公开(公告)号：US07029727B1

公开(公告)日：2006-04-18

申请号：US09696220

申请日：2000-10-26

申请人： Masafumi Kokura ,  Yoshiharu Kataoka ,  Takayuki Shimada

发明人： Masafumi Kokura ,  Yoshiharu Kataoka ,  Takayuki Shimada

IPC分类号： C09K19/00 ,  G02F1/133 ,  G02F1/136

CPC分类号： G02F1/13439 ,  G02F1/136286 ,  G02F2001/13629 ,  G02F2001/136295 ,  G02F2201/07 ,  G02F2202/28 ,  G02F2203/02 ,  H01L27/12 ,  H01L27/124 ,  Y10T428/10 ,  Y10T428/1059 ,  Y10T428/1064 ,  Y10T428/1086 ,  Y10T428/1095 ,  Y10T428/31678

摘要： A thin film transistor (TFT) is formed on an insulating substrate, and a photosensitive resin film as an interlayer insulating film is formed so as to cover the TFT. Contact holes are formed in the photosensitive resin, and smooth concave and convex portions are provided on an upper surface of the resin. A film including molybdenum nitride (MoN) and a reflective pixel electrode film are successively laminated on the photosensitive resin. The nitrogen content in the MoN film may be between 5 atomic % and 30 atomic % inclusive.

摘要翻译： 在绝缘基板上形成薄膜晶体管（TFT），形成作为层间绝缘膜的感光性树脂膜，以覆盖TFT。 在感光性树脂中形成有接触孔，在树脂的上表面设置有平滑的凹凸部。 在感光性树脂上依次层叠包含氮化钼（MoN）和反射像素电极膜的膜。 MoN膜中的氮含量可以在5原子％至30原子％之间。

公开(公告)号：US20100033670A1

公开(公告)日：2010-02-11

申请号：US11908043

申请日：2006-02-23

申请人： Tetsuo Fujita ,  Masafumi Kokura ,  Mitsunori Harada ,  Hijiri Nakahara ,  Yoshiharu Kataoka

发明人： Tetsuo Fujita ,  Masafumi Kokura ,  Mitsunori Harada ,  Hijiri Nakahara ,  Yoshiharu Kataoka

IPC分类号： G02F1/1333 ,  H05K1/09 ,  H01L21/28 ,  B05D3/06 ,  B32B15/01 ,  B32B15/04

CPC分类号： G02F1/13439 ,  C23F4/00 ,  G02B5/0808 ,  G02F1/133555 ,  H01L27/124 ,  H01L29/458 ,  H01L29/66765 ,  Y10T428/12493

摘要： A difference of work functions in different metal thin films is suppressed without causing the increase of the manufacturing steps or the decrease of the optical performance. In a semi-transmissive reflective liquid crystal display apparatus 1 including a reflective electrode 62 and a transmissive electrode 63 in the pixel electrode 64, the surface of the reflective electrode 62 is subject to a plasma treatment, so that the work function of the reflective electrode 62 is controlled by changing by a value of 0.1 eV from the original value. Thus, it is possible to place the work function of the reflective electrode 62 within a difference of ±0.2 eV with respect to the work function of the transmissive electrode 63. As a result, a number of the manufacturing steps is not increased or no optical performance is decreased, unlike conventional liquid crystal display apparatuses. Even if the optimum direct current offset voltage is applied to one of the reflective electrode 62 and the transmissive electrode 63, it is possible to reduce the deterioration of an image display quality resulting from the difference with the optimum direct current offset voltage for the other electrode. As such, it is possible to improve the display quality of the liquid crystal display apparatus 1.

摘要翻译： 抑制不同的金属薄膜的功函数差，而不会导致制造步骤的增加或光学性能的降低。 在像素电极64中包括反射电极62和透射电极63的半透射反射型液晶显示装置1中，对反射电极62的表面进行等离子体处理，使得反射电极的功函数 62通过从原始值改变0.1eV的值来控制。 因此，可以将反射电极62的功函数相对于透射电极63的功函数设定在±0.2eV的差值内。结果，制造步骤的数量不增加或没有光学 与传统的液晶显示装置不同，性能下降。 即使将最佳的直流偏移电压施加到反射电极62和透射电极63中的一个，也可以减少由与另一个电极的最佳直流偏移电压的差异导致的图像显示质量的劣化 。 因此，可以提高液晶显示装置1的显示质量。

