公开(公告)号：US5480532A

公开(公告)日：1996-01-02

申请号：US336769

申请日：1994-11-09

申请人： Martin Schlott ,  Martin Kutzner ,  Martin Weigert ,  Uwe Konietzka ,  Bruce Gehman ,  Shawn Vahlstrom

发明人： Martin Schlott ,  Martin Kutzner ,  Martin Weigert ,  Uwe Konietzka ,  Bruce Gehman ,  Shawn Vahlstrom

IPC分类号： C04B35/00 ,  C04B35/01 ,  C04B35/457 ,  C23C14/08 ,  C23C14/34

CPC分类号： C04B35/01 ,  C23C14/086 ,  C23C14/3414

摘要： A target for production of transparent electrically conductive layers by cathode sputtering is produced from indium oxide-tin oxide powder mixtures or coprecipitated indium oxide-tin oxide powders. A target with especially high mechanical strength consists of an oxide ceramic material into which metallic phase components have been incorporated in a uniform and finely distributed manner and which has a density of more than 96% of the theoretical density of indium oxide/tin oxide consisting purely of oxide.

摘要翻译： 通过阴极溅射制造透明导电层的目标是由氧化铟 - 氧化锡粉末混合物或共沉淀的氧化铟 - 氧化锡粉末制成。 具有特别高的机械强度的靶材由氧化物陶瓷材料组成，其中金属相组分以均匀和精细分布的方式引入其中，并且其密度大于纯的氧化铟/氧化锡的理论密度的96％ 的氧化物。

公开(公告)号：US06187253B1

公开(公告)日：2001-02-13

申请号：US08963053

申请日：1997-11-03

申请人： Martin Schlott ,  Wolfgang Dauth ,  Martin Kutzner ,  Bruce Gehman ,  Shawn Vahlstrom

发明人： Martin Schlott ,  Wolfgang Dauth ,  Martin Kutzner ,  Bruce Gehman ,  Shawn Vahlstrom

IPC分类号： C04B35457

CPC分类号： C04B35/6455 ,  C04B35/457 ,  C23C14/086 ,  C23C14/3414

摘要： An indium oxide/tin oxide powder with 5-15 wt. % tin oxide is subjected to an annealing treatment at T≧1, 000° C. and is then partially reduced and subjected to hot isostatic pressing to produce a sputtering target with a density of at least 95% of the theoretical density and a thermal conductivity of at least 14 Wm−1K−1.

摘要翻译： 具有5-15重量％的氧化铟/氧化锡粉末 氧化锡％在T> = 1000℃下进行退火处理，然后部分还原并进行热等静压，以产生密度为理论密度至少95％的热溅射靶 至少14 Wm-1K-1的电导率。

公开(公告)号：US5531948A

公开(公告)日：1996-07-02

申请号：US384181

申请日：1995-02-06

申请人： Martin Schlott ,  Martin Kutzner ,  Martin Weigert ,  Wolfgang Dauth ,  Bruce Gehman

发明人： Martin Schlott ,  Martin Kutzner ,  Martin Weigert ,  Wolfgang Dauth ,  Bruce Gehman

IPC分类号： C04B35/628 ,  C04B35/00 ,  C04B35/457 ,  C23C14/08 ,  C23C14/34 ,  H01L21/203 ,  B29C43/02

CPC分类号： C04B35/457 ,  C23C14/3414

摘要： The tin-containing component of a powder mixture includes SnO and is subjected to a mixing treatment with the In.sub.2 O.sub.3 before compaction to adjust the degree of reduction of the sputtering target in a simple and reproducible manner.

