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    Imprint lithography template
    1.
    发明授权
    Imprint lithography template 有权
    印刷光刻模板

    公开(公告)号：US08877073B2

    公开(公告)日：2014-11-04

    申请号：US12604866

    申请日：2009-10-23

    申请人： Gerard M. Schmid ,  Douglas J. Resnick ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Frank Y. Xu

    发明人： Gerard M. Schmid ,  Douglas J. Resnick ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Frank Y. Xu

    IPC分类号： C25F3/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/00

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0017 ,  Y10T156/10

    摘要： Systems, methods, and processes for forming imprint lithography templates from a multi-layer substrate are described. The multi-layer substrate may include a block copolymer layer positioned on a substrate layer. The block copolymer layer may include two or more domains. At least one domain may have a different composition sensitivity than another domain such that the domains have different reactions to a specific process. Reaction of the domains to the specific process may provide a pattern in the block copolymer layer. The pattern may be transferred into the substrate layer to form the imprint lithography template.

    摘要翻译： 描述了用于从多层基板形成压印光刻模板的系统，方法和工艺。 多层基材可以包括位于基材层上的嵌段共聚物层。 嵌段共聚物层可以包括两个或更多个结构域。 至少一个结构域可能具有与另一个结构域不同的组成敏感性，使得这些结构域对特定过程具有不同的反应。 结构域与特定方法的反应可以提供嵌段共聚物层中的图案。 该图案可以被转移到基底层中以形成压印光刻模板。

    Imprint Lithography Template
    4.
    发明申请
    Imprint Lithography Template 有权
    印记平版印刷版

    公开(公告)号：US20100102029A1

    公开(公告)日：2010-04-29

    申请号：US12604866

    申请日：2009-10-23

    申请人： Gerard M. Schmid ,  Douglas J. Resnick ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Frank Y. Xu

    发明人： Gerard M. Schmid ,  Douglas J. Resnick ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  Frank Y. Xu

    IPC分类号： B44C1/22 ,  B05D5/00 ,  B32B37/02

    CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0017 ,  Y10T156/10

    摘要： Systems, methods, and processes for forming imprint lithography templates from a multi-layer substrate are described. The multi-layer substrate may include a block copolymer layer positioned on a substrate layer. The block copolymer layer may include two or more domains. At least one domain may have a different composition sensitivity than another domain such that the domains have different reactions to a specific process. Reaction of the domains to the specific process may provide a pattern in the block copolymer layer. The pattern may be transferred into the substrate layer to form the imprint lithography template.

    摘要翻译： 描述了用于从多层基板形成压印光刻模板的系统，方法和工艺。 多层基材可以包括位于基材层上的嵌段共聚物层。 嵌段共聚物层可以包括两个或更多个结构域。 至少一个结构域可能具有与另一个结构域不同的组成敏感性，使得这些结构域对特定过程具有不同的反应。 结构域与特定方法的反应可以提供嵌段共聚物层中的图案。 该图案可以被转移到基底层中以形成压印光刻模板。