公开(公告)号：US07476936B2

公开(公告)日：2009-01-13

申请号：US10511427

申请日：2003-04-14

申请人： Masafumi Kokura ,  Yoshiharu Kataoka

发明人： Masafumi Kokura ,  Yoshiharu Kataoka

IPC分类号： H01L27/12

CPC分类号： H01L29/66765 ,  G02F1/136227 ,  G02F2001/13629 ,  H01L29/458

摘要： The substrate (10) of the present invention includes: a first electrode (26) and a second electrode (30). The second electrode (30) is formed on an insulation film (52) covering at least a part of the first electrode (26) and electrically connected with the first electrode (26) through a contact hole (50) formed in the insulation film (52). The first electrode (26) includes a laminated structure of a metal film (42) and a protective film (44). An etching rate of the metal film (42) is almost equal to an etching rate of the protective film (44) with respect to a first etching for forming the metal film (42) and the protective film (44). An etching rate of the protective film (44) is almost zero with respect to a second etching for forming the contact hole (50).

摘要翻译： 本发明的基板（10）包括：第一电极（26）和第二电极（30）。 第二电极（30）形成在覆盖第一电极（26）的至少一部分的绝缘膜（52）上，并通过形成在绝缘膜（26）中的接触孔（50）与第一电极 52）。 第一电极（26）包括金属膜（42）和保护膜（44）的叠层结构。 相对于用于形成金属膜（42）和保护膜（44）的第一蚀刻，金属膜（42）的蚀刻速率几乎等于保护膜（44）的蚀刻速率。 相对于用于形成接触孔（50）的第二蚀刻，保护膜（44）的蚀刻速率几乎为零。

公开(公告)号：US06568978B2

公开(公告)日：2003-05-27

申请号：US09814168

申请日：2001-03-22

申请人： Yoshiharu Kataoka ,  Takashi Fujikawa ,  Masafumi Kokura

发明人： Yoshiharu Kataoka ,  Takashi Fujikawa ,  Masafumi Kokura

IPC分类号： H01L21443

CPC分类号： G02F1/13439

摘要： A method for producing an electrode substrate, having an organic insulating region formed of an organic insulating material and an inorganic insulating region formed of an inorganic insulating material on an identical side thereof, includes the steps of performing a plasma treatment of the organic insulating region; forming a first transparent conductive layer in contact with the organic insulating region and a second transparent conductive layer in contact with the inorganic insulating region; and etching the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer in the same step.

摘要翻译： 一种具有由有机绝缘材料形成的有机绝缘区域和在其同一侧由无机绝缘材料形成的无机绝缘区域的电极基板的制造方法，包括以下步骤：对有机绝缘区域进行等离子体处理; 形成与有机绝缘区域接触的第一透明导电层和与无机绝缘区域接触的第二透明导电层; 并在同一步骤中蚀刻第一透明导电层和第二透明导电层。

公开(公告)号：US08125595B2

公开(公告)日：2012-02-28

申请号：US11908043

申请日：2006-02-23

申请人： Tetsuo Fujita ,  Masafumi Kokura ,  Mitsunori Harada ,  Hijiri Nakahara ,  Yoshiharu Kataoka

发明人： Tetsuo Fujita ,  Masafumi Kokura ,  Mitsunori Harada ,  Hijiri Nakahara ,  Yoshiharu Kataoka

IPC分类号： G02F1/1343

CPC分类号： G02F1/13439 ,  C23F4/00 ,  G02B5/0808 ,  G02F1/133555 ,  H01L27/124 ,  H01L29/458 ,  H01L29/66765 ,  Y10T428/12493

摘要： A difference of work functions in different metal thin films is suppressed without causing the increase of the manufacturing steps or the decrease of the optical performance. In a semi-transmissive reflective liquid crystal display apparatus 1 including a reflective electrode 62 and a transmissive electrode 63 in the pixel electrode 64, the surface of the reflective electrode 62 is subject to a plasma treatment, so that the work function of the reflective electrode 62 is controlled by changing by a value of 0.1 eV from the original value. Thus, it is possible to place the work function of the reflective electrode 62 within a difference of ±0.2 eV with respect to the work function of the transmissive electrode 63. As a result, a number of the manufacturing steps is not increased or no optical performance is decreased, unlike conventional liquid crystal display apparatuses. Even if the optimum direct current offset voltage is applied to one of the reflective electrode 62 and the transmissive electrode 63, it is possible to reduce the deterioration of an image display quality resulting from the difference with the optimum direct current offset voltage for the other electrode. As such, it is possible to improve the display quality of the liquid crystal display apparatus 1.