摘要翻译： 粉末混合物的含锡组分包括SnO，并且在压实之前用In2O3进行混合处理，以简单且可再现的方式调节溅射靶的还原程度。

公开(公告)号：US5728279A

公开(公告)日：1998-03-17

申请号：US356109

申请日：1994-12-15

申请人： Martin Schlott ,  Martin Weigert ,  Kwei Teng ,  Bruce Gehman

发明人： Martin Schlott ,  Martin Weigert ,  Kwei Teng ,  Bruce Gehman

IPC分类号： C22C19/07 ,  C23C14/14 ,  C23C14/34

CPC分类号： C22C19/07 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3414

摘要： Target for a magnetron-cathode sputtering apparatus is made from a cobalt base alloy containing additional elements in such concentrations that intermetallic phases are formed with at least one of these elements and intermetallic phases are observed on the basis of the phase diagram in the state of equilibrium at the operating temperature of the target. The grain boundaries, sub-grain boundaries, twin-grain boundaries or slip bands of the cobalt mixed crystal forming the matrix are decorated with the elements forming the intermetallic phases. X-ray diffraction diagrams made from the target display reflections of an intermetallic phase which is largely absent in the cast state and which forms only during a heat treatment in the temperature range below the solidus temperature of the alloy by a solid state reaction.

摘要翻译： 用于磁控阴极溅射装置的靶由含有这样浓度的附加元素的钴基合金制成，金属相形成在这些元素中的至少一个上，并且基于平衡状态下的相图观察金属间相 在目标的工作温度。 形成基体的钴混合晶体的晶界，亚晶界，双晶边界或滑带由形成金属间相的元素进行装饰。 由目标显示出的铸造状态中大部分不存在并且仅在通过固相反应在合金的固相线温度范围内的热处理期间形成的金属间化合物相的X射线衍射图。

公开(公告)号：US20060151320A1

公开(公告)日：2006-07-13

申请号：US11293544

申请日：2005-12-02

申请人： Martin Weigert ,  Markus Schultheis ,  Martin Schlott ,  Christoph Simons

发明人： Martin Weigert ,  Markus Schultheis ,  Martin Schlott ,  Christoph Simons

IPC分类号： C23C14/00

CPC分类号： H01J37/3435 ,  C23C14/3407

摘要： A tubular sputtering target with a target body and with an attachment device arranged at at least one end of the target body. The attachment device and/or an end cover are joined with the target body by material joining or positive locking.

摘要翻译： 具有目标体的管状溅射靶，并且具有布置在靶体的至少一端的附接装置。 附接装置和/或端盖通过材料接合或正锁定与目标主体接合。

公开(公告)号：US5660599A

公开(公告)日：1997-08-26

申请号：US524468

申请日：1995-09-07

申请人： Martin Schlott ,  Wolfgang Dauth ,  Martin Kutzner

发明人： Martin Schlott ,  Wolfgang Dauth ,  Martin Kutzner

IPC分类号： C04B35/457 ,  C04B35/645 ,  C23C14/34 ,  C05B19/00 ,  B29C59/00 ,  F27B9/04 ,  C23D14/00

CPC分类号： C23C14/3414 ,  C04B35/457 ,  C04B35/645

摘要： Compacted ITO material is ground to a powder with particles in the size range of less than 500 .mu.m, whereupon the powder thus obtained is molded into new target blanks, either alone or in a mixture with unused ITO powder, under the simultaneous action of pressure and temperature. The temperature is kept sufficiently low so that recrystallization does not take place and the original grain size is preserved.

摘要翻译： 将压实的ITO材料研磨成尺寸小于500μm的颗粒的粉末，由此得到的粉末在同时作用的压力下单独或与未使用的ITO粉末的混合物成型为新的靶坯料 和温度。 温度保持足够低，使得不发生再结晶，并保留原始晶粒尺寸。

公开(公告)号：US20090250337A1

公开(公告)日：2009-10-08

申请号：US11721677

申请日：2005-12-07

申请人： Christoph Simons ,  Martin Schlott ,  Markus Schultheis ,  Martin Weigert ,  Lars Gusseck

发明人： Christoph Simons ,  Martin Schlott ,  Markus Schultheis ,  Martin Weigert ,  Lars Gusseck

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/3414 ,  H01J37/3435

摘要： A tubular target is provided having a cylindrical carrier tube, at least one target tube arranged on its exterior surface, and a connecting layer arranged between the target tube and the carrier tube. The connecting layer is electrically conductive and has a wetting degree of >90%.

