公开(公告)号：US06171755B2

公开(公告)日：2001-01-09

申请号：US09201728

申请日：1998-11-30

申请人： Klaus Elian ,  Ewald G{umlaut over (u)}nther ,  Rainer Leuschner

发明人： Klaus Elian ,  Ewald G{umlaut over (u)}nther ,  Rainer Leuschner

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/405 ,  Y10S430/127

摘要： A chemically amplified resist for electron beam lithography contains the following components: a polymer with dissolution-inhibiting groups that can be cleaved with acid catalysis, a photo-reactive compound, which upon electron irradiation releases a sulfonic acid with a pKa value ≦2.5 (photo acid generator), an electron-beam-sensitive sensitizer enhancing the exposure sensitivity of the resist, such as a fluorene derivative, and a solvent.

摘要翻译： 用于电子束光刻的化学放大抗蚀剂包含以下组分：具有可用酸催化裂解的溶解抑制基团的聚合物，光电反应性化合物，其在电子照射下释放pKa值<= 2.5的磺酸（ 光产酸剂），增强抗蚀剂如芴衍生物和溶剂的曝光灵敏度的电子束敏感敏化剂。

公开(公告)号：US06251558B1

公开(公告)日：2001-06-26

申请号：US09065010

申请日：1998-04-23

申请人： Klaus Elian ,  Rainer Leuschner ,  Ewald Guenther

发明人： Klaus Elian ,  Rainer Leuschner ,  Ewald Guenther

IPC分类号： G06F7004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/116 ,  Y10S430/127

摘要： A chemically amplified resist contains the following components: a polymer with carboxylic acid anhydride groups and tert-butylester, tert-butoxycarbonyloxy, tetrahydrofuranyl, or tetrahydropyranyl groups; a photoreactive compound which, when exposed or electron-irradiated, releases a sulfonic acid having a pKa value>0.5 (acid former); a compound that can enter into a reversible chemical reaction with the sulfonic acid (buffer compound); and a solvent.

摘要翻译： 化学增幅抗蚀剂包含以下组分：具有羧酸酐基团的聚合物和叔丁基酯，叔丁氧羰基氧基，四氢呋喃基或四氢吡喃基;光反应性化合物，当暴露或电子辐照时，释放具有pKa 值> 0.5（酸成分）;可与磺酸（缓冲剂化合物）进行可逆化学反应的化合物; 和溶剂。

公开(公告)号：US09201123B2

公开(公告)日：2015-12-01

申请号：US13289735

申请日：2011-11-04

申请人： Klaus Elian ,  Thomas Mueller

发明人： Klaus Elian ,  Thomas Mueller

IPC分类号： G01R33/02 ,  G01R33/00 ,  H01F1/113 ,  H01F1/08

CPC分类号： G01R33/0047 ,  H01F1/083 ,  H01F1/113 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/48247 ,  Y10T29/49002 ,  Y10T29/49227 ,  H01L2924/00014

摘要： A magnetic sensor device includes a plurality of electrical wires, a magnetic sensor chip, and a magnet. The magnet is formed from a material composition of a polymer and magnetic particles and attached to at least one of the electrical wires.

摘要翻译： 磁传感器装置包括多根电线，磁传感器芯片和磁铁。 磁体由聚合物和磁性颗粒的材料组合物形成，并附着在至少一根电线上。

公开(公告)号：US20130187201A1

公开(公告)日：2013-07-25

申请号：US13358316

申请日：2012-01-25

申请人： Klaus Elian ,  Franz-Peter Kalz ,  Horst Theuss

发明人： Klaus Elian ,  Franz-Peter Kalz ,  Horst Theuss

IPC分类号： H01L29/84 ,  H01L29/66 ,  H01L21/50

CPC分类号： H01L29/84 ,  B81B2201/0235 ,  B81B2201/025 ,  B81B2201/0292 ,  B81B2203/0361 ,  B81C1/00246 ,  G01L1/20 ,  G01P15/124

摘要： A sensor device includes a semiconductor chip. The semiconductor chip has a sensing region sensitive to mechanical loading. A pillar is mechanically coupled to the sensing region.

