公开(公告)号：US20120058273A1

公开(公告)日：2012-03-08

申请号：US13223755

申请日：2011-09-01

申请人： Seung-Jun LEE ,  Gug Rae JO ,  Jae-Hyuk CHANG ,  Hyun-Seok KIM ,  Sung Hee LEE ,  Sang-Tae KIM ,  Yong Seok CHOI ,  Sung Bae MOON ,  In Kak SONG ,  Seung-Yong LEE

发明人： Seung-Jun LEE ,  Gug Rae JO ,  Jae-Hyuk CHANG ,  Hyun-Seok KIM ,  Sung Hee LEE ,  Sang-Tae KIM ,  Yong Seok CHOI ,  Sung Bae MOON ,  In Kak SONG ,  Seung-Yong LEE

IPC分类号： C09D11/10 ,  B05D5/00 ,  C08K5/101

CPC分类号： C09D11/10 ,  C08K5/0025 ,  C08K5/372 ,  G02B5/201

摘要： An ink composition, and a method of forming a pattern, a color filter and a method of manufacturing the color filter using the same. The ink composition includes a binder resin, a multifunctional monomer having an ethylenic unsaturated double bond, a coloring agent, a polymerization initiator containing a certain positive ion and a solvent. Therefore, the composition has excellent coating property and chemical resistance and also an improved adhesion to a printing member, and thus the ink composition may be useful in forming a precise micropattern using a roll printing method, particularly a reversed printing method.

摘要翻译： 油墨组合物，以及形成图案的方法，滤色器以及使用其制造滤色器的方法。 油墨组合物包括粘合剂树脂，具有烯属不饱和双键的多官能单体，着色剂，含有某种正离子的聚合引发剂和溶剂。 因此，该组合物具有优异的涂布性和耐化学性，并且还改善了与印刷部件的粘合性，因此该油墨组合物可用于使用辊印方法，特别是反转印刷法形成精确的微图案。

公开(公告)号：US20120162004A1

公开(公告)日：2012-06-28

申请号：US13334969

申请日：2011-12-22

申请人： Sang-Tae KIM ,  Gwangmoon Park ,  Seong-Yun Lee ,  Haeng-Sook Ro ,  Mi-kyung Suk ,  Yong-Seok Choi

发明人： Sang-Tae KIM ,  Gwangmoon Park ,  Seong-Yun Lee ,  Haeng-Sook Ro ,  Mi-kyung Suk ,  Yong-Seok Choi

IPC分类号： G01S13/02

CPC分类号： G01S3/74

摘要： Disclosed is an apparatus and method for estimating a direction of arrival (DOA) of a signal, which improves DOA estimation performance of a reception signal having a low signal to interference and noise ratio (SINR) in a communication system. In the method, a received signal is converted into a signal of a frequency region. A noise signal is separated from the signal converted into the signal of the frequency region. A noise region is filtered by setting an occupied bandwidth from the signal having the noise signal separated therefrom. A DOA of the signal obtained through the filtering of the noise region is estimated.

摘要翻译： 公开了一种用于估计信号的到达方向（DOA）的装置和方法，其提高了通信系统中具有低信噪比（SINR）的接收信号的DOA估计性能。 在该方法中，接收信号被转换为频率区域的信号。 噪声信号与被转换成频率区域的信号的信号分离。 通过从具有与其分离的噪声信号的信号设置占用带宽来对噪声区域进行滤波。 估计通过噪声区域的滤波获得的信号的DOA。

公开(公告)号：US20110077886A1

公开(公告)日：2011-03-31

申请号：US12750132

申请日：2010-03-30

申请人： Mi-Kyung SUK ,  Sang-Tae KIM ,  Gwangmoon PARK ,  Seong Yun LEE ,  Haeng Sook RO ,  Heung Yong KANG ,  Yong-Seok CHOI ,  Young Soo KIM ,  Seung Min SHIN

发明人： Mi-Kyung SUK ,  Sang-Tae KIM ,  Gwangmoon PARK ,  Seong Yun LEE ,  Haeng Sook RO ,  Heung Yong KANG ,  Yong-Seok CHOI ,  Young Soo KIM ,  Seung Min SHIN

IPC分类号： G01R23/16 ,  G01R23/00 ,  G06F19/00

CPC分类号： H04B17/0055 ,  H04B17/345 ,  H04W24/10 ,  H04W72/02

摘要： Provided is a method of selecting a white Gaussian noise sub-band using singular value decomposition (SVD). The method includes selecting a first frequency band, verifying whether a signal is included in the selected first frequency band, determining the first frequency band as a target measurement frequency when the signal is not included in the selected first frequency band, and measuring a background radio noise in the determined target measurement frequency.

