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    Photopatternable dielectric materials for BEOL applications and methods for use
    3.
    发明授权
    Photopatternable dielectric materials for BEOL applications and methods for use 有权
    用于BEOL应用的光图案介电材料和使用方法

    公开(公告)号：US08029971B2

    公开(公告)日：2011-10-04

    申请号：US12047435

    申请日：2008-03-13

    申请人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

    发明人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  G03F7/38

    CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

    摘要： Compositions, a method, and a photopatternable blend. The compositions include a blend of a first and a second polymer. The first polymer is a substituted silsesquioxane copolymer. The second polymer is a substituted silsesquioxane polymer. The second polymer is configured to undergo chemical crosslinking with the first polymer, the second polymer, or a combination thereof, upon exposure to light, thermal energy, or a combination thereof. The compositions include a photosensitive acid generator. The method includes forming a film. The film is patternwise imaged, and at least one region is exposed to radiation. After the imaging, the film is baked, wherein at least one exposed region is rendered substantially soluble. After the baking, the film is developed, wherein a relief pattern remains. The relief pattern is exposed to radiation. The relief pattern is baked. The relief pattern is cured. A chemically amplified positive-tone photopatternable blend is also described.

    摘要翻译： 组合，一种方法和一种光图案化混合物。 组合物包括第一和第二聚合物的共混物。 第一聚合物是取代的倍半硅氧烷共聚物。 第二聚合物是取代的倍半硅氧烷聚合物。 第二聚合物被配置为在暴露于光，热能或其组合时与第一聚合物，第二聚合物或其组合进行化学交联。 组合物包括光敏酸产生剂。 该方法包括形成膜。 膜被图案化成像，并且至少一个区域暴露于辐射。 在成像之后，烘烤该膜，其中至少一个曝光区域呈现基本上可溶的。 烘烤后，显影膜，其中保留有浮雕图案。 浮雕图案暴露于辐射。 浮雕图案被烘烤。 浮雕图案被修复。 还描述了化学放大的正色调可光图案化混合物。

    PHOTOPATTERNABLE DIELECTRIC MATERIALS FOR BEOL APPLICATIONS AND METHODS FOR USE
    4.
    发明申请
    PHOTOPATTERNABLE DIELECTRIC MATERIALS FOR BEOL APPLICATIONS AND METHODS FOR USE 有权
    用于BEOL应用的光电介质材料和使用方法

    公开(公告)号：US20090233226A1

    公开(公告)日：2009-09-17

    申请号：US12047435

    申请日：2008-03-13

    申请人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

    发明人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

    摘要： Compositions, a method, and a photopatternable blend. The compositions include a blend of a first and a second polymer. The first polymer is a substituted silsesquioxane copolymer. The second polymer is a substituted silsesquioxane polymer. The second polymer is configured to undergo chemical crosslinking with the first polymer, the second polymer, or a combination thereof, upon exposure to light, thermal energy, or a combination thereof. The compositions include a photosensitive acid generator. The method includes forming a film. The film is patternwise imaged, and at least one region is exposed to radiation. After the imaging, the film is baked, wherein at least one exposed region is rendered substantially soluble. After the baking, the film is developed, wherein a relief pattern remains. The relief pattern is exposed to radiation. The relief pattern is baked. The relief pattern is cured. A chemically amplified positive-tone photopatternable blend is also described.

    摘要翻译： 组合，一种方法和一种光图案化混合物。 组合物包括第一和第二聚合物的共混物。 第一聚合物是取代的倍半硅氧烷共聚物。 第二聚合物是取代的倍半硅氧烷聚合物。 第二聚合物被配置为在暴露于光，热能或其组合时与第一聚合物，第二聚合物或其组合进行化学交联。 组合物包括光敏酸产生剂。 该方法包括形成膜。 膜被图案化成像，并且至少一个区域暴露于辐射。 在成像之后，烘烤该膜，其中至少一个曝光区域呈现基本上可溶的。 烘烤后，显影膜，其中保留有浮雕图案。 浮雕图案暴露于辐射。 浮雕图案被烘烤。 浮雕图案被修复。 还描述了化学放大的正色调可光图案化混合物。

    Negative resists based on acid-catalyzed elimination of polar molecules
    10.
    发明授权
    Negative resists based on acid-catalyzed elimination of polar molecules 失效
    基于酸催化消除极性分子的负电阻

    公开(公告)号：US07393624B2

    公开(公告)日：2008-07-01

    申请号：US11820862

    申请日：2007-06-20

    申请人： Robert David Allen ,  Gregory Breyta ,  Phillip Joe Brock ,  Richard A. DiPietro ,  David R. Medeiros ,  Ratnam Sooriyakumaran

    发明人： Robert David Allen ,  Gregory Breyta ,  Phillip Joe Brock ,  Richard A. DiPietro ,  David R. Medeiros ,  Ratnam Sooriyakumaran

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F220/24 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395

    摘要： The present invention provides polymers that are useful in negative resist compositions. Polymers of the present invention comprise (1) a first monomer having a polar functional group; (2) a second monomer; and optionally, (3) a third monomer that imparts at least one characteristic selected from crosslinkable functionality, etch resistance, and solubility modulation. The first monomer provides an acid catalyzed polarity switch upon elimination of the polar functional group, whereas, the second monomer provides aqueous dissolution. The polymers of the present invention may be incorporated into negative resist compositions, which may also include photoacid generators, crosslinking agents, basic compounds, solvents, dissolution accelerators, photobase generators, latent basic compounds, surfactants, adhesion promoters, and anti-foaming agents.

    摘要翻译： 本发明提供了可用于负性抗蚀剂组合物的聚合物。 本发明的聚合物包含（1）具有极性官能团的第一单体; （2）第二单体; 和（3）赋予选自可交联官能团，耐蚀刻性和溶解度调制中的至少一种特性的第三单体。 第一单体在消除极性官能团时提供酸催化的极性开关，而第二单体提供水溶解。 本发明的聚合物可以并入负性抗蚀剂组合物，其还可以包括光酸产生剂，交联剂，碱性化合物，溶剂，溶解促进剂，光碱产生剂，潜碱性化合物，表面活性剂，粘合促进剂和消泡剂。