摘要翻译： 传感器装置包括半导体芯片。 半导体芯片具有对机械负载敏感的感测区域。 支柱机械耦合到感测区域。

公开(公告)号：US20120038352A1

公开(公告)日：2012-02-16

申请号：US12857242

申请日：2010-08-16

申请人： Klaus Elian ,  Horst Theuss ,  Guenther Ruhl

发明人： Klaus Elian ,  Horst Theuss ,  Guenther Ruhl

IPC分类号： G01R33/02 ,  G01R33/06 ,  H05K13/00 ,  G01R1/04

CPC分类号： G01R33/072 ,  G01N27/72 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/48247 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/1815 ,  Y10T29/49002 ,  H01L2924/00012

摘要： A sensor package and a method for manufacturing a sensor package are disclosed. An embodiment comprises a sensor and a conductive line, wherein the sensor is arranged proximate to the conductive line. The sensor and the conductive line are isolated and at least partially encapsulated. A soft magnet is arranged in, on and/or around the encapsulation, wherein the soft magnet comprises a composition of an insulating material and a material having soft magnetic properties.

摘要翻译： 公开了传感器封装和制造传感器封装的方法。 实施例包括传感器和导线，其中传感器布置成靠近导电线。 传感器和导线被隔离并至少部分封装。 软磁体布置在封装的内部和/或周围，其中软磁体包括绝缘材料的组合物和具有软磁性质的材料。

公开(公告)号：US20110163395A1

公开(公告)日：2011-07-07

申请号：US12651623

申请日：2010-01-04

申请人： Thoralf Kautzsch ,  Marco Müller ,  Dirk Meinhold ,  Ben Rosam ,  Klaus Elian ,  Stefan Kolb

发明人： Thoralf Kautzsch ,  Marco Müller ,  Dirk Meinhold ,  Ben Rosam ,  Klaus Elian ,  Stefan Kolb

IPC分类号： H01L29/84 ,  H01L21/78

CPC分类号： B81C1/00071 ,  B81B2201/0264 ,  G01L9/0042

摘要： A method for providing a pressure sensor substrate comprises creating a first cavity that extends inside the substrate in a first direction perpendicular to a main surface of the substrate, and that extends inside the substrate, in a second direction perpendicular to the first direction, into a first venting area of the substrate; creating a second cavity that extends in the first direction inside the substrate, that extends in parallel to the first cavity in the second direction, and that does not extend into the first venting area; and opening the first cavity in the first venting area.

摘要翻译： 一种用于提供压力传感器基板的方法包括：在垂直于基板的主表面的第一方向上形成在基板内延伸的第一空腔，并且在垂直于第一方向的第二方向上延伸到基板的内部， 基板的第一通气区域; 形成第二空腔，该第二空腔沿第一方向在基板内延伸，该第二空腔在第二方向上平行于第一空腔延伸，并且不延伸到第一排气区域; 并打开第一个通风区域的第一个空腔。

公开(公告)号：US20100276769A1

公开(公告)日：2010-11-04

申请号：US12433531

申请日：2009-04-30

申请人： Horst Theuss ,  Klaus Elian

发明人： Horst Theuss ,  Klaus Elian

IPC分类号： H01L29/82 ,  H01L21/56 ,  H01L23/538

CPC分类号： H01L27/22 ,  B82Y25/00 ,  G01R33/093 ,  H01L21/561 ,  H01L21/568 ,  H01L23/3135 ,  H01L24/19 ,  H01L24/20 ,  H01L24/96 ,  H01L24/97 ,  H01L2224/04105 ,  H01L2224/21 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01075 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/1461 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/00

摘要： A semiconductor device includes a magnetic sensor chip, an electrically conducting layer wafer-level patterned in contact with the magnetic sensor chip, encapsulation material disposed on the magnetic sensor chip, and an array of external contact elements electrically coupled with the magnetic sensor chip through the electrically conducting layer.

摘要翻译： 一种半导体器件包括磁传感器芯片，与磁传感器芯片接触图案化的导电层晶片级，设置在磁传感器芯片上的封装材料以及通过该磁传感器芯片与磁传感器芯片电耦合的外部接触元件阵列 导电层。

公开(公告)号：US20100043530A1

公开(公告)日：2010-02-25

申请号：US12197623

申请日：2008-08-25

申请人： Klaus Elian ,  Albert Auburger

发明人： Klaus Elian ,  Albert Auburger

IPC分类号： G01N7/00 ,  G01L9/00

CPC分类号： H01L23/49575 ,  B81B7/0048 ,  B81C2203/0154 ,  G01L19/0092 ,  G01L19/141 ,  H01L24/45 ,  H01L24/48 ,  H01L24/49 ,  H01L25/16 ,  H01L2224/05554 ,  H01L2224/45124 ,  H01L2224/45144 ,  H01L2224/45147 ,  H01L2224/48137 ,  H01L2224/48247 ,  H01L2224/49171 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01046 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/10253 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/1433 ,  H01L2924/1461 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/1815 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2224/45015 ,  H01L2924/207