摘要翻译： 抑制不同的金属薄膜的功函数差，而不会导致制造步骤的增加或光学性能的降低。 在像素电极64中包括反射电极62和透射电极63的半透射反射型液晶显示装置1中，对反射电极62的表面进行等离子体处理，使得反射电极的功函数 62通过从原始值改变0.1eV的值来控制。 因此，可以将反射电极62的功函数相对于透射电极63的功函数设定在±0.2eV的差值内。结果，制造步骤的数量不增加或没有光学 与传统的液晶显示装置不同，性能下降。 即使将最佳的直流偏移电压施加到反射电极62和透射电极63中的一个，也可以减少由与另一个电极的最佳直流偏移电压的差异导致的图像显示质量的劣化 。 因此，可以提高液晶显示装置1的显示质量。

公开(公告)号：US20050255622A1

公开(公告)日：2005-11-17

申请号：US10511427

申请日：2003-04-14

申请人： Masafumi Kokura ,  Yoshiharu Kataoka

发明人： Masafumi Kokura ,  Yoshiharu Kataoka

IPC分类号： G02F1/1362 ,  H01L21/336 ,  H01L29/45 ,  H01L21/00 ,  H01L21/44 ,  H01L21/84

CPC分类号： H01L29/66765 ,  G02F1/136227 ,  G02F2001/13629 ,  H01L29/458

摘要： The substrate (10) of the present invention includes: a first electrode (26) and a second electrode (30). The second electrode (30) is formed on an insulation film (52) covering at least a part of the first electrode (26) and electrically connected with the first electrode (26) through a contact hole (50) formed in the insulation film (52). The first electrode (26) includes a laminated structure of a metal film (42) and a protective film (44). An etching rate of the metal film (42) is almost equal to an etching rate of the protective film (44) with respect to a first etching for forming the metal film (42) and the protective film (44). An etching rate of the protective film (44) is almost zero with respect to a second etching for forming the contact hole (50).

摘要翻译： 本发明的基板（10）包括：第一电极（26）和第二电极（30）。 第二电极（30）形成在覆盖第一电极（26）的至少一部分的绝缘膜（52）上，并且通过形成在绝缘膜（26）中的接触孔（50）与第一电极 52）。 第一电极（26）包括金属膜（42）和保护膜（44）的叠层结构。 相对于用于形成金属膜（42）和保护膜（44）的第一蚀刻，金属膜（42）的蚀刻速率几乎等于保护膜（44）的蚀刻速率。 相对于用于形成接触孔（50）的第二蚀刻，保护膜（44）的蚀刻速率几乎为零。

公开(公告)号：US20050190322A1

公开(公告)日：2005-09-01

申请号：US11063607

申请日：2005-02-24

申请人： Satoshi Okabe ,  Taketo Maruyama ,  Masafumi Kokura ,  Yoshiharu Kataoka

发明人： Satoshi Okabe ,  Taketo Maruyama ,  Masafumi Kokura ,  Yoshiharu Kataoka

IPC分类号： C23F1/20 ,  C23F1/26 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1343

CPC分类号： C23F1/20 ,  C23F1/26 ,  G02F1/133555 ,  G02F1/13439

摘要： The etching composition of the invention is capable of simultaneously etching the films of a three-layered laminate film comprising an uppermost amorphous transparent electrode film made of IZO, etc., an intermediate reflective electrode film made of Al, etc. and a lowermost galvanic corrosion-inhibiting film made of Mo, etc. or a two-layered laminate film comprising an upper amorphous transparent electrode film and a lower reflective electrode film by a sole use thereof in a single etching operation to provide an etched laminate film having an edge of a good normal-tapered or stepwise shape. The etching composition comprises an aqueous water containing 30 to 40% by weight of phosphoric acid, 15 to 35% by weight of nitric acid, an organic acid and a cation-generating component.

