利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

25 条记录 (耗时 0.021 秒)

    Intensity Selective Exposure Method And Apparatus
    2.
    发明申请
    Intensity Selective Exposure Method And Apparatus 有权
    强度选择性曝光方法和装置

    公开(公告)号：US20100261118A1

    公开(公告)日：2010-10-14

    申请号：US12421378

    申请日：2009-04-09

    申请人： George Liu ,  Kuei Shun Chen ,  Chih-Yang Yeh ,  Te-Chih Huang

    发明人： George Liu ,  Kuei Shun Chen ,  Chih-Yang Yeh ,  Te-Chih Huang

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/42

    CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F1/50 ,  G03F7/203

    摘要： A gradated photomask is provided. The photomask includes a first region including a first plurality of sub-resolution features and a second region including a second plurality of sub-resolution features. The first region blocks a first percentage of the incident radiation. The second region blocks a second percentage of the incident radiation. The first and second percentage are different. An intensity selective exposure method is also provided.

    摘要翻译： 提供了分级光掩模。 光掩模包括包括第一多个子分辨率特征的第一区域和包括第二多个子分辨率特征的第二区域。 第一个区域阻止了第一个入射辐射的百分比。 第二个区域阻挡了入射辐射的第二个百分比。 第一和第二个百分比是不同的。 还提供强度选择性曝光方法。

    Intensity selective exposure method and apparatus
    6.
    发明授权
    Intensity selective exposure method and apparatus 有权
    强度选择性曝光方法和装置

    公开(公告)号：US08003303B2

    公开(公告)日：2011-08-23

    申请号：US12421378

    申请日：2009-04-09

    申请人： George Liu ,  Kuei Shun Chen ,  Chih-Yang Yeh ,  Te-Chih Huang

    发明人： George Liu ,  Kuei Shun Chen ,  Chih-Yang Yeh ,  Te-Chih Huang

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F1/00

    CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F1/50 ,  G03F7/203

    摘要： A gradated photomask is provided. The photomask includes a first region including a first plurality of sub-resolution features and a second region including a second plurality of sub-resolution features. The first region blocks a first percentage of the incident radiation. The second region blocks a second percentage of the incident radiation. The first and second percentage are different. An intensity selective exposure method is also provided.

    摘要翻译： 提供了分级光掩模。 光掩模包括包括第一多个子分辨率特征的第一区域和包括第二多个子分辨率特征的第二区域。 第一个区域阻止了第一个入射辐射的百分比。 第二个区域阻挡了入射辐射的第二个百分比。 第一和第二个百分比是不同的。 还提供强度选择性曝光方法。

    Method for etching an ultra thin film
    7.
    发明授权
    Method for etching an ultra thin film 有权
    蚀刻超薄膜的方法

    公开(公告)号：US08623231B2

    公开(公告)日：2014-01-07

    申请号：US12137186

    申请日：2008-06-11

    申请人： George Liu ,  Kuei Shun Chen ,  Vencent Chang ,  Chih-Yang Yeh

    发明人： George Liu ,  Kuei Shun Chen ,  Vencent Chang ,  Chih-Yang Yeh

    IPC分类号： H01L21/302 ,  H01L21/461 ,  C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  C25F3/00

    CPC分类号： H01L21/30604 ,  C09K13/00 ,  C09K13/02 ,  C09K13/06 ,  H01L21/308 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32134

    摘要： A method for etching an ultra thin film is provided which includes providing a substrate having the ultra thin film formed thereon, patterning a photosensitive layer formed over the ultra thin film, etching the ultra thin film using the patterned photosensitive layer, and removing the patterned photosensitive layer. The etching process includes utilizing an etch material with a diffusion resistant carrier such that the etch material is prevented from diffusing to a region underneath the photosensitive layer and removing portions of the ultra thin film underneath the photosensitive layer.