摘要翻译： 提供了一种管状靶，其具有圆柱形载体管，在其外表面上布置有至少一个靶管，以及布置在靶管和载体管之间的连接层。 连接层是导电的，并且具有> 90％的润湿度。

公开(公告)号：US09051646B2

公开(公告)日：2015-06-09

申请号：US13267407

申请日：2011-10-06

申请人： Andreas Herzog ,  Sabine Schneider-Betz ,  Martin Schlott ,  Christoph Stahr

发明人： Andreas Herzog ,  Sabine Schneider-Betz ,  Martin Schlott ,  Christoph Stahr

IPC分类号： C23C14/34 ,  C04B35/01

CPC分类号： C23C14/3414 ,  C04B35/01 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/6562 ,  C04B2235/6565 ,  C04B2235/6567

摘要： A sputtering target is provided which ensures the production of unvaryingly homogenous layers of the sputtering material during the lifespan of the sputtering target. The sputtering target includes a mixture of oxides of indium, zinc, and gallium, the mixture containing at least one ternary mixed oxide of indium, zinc, and gallium and at least one amorphous phase. The portion of ternary mixed oxides of indium, zinc, and gallium is at least 50 weight percent, relative to the total weight of the mixture, and the portion of amorphous phase is at least 20 weight percent, relative to the total weight of the mixture.

摘要翻译： 提供溅射靶，其确保在溅射靶的寿命期间生产不间断地均匀的溅射材料层。 溅射靶包括铟，锌和镓的氧化物的混合物，所述混合物含有至少一种铟，锌和镓的三元混合氧化物和至少一种非晶相。 铟，锌和镓的三元混合氧化物的部分相对于混合物的总重量为至少50重量％，相对于混合物的总重量，非晶相的部分为至少20重量％ 。

公开(公告)号：US20100038240A1

公开(公告)日：2010-02-18

申请号：US11993686

申请日：2006-06-13

申请人： Christoph Simons ,  Martin Schlott ,  Peter Preissler ,  Josef Heindel Josef Heindel

发明人： Christoph Simons ,  Martin Schlott ,  Peter Preissler ,  Josef Heindel Josef Heindel

IPC分类号： C09J9/02 ,  B32B27/20 ,  C23C14/34 ,  H01B1/02

CPC分类号： C09J9/02 ,  C08L63/00 ,  C09J11/04 ,  C23C14/3407 ,  H01J37/3435 ,  H05K3/321 ,  Y10T442/2738

摘要： An adhesive is provided, in particular for the adhesion of conductive materials, having at least one binder component and fillers, wherein the fillers contain fibers or a fiber-powder mixture and the fibers and/or powder contain an electrically conductive material. Further, an assembly is provided made of a sputtering target material and a carrier material with an adhesive.

摘要翻译： 提供粘合剂，特别是用于具有至少一种粘合剂组分和填料的导电材料的粘附，其中填料含有纤维或纤维粉末混合物，并且纤维和/或粉末含有导电材料。 此外，由溅射靶材料和具有粘合剂的载体材料制成组件。

公开(公告)号：US09334564B2

公开(公告)日：2016-05-10

申请号：US13365365

申请日：2012-02-03

申请人： Christoph Simons ,  Martin Schlott ,  Josef Heindel ,  Christoph Stahr

发明人： Christoph Simons ,  Martin Schlott ,  Josef Heindel ,  Christoph Stahr

IPC分类号： C23C14/34 ,  C22C28/00 ,  H01J37/34

CPC分类号： C23C14/3414 ,  C22C28/00 ,  C23C4/08 ,  C23C4/123 ,  C23C14/3407 ,  H01J37/342 ,  H01J37/3426 ,  Y02E10/541 ,  Y10T428/12396

摘要： A tube-shaped sputtering target is provided having a carrier tube and an indium-based sputtering material arranged on the carrier tube. The sputtering material has a microstructure having a mean grain size of less than 1 mm, measured as the mean diameter of the grains on the sputtering-roughened surface of the sputtering material.

摘要翻译： 提供了一种管状溅射靶，其具有布置在载体管上的载体管和铟基溅射材料。 溅射材料具有平均粒径小于1mm的微结构，作为溅射材料的溅射粗糙化表面上的晶粒的平均直径测量。