公开(公告)号：US20090317739A1

公开(公告)日：2009-12-24

申请号：US12141307

申请日：2008-06-18

申请人： Muthiah Thiyagarajan ,  Yi Cao ,  Sung Eun Hong ,  Ralph R. Dammel

发明人： Muthiah Thiyagarajan ,  Yi Cao ,  Sung Eun Hong ,  Ralph R. Dammel

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F26/02 ,  C08K5/17 ,  C08K5/05

CPC分类号： C09D133/14 ,  C09D133/066 ,  C09D139/00 ,  G03F7/40

摘要： The present invention relates to an aqueous coating composition for coating a photoresist pattern, comprising a polymer comprising at least one unit with an alkylamino group, where the unit has a structure (1), where, R1 to R5 are independently selected from hydrogen and C1 to C6 alkyl, and W is C1 to C6 alkyl. The invention also relates to a process for imaging a photoresist layer using the present composition.

摘要翻译： 本发明涉及用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含有至少一个具有烷基氨基的单元的聚合物，其中该单元具有结构（1），其中R 1至R 5独立地选自氢和C 1 至C6烷基，W为C1至C6烷基。 本发明还涉及使用本发明组合物对光致抗蚀剂层进行成像的方法。

公开(公告)号：US07745077B2

公开(公告)日：2010-06-29

申请号：US12141307

申请日：2008-06-18

申请人： Muthiah Thiyagarajan ,  Yi Cao ,  Sung Eun Hong ,  Ralph R. Dammel

发明人： Muthiah Thiyagarajan ,  Yi Cao ,  Sung Eun Hong ,  Ralph R. Dammel

IPC分类号： G03F7/30

CPC分类号： C09D133/14 ,  C09D133/066 ,  C09D139/00 ,  G03F7/40

摘要： The present invention relates to an aqueous coating composition for coating a photoresist pattern, comprising a polymer comprising at least one unit with an alkylamino group, where the unit has a structure (1), where, R1 to R5 are independently selected from hydrogen and C1 to C6 alkyl, and W is C1 to C6 alkyl. The invention also relates to a process for imaging a photoresist layer using the present composition.

摘要翻译： 本发明涉及用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含有至少一个具有烷基氨基的单元的聚合物，其中该单元具有结构（1），其中R 1至R 5独立地选自氢和C 1 至C6烷基，W为C1至C6烷基。 本发明还涉及使用本发明组合物对光致抗蚀剂层进行成像的方法。

公开(公告)号：US20120219919A1

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：US13033912

申请日：2011-02-24

申请人： Muthiah Thiyagarajan ,  Ralph R. Dammel ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  WenBing Kang ,  Clement Anyadiegwu

发明人： Muthiah Thiyagarajan ,  Ralph R. Dammel ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  WenBing Kang ,  Clement Anyadiegwu

IPC分类号： G03F7/26

CPC分类号： G03F7/405

摘要： The present invention relates to an aqueous coating composition for coating a photoresist pattern comprising a polymer containing a lactam group of structure (1) where R1 is independently selected hydrogen, C1-C4 alkyl, C1-C6 alkyl alcohol, hydroxy (OH), amine (NH2), carboxylic acid, and amide (CONH2), represents the attachment to the polymer, m=1-6, and n=1-4.The present invention also relates to a process for manufacturing a microelectronic device comprising providing a substrate with a photoresist pattern, coating the photoresist pattern with the novel coating material reacting a portion of the coating material in contact with the photoresist pattern, and removing a portion of the coating material which is not reacted with a removal solution.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含有结构（1）的内酰胺基团的聚合物，其中R 1独立地选自氢，C 1 -C 4烷基，C 1 -C 6烷基醇，羟基（OH） （NH 2），羧酸和酰胺（CONH 2）表示与聚合物的连接，m = 1-6，n = 1-4。 本发明还涉及一种用于制造微电子器件的方法，包括提供具有光致抗蚀剂图案的基底，用新颖的涂层材料涂覆光致抗蚀剂图案，使一部分涂料与光致抗蚀剂图案接触，并且将一部分 不与去除溶液反应的涂料。

公开(公告)号：US07923200B2

公开(公告)日：2011-04-12

申请号：US11697804

申请日：2007-04-09

申请人： Muthiah Thiyagarajan ,  Ralph R. Dammel ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  WenBing Kang ,  Clement Anyadiegwu

发明人： Muthiah Thiyagarajan ,  Ralph R. Dammel ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  WenBing Kang ,  Clement Anyadiegwu