摘要翻译： 本发明的蚀刻组合物能够同时蚀刻由IZO等制成的最上层的非晶质透明电极膜，由Al等制成的中间反射电极膜和最低电化学腐蚀的三层叠层膜 由Mo等制成的薄膜等，或者在单次蚀刻操作中通过其唯一的用途将包含上部非晶形透明电极膜和下部反射电极膜的两层叠层膜提供给具有边缘的蚀刻层叠膜 良好的正锥形或逐步形状。 蚀刻组合物包含含有30〜40重量％的磷酸，15〜35重量％的硝酸，有机酸和产生阳离子的成分的含水水。

公开(公告)号：US08963152B2

公开(公告)日：2015-02-24

申请号：US12867510

申请日：2008-10-09

申请人： Shinya Tanaka ,  Tetsuo Kikuchi ,  Hajime Imai ,  Hideki Kitagawa ,  Yoshiharu Kataoka

发明人： Shinya Tanaka ,  Tetsuo Kikuchi ,  Hajime Imai ,  Hideki Kitagawa ,  Yoshiharu Kataoka

IPC分类号： H01L29/41 ,  H01L27/12 ,  G09G3/36

CPC分类号： H01L27/1214 ,  G02F2201/124 ,  G09G3/3648 ,  G09G2310/0297 ,  H01L27/124

摘要： A distance (d1) from an edge of a first region (R) at places (D) where branch electrodes (4b) extending, which branch off from an electrode line (4a) of a second source/drain electrode (4), start to overlap with a first region (R) to the electrode line (4a) is 5 μm or more. This realizes a TFT including a comb-shaped source/drain structure that enables easy repair of a source-drain leakage.

摘要翻译： 在从第二源极/漏极（4）的电极线（4a）延伸的分支电极（4b）延伸的位置（D）处的第一区域（R）的边缘的距离（d1）开始 与电极线（4a）的第一区域（R）重叠为5μm以上。 这实现了包括梳状源极/漏极结构的TFT，其能够容易地修复源极漏极泄漏。

公开(公告)号：US08716709B2

公开(公告)日：2014-05-06

申请号：US13701117

申请日：2011-05-18

申请人： Atsuhito Murai ,  Yoshiharu Kataoka ,  Takuya Watanabe ,  Yuhko Hisada ,  Satoshi Horiuchi

发明人： Atsuhito Murai ,  Yoshiharu Kataoka ,  Takuya Watanabe ,  Yuhko Hisada ,  Satoshi Horiuchi

IPC分类号： G01N27/414 ,  H01L23/64 ,  H01L31/08

CPC分类号： G01N27/4141 ,  G02F1/133 ,  G02F1/13306 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： The present invention provides an inexpensive display device that includes an ion sensor portion and a display and that can be miniaturized. The present invention is a display device that includes an ion sensor portion including an ion sensor circuit and a display including a display-driving circuit. The display device has a substrate, and at least one portion of the ion sensor circuit and at least one portion of the display-driving circuit are formed on the same main surface of the substrate.

摘要翻译： 本发明提供了一种廉价的显示装置，其包括离子传感器部分和显示器，并且可以小型化。 本发明是包括离子传感器部分的离子传感器部分和包括显示驱动电路的显示器的显示装置。 显示装置具有基板，离子传感器电路的至少一部分和显示驱动电路的至少一部分形成在基板的同一主面上。

公开(公告)号：US20130240746A1

公开(公告)日：2013-09-19

申请号：US13701123

申请日：2011-05-18

申请人： Atsuhito Murai ,  Yoshiharu Kataoka ,  Takuya Watanabe ,  Yuhko Hisada ,  Satoshi Horiuchi

发明人： Atsuhito Murai ,  Yoshiharu Kataoka ,  Takuya Watanabe ,  Yuhko Hisada ,  Satoshi Horiuchi

IPC分类号： G01T1/24

CPC分类号： G01T1/24 ,  G01N27/4148

摘要： The present invention provides an ion sensor and a display device which are capable of detecting positive ions and negative ions with high precision, at low cost. The ion sensor includes: a field effect transistor; an ion sensor antenna; and a capacitor, the ion sensor antenna and one terminal of the capacitor connected to a gate electrode of the field effect transistor, the other terminal of the capacitor receiving voltage.

摘要翻译： 本发明提供了能够以低成本高精度地检测正离子和负离子的离子传感器和显示装置。 离子传感器包括：场效应晶体管; 离子传感器天线; 和电容器，离子传感器天线和电容器的一端连接到场效应晶体管的栅电极，电容器的另一端接受电压。