公开(公告)号：US20120003585A1

公开(公告)日：2012-01-05

申请号：US13256167

申请日：2010-03-12

申请人： Hideaki Tsubaki ,  Koji Shirakawa ,  Tadateru Yatsuo ,  Toru Tsuchihashi ,  Tomotaka Tsuchimura

发明人： Hideaki Tsubaki ,  Koji Shirakawa ,  Tadateru Yatsuo ,  Toru Tsuchihashi ,  Tomotaka Tsuchimura

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046

摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition comprises (A) any of the compounds of General Formula (I) below and (B) a resin that contains the residue (c) of a compound having an ionization potential value lower than that of phenol and when acted on by an acid, exhibits an increased solubility in an alkali developer, wherein Ar represents an aromatic ring having Cy groups and optionally further other substituents, n is an integer of 2 or greater, Cy represents a group having a substituted or unsubstituted alkyl group or a group having a substituted or unsubstituted cycloaliphatic group, provided that a plurality of Cy groups may be identical with or different from each other, and M+ represents an organic onium ion.

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包含（A）下述通式（I）的任何化合物和（B）含有具有电离的化合物的残基（c）的树脂 电位值低于苯酚，当用酸作用时，在碱性显影剂中表现出增加的溶解度，其中Ar表示具有Cy基团和任选进一步其它取代基的芳环，n表示2以上的整数，Cy表示 具有取代或未取代的烷基的基团或具有取代或未取代的脂环族基团的基团，条件是多个Cy基团可以彼此相同或不同，M +表示有机鎓离子。

公开(公告)号：US08637222B2

公开(公告)日：2014-01-28

申请号：US13146976

申请日：2010-01-29

申请人： Toru Tsuchihashi ,  Tadateru Yatsuo ,  Koji Shirakawa ,  Hideaki Tsubaki ,  Akira Asano

发明人： Toru Tsuchihashi ,  Tadateru Yatsuo ,  Koji Shirakawa ,  Hideaki Tsubaki ,  Akira Asano

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/325

摘要： A resist pattern forming method including in the following order, (1) a step of forming a film by using a negative chemical-amplification resist composition capable of undergoing negative conversion by a crosslinking reaction, (2) a step of exposing the film, and (4) a step of developing the exposed film by using a developer containing an organic solvent; a developer and a negative chemical-amplification resist composition used therefor; and a resist pattern formed by the pattern forming method.

摘要翻译： 一种抗蚀剂图案形成方法，包括以下顺序：（1）通过使用能够通过交联反应进行负转化的负性化学增幅抗蚀剂组合物形成膜的步骤，（2）曝光所述膜的步骤，以及 （4）通过使用含有有机溶剂的显影剂使曝光的膜显影的步骤; 用于此的显影剂和负化学放大抗蚀剂组合物; 以及通过图案形成方法形成的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：US20110287234A1

公开(公告)日：2011-11-24

申请号：US13146976

申请日：2010-01-29

申请人： Toru Tsuchihashi ,  Tadateru Yatsuo ,  Koji Shirakawa ,  Hideaki Tsubaki ,  Akira Asano

发明人： Toru Tsuchihashi ,  Tadateru Yatsuo ,  Koji Shirakawa ,  Hideaki Tsubaki ,  Akira Asano

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  B32B3/14 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/325

摘要： A resist pattern forming method including in the following order, (1) a step of forming a film by using a negative chemical-amplification resist composition capable of undergoing negative conversion by a crosslinking reaction, (2) a step of exposing the film, and (4) a step of developing the exposed film by using a developer containing an organic solvent; a developer and a negative chemical-amplification resist composition used therefor; and a resist pattern formed by the pattern forming method.

摘要翻译： 一种抗蚀剂图案形成方法，包括以下顺序：（1）通过使用能够通过交联反应进行负转化的负性化学增幅抗蚀剂组合物形成膜的步骤，（2）曝光所述膜的步骤，以及 （4）通过使用含有有机溶剂的显影剂使曝光的膜显影的步骤; 用于此的显影剂和负化学放大抗蚀剂组合物; 以及通过图案形成方法形成的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：US20120094235A1

公开(公告)日：2012-04-19

申请号：US13320116

申请日：2010-05-20

申请人： Toru Tsuchihashi ,  Hideaki Tsubaki ,  Koji Shirakawa ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura

发明人： Toru Tsuchihashi ,  Hideaki Tsubaki ,  Koji Shirakawa ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (A) whose solubility in an alkali developer is increased by the action of an acid, the resin containing any of the units of general formula (AI) below and any of the units of general formula (AII) below, and a compound (B) that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid with any of the structures of general formula (BI) below.

摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括其在碱性显影剂中的溶解度通过酸的作用而增加的树脂（A），所述树脂包含任何通式（AI）的单元， 和下述通式（AII）的任何单元和当暴露于光化射线或辐射时产生具有以下通式（BI）的任何结构的酸的化合物（B）。

公开(公告)号：US08900791B2

公开(公告)日：2014-12-02

申请号：US13071153

申请日：2011-03-24

申请人： Tomotaka Tsuchimura ,  Koji Shirakawa ,  Toru Tsuchihashi ,  Hideaki Tsubaki

发明人： Tomotaka Tsuchimura ,  Koji Shirakawa ,  Toru Tsuchihashi ,  Hideaki Tsubaki

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  C07C309/25 ,  C07C309/28 ,  C07C309/42 ,  C07C309/29 ,  C07C309/35 ,  C07C309/38 ,  C07C309/39 ,  C07C309/44 ,  C07C309/59 ,  C07C323/66 ,  C07C381/12 ,  C07D209/82 ,  C07D339/08 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： C07C309/42 ,  C07C309/25 ,  C07C309/29 ,  C07C309/35 ,  C07C309/38 ,  C07C309/39 ,  C07C309/44 ,  C07C309/59 ,  C07C323/66 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/02 ,  C07C2601/04 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/18 ,  C07C2602/28 ,  C07C2602/42 ,  C07C2602/44 ,  C07C2603/24 ,  C07C2603/28 ,  C07C2603/74 ,  C07D209/82 ,  C07D339/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/122

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes any of the compounds of general formula (I) below; wherein: Ar represents an aromatic ring that may have a substituent other than the -(A-B) groups; n is an integer of 1 or greater; A represents any one, or a combination of two or more members selected from a single bond, an alkylene group, —O—, —S—, —C(═O)—, —S(═O)—, —S(═O)2— and —OS(═O)2—, provided that —C(═O)O— is excluded; B represents a group containing a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms wherein either a tertiary or a quaternary carbon atom is contained, when n is 2 or greater, the two or more -(A-B) groups may be identical to or different from each other; and M+ represents an organic onium ion.

摘要翻译： 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含下列通式（I）的任何化合物; 其中：Ar表示可以具有除 - （A-B）基团以外的取代基的芳香环; n是1或更大的整数; A表示选自单键，亚烷基，-O - ， - S - ， - C（= O） - ， - S（= O） - ， - S（ ≡O）2-和-OS（ΟO）2-，条件是不包括-C（= O）O-; B表示含有具有4个以上碳原子的烃基，其中含有叔或季碳原子的基团，当n为2以上时，两个以上（AB）基可以相同或不同， 其他; M +表示有机鎓离子。

公开(公告)号：US08852845B2

公开(公告)日：2014-10-07

申请号：US12641877

申请日：2009-12-18

申请人： Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Toru Tsuchihashi ,  Katsuhiro Yamashita ,  Hideaki Tsubaki

发明人： Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Toru Tsuchihashi ,  Katsuhiro Yamashita ,  Hideaki Tsubaki

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： Provided is a actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including (P) a resin containing (A) a repeating unit having an ionic structure moiety that contains a cation represented by formula (Ia) and is capable of producing an acid anion on the side chain upon irradiation with an actinic ray or radiation: wherein each of R1a to R13a independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent and may combine together to form a ring, and Z represents a single bond or a divalent linking group.