IPC分类号： G03F7/40

CPC分类号： G03F7/40 ,  C09D139/00

摘要： The present invention relates to an aqueous coating composition for coating a photoresist pattern comprising a polymer containing a lactam group of structure (1) where R1 is independently selected hydrogen, C1-C4 alkyl, C1-C6 alkyl alcohol, hydroxy (OH), amine (NH2), carboxylic acid, and amide (CONH2),  represents the attachment to the polymer, m=1-6, and n=1-4. The present invention also relates to a process for manufacturing a microelectronic device comprising providing a substrate with a photoresist pattern, coating the photoresist pattern with the novel coating material reacting a portion of the coating material in contact with the photoresist pattern, and removing a portion of the coating material which is not reacted with a removal solution.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含有结构（1）的内酰胺基团的聚合物，其中R 1独立地选自氢，C 1 -C 4烷基，C 1 -C 6烷基醇，羟基（OH） （NH 2），羧酸和酰胺（CONH 2）表示与聚合物的连接，m = 1-6，n = 1-4。 本发明还涉及一种用于制造微电子器件的方法，包括提供具有光致抗蚀剂图案的基底，用新颖的涂层材料涂覆光致抗蚀剂图案，使一部分涂料与光致抗蚀剂图案接触，并且将一部分 不与去除溶液反应的涂料。

公开(公告)号：US20080248427A1

公开(公告)日：2008-10-09

申请号：US11697804

申请日：2007-04-09

申请人： Muthiah Thiyagarajan ,  Ralph R. Dammel ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  WenBing Kang ,  Clement Anyadiegwu

发明人： Muthiah Thiyagarajan ,  Ralph R. Dammel ,  Yi Cao ,  SungEun Hong ,  WenBing Kang ,  Clement Anyadiegwu

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/40 ,  C09D139/00

摘要： The present invention relates to an aqueous coating composition for coating a photoresist pattern comprising a polymer containing a lactam group of structure (1) where R1 is independently selected hydrogen, C1-C4 alkyl, C1-C6 alkyl alcohol, hydroxy (OH), amine (NH2), carboxylic acid, and amide (CONH2), represents the attachment to the polymer, m=1-6, and n=1-4.The present invention also relates to a process for manufacturing a microelectronic device comprising providing a substrate with a photoresist pattern, coating the photoresist pattern with the novel coating material reacting a portion of the coating material in contact with the photoresist pattern, and removing a portion of the coating material which is not reacted with a removal solution.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含有结构（1）的内酰胺基团的聚合物，其中R 1独立地选自氢，C 1〜 C 1 -C 4烷基，C 1 -C 6烷基醇，羟基（OH），胺（NH 2） ），羧酸和酰胺（CONH 2 2），表示与聚合物的连接，m = 1-6，n = 1-4。 本发明还涉及一种用于制造微电子器件的方法，包括提供具有光致抗蚀剂图案的基底，用新颖的涂层材料涂覆光致抗蚀剂图案，使一部分涂料与光致抗蚀剂图案接触，并且将一部分 不与去除溶液反应的涂料。

公开(公告)号：US20100092895A1

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：US12449735

申请日：2008-02-25

申请人： Ruzhi Zhang ,  Wookyu Kim ,  David J. Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark O. Neissor ,  Ralph R. Dammel ,  Ari Karkkainen

发明人： Ruzhi Zhang ,  Wookyu Kim ,  David J. Abdallah ,  PingHung Lu ,  Mark O. Neissor ,  Ralph R. Dammel ,  Ari Karkkainen

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08G77/04 ,  C08G77/38

CPC分类号： C08G77/045 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3124

摘要： A polymer comprising a siloxane polymer having at least one Si—OH group and at least one Si—OR group, where R is condensation stabilizing group optionally having a reactive functional group, wherein the siloxane polymer, when placed into a solvent, has a weight average molecular weight increase of less than or equal to 50% after aging for one week at 40° C. as measured by GPC is provided.

