括可安装在所述对象台上的至少一个传感器和可安装在基本上固定的框架上的传感器目标对象;以及安装装置，其被配置为安装所述传感器目标 物体在基本上固定的框架上，其中测量系统还包括补偿器，其被配置为补偿传感器目标物体相对于基本上固定的框架的运动和/或变形。 补偿器可以包括无源或主动阻尼器和/或反馈位置控制器。 在替代实施例中，补偿器包括夹持装置，其在可移动物体的高精度运动期间固定传感器目标物体的位置。

公开(公告)号：US08614783B2

公开(公告)日：2013-12-24

申请号：US12392852

申请日：2009-02-25

申请人： Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Robbert Edgar Van Leeuwen ,  Renatus Gerardus Klaver ,  Martijn Robert Hamers

发明人： Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Robbert Edgar Van Leeuwen ,  Renatus Gerardus Klaver ,  Martijn Robert Hamers

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03B27/54 ,  G01D5/24461 ,  G01D5/347 ,  G03F7/70775

摘要： An encoder-type measurement system is configured to measure a position dependent signal of a movable object. The measurement system includes a light source and a sensor. The light source and the sensor are mounted on one of the movable object or a substantially stationary frame. The measurement system also includes a reference object that includes a grating or grid mounted on the other of the movable object or the substantially stationary frame. The light source is configured to emit a light beam towards the reference object. The sensor is configured to detect light of the light source reflected by the reference object. The measurement system also includes an error detector capable of detecting errors in or on the grating or grid of the sensor target object during a continuous production process.

摘要翻译： 编码器型测量系统被配置为测量可移动物体的位置相关信号。 测量系统包括光源和传感器。 光源和传感器安装在可移动物体之一或基本上固定的框架上。 测量系统还包括参考对象，其包括安装在可移动物体或基本上固定的框架上的另一个上的光栅或栅格。 光源被配置为朝向参考对象发射光束。 传感器被配置为检测由参考对象反射的光源的光。 该测量系统还包括能够在连续生产过程中检测传感器目标物体的光栅或格栅上的误差的误差检测器。

公开(公告)号：US08368868B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US12627087

申请日：2009-11-30

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus includes a position controller configured to control a position of a patterning device in its planar direction by selectively pressing at least one of the side faces of the patterning device. The position controller includes a gas pressure supply and one or more outflow openings directed towards at least one side face of the patterning device so as to exert pressurized gas on this side face in order to control the position of the patterning device in its planar direction in a contactless manner.

摘要翻译： 光刻设备包括位置控制器，其被配置为通过选择性地按压图案形成装置的侧面中的至少一个来控​​制图案形成装置在其平面方向上的位置。 位置控制器包括气体压力供给器和朝向图案形成装置的至少一个侧面的一个或多个流出开口，以在该侧面上施加加压气体，以便控制图案形成装置在其平面方向上的位置 一个非接触的方式。

公开(公告)号：US08334983B2

公开(公告)日：2012-12-18

申请号：US12768883

申请日：2010-04-28

申请人： Ruud Antonius Catharina Maria Beerens ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Fransiscus Mathijs Jacobs

发明人： Ruud Antonius Catharina Maria Beerens ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Fransiscus Mathijs Jacobs

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G03F7/70775

摘要： A lithographic apparatus is provided with an optical encoder measurement system having an irradiation system to direct an irradiation beam to a first scale. The system has optics to direct a primary diffracted beam diffracted from the first scale upon irradiation by the irradiation beam to a second scale and a detector to detect a secondary diffracted beam after interference and a second diffraction of the primary diffracted irradiation beam on the second scale to measure the position of the first scale with respect to the second scale.

摘要翻译： 光刻设备具有光学编码器测量系统，其具有将照射束引导到第一刻度的照射系统。 该系统具有光学器件，用于将从第一刻度衍射的主衍射光束照射到第二刻度的照射光束和检测器以检测干涉后的次级衍射光束，并且在第二刻度上进行第二衍射照射束的第二衍射 测量相对于第二刻度的第一刻度的位置。

公开(公告)号：US20110085180A1

公开(公告)日：2011-04-14

申请号：US12902847

申请日：2010-10-12

申请人： Ruud Antonius Catharina Maria Beerens ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus Van De Ven ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Ruud Antonius Catharina Maria Beerens ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Bastiaan Lambertus Wilhelmus Marinus Van De Ven ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G01B9/02 ,  G01B9/02049 ,  G01B11/14 ,  G01B2290/70 ,  G03F7/70766 ,  G03F7/70775

摘要： A position measurement system configured to measure a position quantity of a movable object in a measurement direction, the system including a radiation source, a beam splitter to split the radiation beam in a measurement beam and a reference beam, a first reflective surface mounted on the movable object to receive the measurement beam, a second reflective surface mounted on a reference object to receive the reference beam, and a detector arranged to receive a first and second reflected beam reflected by the first and second reflective surface, respectively, and configured to provide a signal representative of the position quantity of the movable object based on the first and the second beam, wherein the radiation source and detector are mounted on an object that is different from the movable object and the reference object.

摘要翻译： 一种位置测量系统，被配置为在测量方向上测量可移动物体的位置量，所述系统包括辐射源，将测量光束中的辐射束分离的分束器和参考光束，安装在所述测量光束上的第一反射表面 可移动物体以接收测量光束，安装在参考对象上以接收参考光束的第二反射表面;以及检测器，被布置为分别接收由第一和第二反射表面反射的第一和第二反射光束，并且被配置为提供 表示基于第一和第二光束的可移动物体的位置量的信号，其中辐射源和检测器安装在与可移动物体和参考对象不同的物体上。

公开(公告)号：US20100159399A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12627087

申请日：2009-11-30

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus includes a position controller configured to control a position of a patterning device in its planar direction by selectively pressing at least one of the side faces of the patterning device. The position controller includes a gas pressure supply and one or more outflow openings directed towards at least one side face of the patterning device so as to exert pressurized gas on this side face in order to control the position of the patterning device in its planar direction in a contactless manner.

摘要翻译： 光刻设备包括位置控制器，其被配置为通过选择性地按压图案形成装置的侧面中的至少一个来控​​制图案形成装置在其平面方向上的位置。 位置控制器包括气体压力供给器和朝向图案形成装置的至少一个侧面的一个或多个流出开口，以在该侧面上施加加压气体，以便控制图案形成装置在其平面方向上的位置 一个非接触的方式。