摘要翻译： 本发明提供一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（P）含有（A）具有离子性结构部分的重复单元的树脂，所述重复单元含有式（Ia）所示的阳离子，并且能够在 侧光在照射光化学射线或辐射时：其中R 1a至R 13a各自独立地表示氢原子或一价取代基，并且可以结合在一起形成环，Z表示单键或二价连接基团。

公开(公告)号：US08546063B2

公开(公告)日：2013-10-01

申请号：US13202389

申请日：2010-02-19

申请人： Hideaki Tsubaki ,  Koji Shirakawa ,  Toru Tsuchihashi

发明人： Hideaki Tsubaki ,  Koji Shirakawa ,  Toru Tsuchihashi

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/322

摘要： Provided is a pattern-forming method including, in the following order: (1) a process of forming a film with an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising a resin which contains an acid-decomposable repeating unit and is capable of decreasing the solubility in an organic solvent by the action of an acid; (2) a process of exposing the film with an electron beam or an EUV ray; and (4) a process of developing the film with a developer containing an organic solvent.

摘要翻译： 提供了一种图案形成方法，其包括以下顺序：（1）用含有光敏性或辐射敏感性树脂组合物形成膜的方法，所述树脂组合物包含含有酸可分解重复单元的树脂，并且能够 通过酸的作用降低有机溶剂中的溶解度; （2）用电子束或EUV射线曝光胶片的方法; 和（4）用含有机溶剂的显影剂显影该膜的方法。

公开(公告)号：US20110300485A1

公开(公告)日：2011-12-08

申请号：US13202389

申请日：2010-02-19

申请人： Hideaki Tsubaki ,  Koji Shirakawa ,  Toru Tsuchihashi

发明人： Hideaki Tsubaki ,  Koji Shirakawa ,  Toru Tsuchihashi

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/322

摘要： Provided is a pattern-forming method including, in the following order: (1) a process of forming a film with an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising a resin which contains an acid-decomposable repeating unit and is capable of decreasing the solubility in an organic solvent by the action of an acid; (2) a process of exposing the film with an electron beam or an EUV ray; and (4) a process of developing the film with a developer containing an organic solvent.

摘要翻译： 提供了一种图案形成方法，其包括以下顺序：（1）用含有光敏性或辐射敏感性树脂组合物形成膜的方法，所述树脂组合物包含含有酸可分解重复单元的树脂，并且能够 通过酸的作用降低有机溶剂中的溶解度; （2）用电子束或EUV射线曝光胶片的方法; 和（4）用含有机溶剂的显影剂显影该膜的方法。

公开(公告)号：US08637220B2

公开(公告)日：2014-01-28

申请号：US13172025

申请日：2011-06-29

申请人： Tomotaka Tsuchimura ,  Hideaki Tsubaki ,  Toshiya Takahashi

发明人： Tomotaka Tsuchimura ,  Hideaki Tsubaki ,  Toshiya Takahashi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (A) a guanidine compound having a logP value of 1.2 or more, and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.

摘要翻译： 一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）logP值为1.2以上的胍化合物，和（B）在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物。

公开(公告)号：US08603727B2

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：US13252657

申请日：2011-10-04

申请人： Takeshi Kawabata ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shuji Hirano ,  Hideaki Tsubaki

发明人： Takeshi Kawabata ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shuji Hirano ,  Hideaki Tsubaki

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26

CPC分类号： C08F220/38 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： An active light ray sensitive or radioactive ray sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, good pattern configuration, and good line edge roughness at the same time to a great extent, while having sufficiently good outgassing performance during exposure, and an active light ray sensitive or radioactive ray sensitive film formed by using the composition, and a pattern-forming method, are provided.The active light ray sensitive or radioactive ray sensitive resin composition according to the present invention includes a resin (P) containing a repeating unit (A) which decomposes by irradiation with active light ray or radioactive ray to generate an acid, and a repeating unit (C) containing a primary or secondary hydroxyl group.

摘要翻译： 一种主动光线敏感或放射线敏感性树脂组合物，同时在很大程度上满足高灵敏度，高分辨率，良好的图案构造和良好的线边缘粗糙度，同时在曝光期间具有足够好的除气性能，以及活性光 提供通过使用该组合物形成的射线敏感或放射线敏感膜和图案形成方法。 根据本发明的活性光线敏感或放射线敏感性树脂组合物包括含有通过用活性光线照射或放射线分解以产生酸的重复单元（A）的树脂（P）和重复单元（ C）含有伯或仲羟基。