摘要翻译： 包含具有至少一个Si-OH基团和至少一个Si-OR基团的硅氧烷聚合物的聚合物，其中R是任选具有反应性官能团的缩合稳定基团，其中所述硅氧烷聚合物在置于溶剂中时具有重量 提供了通过GPC测量的在40℃下老化1周后的平均分子量增加小于或等于50％。

公开(公告)号：US07537879B2

公开(公告)日：2009-05-26

申请号：US10994745

申请日：2004-11-22

申请人： Francis M. Houlihan ,  Ralph R. Dammel ,  Andrew R. Romano ,  Munirathna Padmanaban ,  M. Dalil Rahman

发明人： Francis M. Houlihan ,  Ralph R. Dammel ,  Andrew R. Romano ,  Munirathna Padmanaban ,  M. Dalil Rahman

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38 ,  G03C1/73

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： The present invention relates to a novel chemically amplified photoresist, which is sensitive to wavelengths between 300 nm and 100 nm, and comprises a) a novel polymer comprising a sulfone group pendant from a polymer backbone that is insoluble in an aqueous alkaline solution and comprises at least one acidic moiety protected with acid labile group, and b) a compound capable of producing an acid upon irradiation. The invention also relates to a process of imaging the novel positive photoresist composition.

摘要翻译： 本发明涉及一种对300nm至100nm之间的波长敏感的新型化学放大光致抗蚀剂，并且包括a）一种新型聚合物，其包含不溶于碱性水溶液的聚合物主链的侧基的砜基， 用酸不稳定基团保护的至少一个酸性部分，和b）在照射时能够产生酸的化合物。 本发明还涉及对新型正性光致抗蚀剂组合物进行成像的方法。

公开(公告)号：US07033728B2

公开(公告)日：2006-04-25

申请号：US10748778

申请日：2003-12-29

申请人： Ralph R. Dammel

发明人： Ralph R. Dammel

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/107 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143 ,  Y10S430/146

摘要： The present invention relates to a photosensitive composition useful at wavelengths between 300 nm and 10 nm which comprises a polymer containing a substituted or unsubstituted higher adamantane.

摘要翻译： 本发明涉及一种可用于300nm至10nm波长的光敏组合物，其包含含有取代或未取代的较高金刚烷的聚合物。

公开(公告)号：US06991888B2

公开(公告)日：2006-01-31

申请号：US10439472

申请日：2003-05-16

申请人： Munirathna Padmanaban ,  Takanori Kudo ,  Sangho Lee ,  Ralph R. Dammel ,  M. Dalil Rahman

发明人： Munirathna Padmanaban ,  Takanori Kudo ,  Sangho Lee ,  Ralph R. Dammel ,  M. Dalil Rahman

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F2/46 ,  C07C53/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/115

摘要： The present invention relates to a novel photoresist composition that can be developed with an aqueous alkaline solution, and is capable of being imaged at exposure wavelengths in the deep ultraviolet. The invention also relates to a process for imaging the novel photoresist as well as novel photoacid generators.The novel photoresist comprises a) a polymer containing an acid labile group, and b) a novel mixture of photoactive compounds, where the mixture comprises a lower absorbing compound selected from structure 1 and 2, and a higher absorbing compound selected from structure 4 and 5, where, R1 and R2 R5, R6, R7, R8, and R9 are defined herein; m=1–5; X− is an anion, and Ar is selected from naphthyl, anthracyl, and structure 3, where R30, R31, R32, R33, and R34 are defined herein.

摘要翻译： 本发明涉及一种可用碱性水溶液显影的新型光刻胶组合物，能够在深紫外线的曝光波长下成像。 本发明还涉及用于对新型光致抗蚀剂以及新型光酸产生剂进行成像的方法。 新型光致抗蚀剂包含a）含有酸不稳定基团的聚合物，和b）光活性化合物的新混合物，其中该混合物包含选自结构1和2的较低吸收化合物和选自结构4和5的较高吸收化合物 ，其中R 1和R 2 R 5，R 6，R 7，或N R 8，R 9和R 9在本文中定义; m = 1-5; X - 是阴离子，Ar选自萘基，蒽基和结构3，其中R 30，R 31，R SUB > 32，R 33和R 34在本文中定义。

公开(公告)号：US06800416B2

公开(公告)日：2004-10-05

申请号：US10042531

申请日：2002-01-09

申请人： Takanori Kudo ,  Munirathna Padmanaban ,  Ralph R. Dammel ,  Medhat A. Touky

发明人： Takanori Kudo ,  Munirathna Padmanaban ,  Ralph R. Dammel ,  Medhat A. Touky

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/108

摘要： The present invention relates to a novel negative working deep uv photoresist that is developable in an aqueous alkaline solution, and comprises a fluorinated polymer, photoactive compound and a crosslinking agent. The photoresist composition is particularly useful for patterning with exposure wavelengths of 193 nm and 157 nm.

摘要翻译： 本发明涉及一种可在碱性水溶液中显影的新型负极深紫外光致抗蚀剂，其包含氟化聚合物，光活性化合物和交联剂。 光致抗蚀剂组合物特别适用于193nm和157nm的曝光波长的图形化。