    摘要翻译： 提供了一种用于蚀刻超薄膜的方法，其包括提供其上形成有超薄膜的基板，对形成在超薄膜上的感光层进行图案化，使用图案化感光层蚀刻超薄膜，以及去除图案化感光层 层。 蚀刻工艺包括利用具有抗扩散性载体的蚀刻材料，使得防止蚀刻材料扩散到感光层下方的区域并去除感光层下面的超薄膜的部分。

    METHOD FOR ETCHING AN ULTRA THIN FILM
    8.
    发明申请
    METHOD FOR ETCHING AN ULTRA THIN FILM 有权
    蚀刻超薄膜的方法

    公开(公告)号：US20090311628A1

    公开(公告)日：2009-12-17

    申请号：US12137186

    申请日：2008-06-11

    申请人： George Liu ,  Kuei Shun Chen ,  Vencent Chang ,  Chih-Yang Yeh

    发明人： George Liu ,  Kuei Shun Chen ,  Vencent Chang ,  Chih-Yang Yeh

    IPC分类号： C09K13/04 ,  C23F1/00 ,  G03F7/20

    CPC分类号： H01L21/30604 ,  C09K13/00 ,  C09K13/02 ,  C09K13/06 ,  H01L21/308 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32134

    摘要： A method for etching an ultra thin film is provided which includes providing a substrate having the ultra thin film formed thereon, patterning a photosensitive layer formed over the ultra thin film, etching the ultra thin film using the patterned photosensitive layer, and removing the patterned photosensitive layer. The etching process includes utilizing an etch material with a diffusion resistant carrier such that the etch material is prevented from diffusing to a region underneath the photosensitive layer and removing portions of the ultra thin film underneath the photosensitive layer.

    摘要翻译： 提供了一种用于蚀刻超薄膜的方法，其包括提供其上形成有超薄膜的基板，对形成在超薄膜上的感光层进行图案化，使用图案化感光层蚀刻超薄膜，以及去除图案化感光层 层。 蚀刻工艺包括利用具有抗扩散性载体的蚀刻材料，使得防止蚀刻材料扩散到感光层下方的区域并去除感光层下面的超薄膜的部分。

    Fluoropolymer blend with high ionic conductivity
    9.
    发明授权
    Fluoropolymer blend with high ionic conductivity 有权
    含氟聚合物具有高离子电导率

    公开(公告)号：US07317052B2

    公开(公告)日：2008-01-08

    申请号：US10997850

    申请日：2004-11-29

    申请人： Jen-Luan Chen ,  Jhi-Hsien Huang ,  Wen-Liang Liu ,  Chih-Yang Yeh ,  Tsung-Lung Yang ,  Lon-Cheng Cheng

    发明人： Jen-Luan Chen ,  Jhi-Hsien Huang ,  Wen-Liang Liu ,  Chih-Yang Yeh ,  Tsung-Lung Yang ,  Lon-Cheng Cheng

    IPC分类号： C08L51/00

    CPC分类号： C08F214/225 ,  C08F8/36 ,  C08F259/06 ,  C08F2810/20 ,  C08J3/28 ,  C08J7/12 ,  C08L51/003 ,  C08F259/08 ,  C08F212/08 ,  C08L2666/04

    摘要： A fluoropolymer blend with high ionic conductivity that can be applied in electroactive polymer composite includes following components: PVDF-g-SPS (styrene-grafted and sulfonated PVDF); PVDF; and hydrocarbon- or fluoro-elastomer. PVDF-g-PS(styrene-grafted PVDF) □ PVDF and hydrocarbon- or fluoro-elastomer are mixed with specific proportion and being dissolved in an aprotic solvent □ the solution is then cast film on a substrate followed by sulfonation to give the aforementioned compound membrane. The obtained compound membrane has excellent properties, such as thermal stability, acid-alkali resistance, good mechanical performance, excellent flexibility, and capability for processing appropriate cross-link for further enhancing the mechanical performance of this membrane.

    摘要翻译： 可以应用于电活性聚合物复合材料中的具有高离子电导率的含氟聚合物共混物包括以下组分：PVDF-g-SPS（苯乙烯接枝和磺化PVDF）; PVDF; 和烃 - 或氟 - 弹性体。 PVDF-g-PS（苯乙烯接枝PVDF）□PVDF和烃 - 氟弹性体以特定比例混合并溶解在非质子溶剂中□然后将溶液流延到基材上，接着磺化，得到上述化合物 膜。 所获得的复合膜具有优异的性能，如热稳定性，耐酸碱性，良好的机械性能，优异的柔韧性，以及加工适当交联的能力，以进一步提高该膜的机械性能。