摘要： A sensor device. One embodiment provides a first sensor having a first sensor surface. The first sensor surface is exposed to allow sensing of a first variable. A second sensor has a second sensor surface. The second sensor surface is sealed to inhibit sensing of the first variable, and a mold material is embedded the first and second sensors.

摘要翻译： 传感器装置。 一个实施例提供了具有第一传感器表面的第一传感器。 暴露第一传感器表面以允许感测第一变量。 第二传感器具有第二传感器表面。 第二传感器表面被密封以阻止对第一变量的感测，并且模具材料嵌入在第一和第二传感器中。

公开(公告)号：US07160670B2

公开(公告)日：2007-01-09

申请号：US10340987

申请日：2003-01-13

申请人： Klaus Elian

发明人： Klaus Elian

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/405 ,  Y10S430/143 ,  Y10S430/146

摘要： A scintillating structure for aligning an electron or ion beam using a detector while exposing a wafer, which may be a wafer or mask, is described. The structure is formed by a resist including a polymer with carboxylic acid groups, anhydride groups, and an acid-sensitive group, for instance tert.-butylester; a photoreactive compound which releases an acid upon irradiation with UV light, electrons, or ions; a solvent; and at least one scintillating substance such as anthracene, naphthaline and/or 1,4-bis-(5-phenyl-2-oxazolyl)-benzol. After a developing and silylating step, the cross-linked structure is inert with respect to solvents of additional resists that are applied over the structure. The scintillating structure is thus not dissolved, which improves the quality of online controlled electron or ion beam writing.

摘要翻译： 描述了使用检测器对准电子或离子束的闪烁结构，同时暴露可能是晶片或掩模的晶片。 该结构由包含具有羧酸基团的聚合物，酸酐基和酸敏感基团的抗蚀剂形成，例如叔丁基酯; 在紫外线，电子或离子照射时释放酸的光反应性化合物; 溶剂; 和至少一种闪烁物质，例如蒽，萘和/或1,4-双 - （5-苯基-2-恶唑基） - 苯。 在显影和甲硅烷化步骤之后，相对于施加在结构上的附加抗蚀剂的溶剂，交联结构是惰性的。 闪烁结构因此不溶解，这提高了在线控制电子或离子束写入的质量。

公开(公告)号：US06821706B2

公开(公告)日：2004-11-23

申请号：US10627906

申请日：2003-07-25

申请人： Klaus Elian ,  Rafael Abargues

发明人： Klaus Elian ,  Rafael Abargues

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/093 ,  G03F7/2059 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/143

摘要： A polymerizable composition for use in electron beam lithography, according to the following structural formula: The formula use the following definitions. m is a number from 0.1 to 0.9. n is a number from 0.1 to 0.9 with m+n=1. I is an integer from 1 to 100. R1 is H, an alkyl, a halogen, an amine, a silicon compound, or a germanium compound, having a chain length of up to six carbon, silicon, or germanium atoms. R2 is H, an alkyl, a halogen, an amine, a silicon group, or a germanium compound, having a chain length of up to six carbon, silicon, or germanium atoms. R3 is an organic protective group which can be eliminated. A resist and a process using the resist utilize the polymerizable composition. The use of the polymerizable composition in a resist reduces or prevents charging of a substrate at high exposure sensitivity.

摘要翻译： 用于电子束光刻的可聚合组合物，根据以下结构式：该式使用以下定义。 m为0.1-0.9的数。 n为0.1〜0.9，m + n = 1。 I是1至100的整数.R 1是H，烷基，卤素，胺，硅化合物或锗化合物，具有多达六个碳，硅或锗原子的链长。 R2是具有至多六个碳，硅或锗原子的链长的H，烷基，卤素，胺，硅基团或锗化合物。 R3是可以除去的有机保护基。 抗蚀剂和使用抗蚀剂的方法利用可聚合组合物。 抗蚀剂中可聚合组合物的使用降低或防止以高曝光灵敏度对基材进行充电。