摘要翻译： 提供了使用奇异值分解（SVD）来选择白高斯噪声子带的方法。 该方法包括选择第一频带，验证信号是否包含在所选择的第一频带中，当信号不包括在所选择的第一频带中时，将第一频带确定为目标测量频率，以及测量背景无线电 确定目标测量频率的噪声。

公开(公告)号：US20100034962A1

公开(公告)日：2010-02-11

申请号：US12539041

申请日：2009-08-11

申请人： Ahn-Ho LEE ,  Baik-Soon CHOI ,  Seung-Hyun AHN ,  Sang-Tae KIM ,  Yong-II KIM ,  Shi-Jin SUNG ,  Kyong-Ho LEE

发明人： Ahn-Ho LEE ,  Baik-Soon CHOI ,  Seung-Hyun AHN ,  Sang-Tae KIM ,  Yong-II KIM ,  Shi-Jin SUNG ,  Kyong-Ho LEE

IPC分类号： B05D3/10

CPC分类号： G03F7/168

摘要： In a thinner composition and a method of forming a photosensitive film, the thinner composition includes about 50 to about 90% by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate, about 1 to about 20% by weight of propylene glycol monomethyl ether, about 1 to about 10% by weight of γ-butyrolactone, and about 1 to about 20% by weight of n-butyl acetate. The thinner composition may have a proper volatility and an improved ability to dissolve various types of photosensitive materials, and thus the thinner composition may be usefully employed in an edge bead rinse process, a rework process or a pre-wetting process.

摘要翻译： 在较薄的组合物和形成感光膜的方法中，较薄的组合物包括约50至约90重量％的丙二醇单甲醚乙酸酯，约1至约20重量％的丙二醇单甲醚，约1至约 10重量％的γ-丁内酯和约1至约20重量％的乙酸正丁酯。 更薄的组合物可以具有适当的挥发性和改善溶解各种感光材料的能力，因此较薄的组合物可有效地用于边缘珠漂洗工艺，返工工艺或预润湿工艺。

公开(公告)号：US20120252148A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13223958

申请日：2011-09-01

申请人： Ji-Young PARK ,  Shin-Il CHOI ,  Jong-Hyun CHOUNG ,  Sang Gab KIM ,  Seon-Il KIM ,  Sang-Tae KIM ,  Joon-Woo LEE ,  Young-Chul PARK ,  Young-Jun JIN ,  Kyong-Min KANG ,  Suck-Jun LEE ,  O-Byoung KWON ,  In-Ho YU ,  Sang-Hoon JANG ,  Min-Ki LIM ,  Yu-Jin LEE

发明人： Ji-Young PARK ,  Shin-Il CHOI ,  Jong-Hyun CHOUNG ,  Sang Gab KIM ,  Seon-Il KIM ,  Sang-Tae KIM ,  Joon-Woo LEE ,  Young-Chul PARK ,  Young-Jun JIN ,  Kyong-Min KANG ,  Suck-Jun LEE ,  O-Byoung KWON ,  In-Ho YU ,  Sang-Hoon JANG ,  Min-Ki LIM ,  Yu-Jin LEE

IPC分类号： H01L33/36 ,  C09K13/08

CPC分类号： C09K13/08 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  H01L21/32134 ,  H01L27/1259 ,  H01L29/41733

摘要： An etchant according to exemplary embodiments of the present invention includes about 0.5 wt % to about 20 wt % of persulfate, about 0.01 wt % to about 2 wt % of a fluorine compound, about 1 wt % to about 10 wt % of inorganic acid, about 0.5 wt % to about 5 wt % of a cyclic amine compound, about 0.1 wt % to about 5 wt % of a chlorine compound, about 0.05 wt % to about 3 wt % of copper salt, about 0.1 wt % to about 10 wt % of organic acid or organic acid salt, and water.

摘要翻译： 根据本发明的示例性实施方案的蚀刻剂包括约0.5重量％至约20重量％的过硫酸盐，约0.01重量％至约2重量％的氟化合物，约1重量％至约10重量％的无机酸， 约0.5重量％至约5重量％的环胺化合物，约0.1重量％至约5重量％的氯化合物，约0.05重量％至约3重量％的铜盐，约0.1重量％至约10重量％ ％的有机酸或有机酸盐，和水。

公开(公告)号：US20120153287A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13168408

申请日：2011-06-24

申请人： Hong-Sick PARK ,  Wang-Woo LEE ,  Sang-Tae KIM ,  Joon-Woo LEE ,  Young-Chul PARK ,  Young-Jun JIN ,  Kyong-Min KANG ,  Young-Jin YOON ,  Suck-Jun LEE ,  O-Byoung KWON ,  In-Ho YU ,  Sang-Hoon JANG ,  Min-Ki LIM ,  Dong-Ki KIM

发明人： Hong-Sick PARK ,  Wang-Woo LEE ,  Sang-Tae KIM ,  Joon-Woo LEE ,  Young-Chul PARK ,  Young-Jun JIN ,  Kyong-Min KANG ,  Young-Jin YOON ,  Suck-Jun LEE ,  O-Byoung KWON ,  In-Ho YU ,  Sang-Hoon JANG ,  Min-Ki LIM ,  Dong-Ki KIM

IPC分类号： H01L33/16 ,  C09K13/08 ,  C09K13/06

CPC分类号： H01L27/127 ,  H01L21/32134 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1259 ,  H01L29/41733

摘要： An etchant includes: 5 to 20 wt % of persulfate, 1 to 10 wt % of at least one compound of an inorganic acid, an inorganic acid salt, or a mixture thereof, 0.3 to 5 wt % of a cyclic amine compound, 1 to 10 wt % of at least one compound of an organic acid, an organic acid salt, or a mixture thereof, 0.1 to 5 wt % of p-toluenesulfonic acid, and water, based on the total weight of the etchant. A copper-titanium etchant further includes 0.01 to 2 wt % of a fluoride-containing compound. A method of forming a display device using the etchant, and a display device, are also disclosed.

摘要翻译： 蚀刻剂包括：5〜20重量％的过硫酸盐，1〜10重量％的至少一种无机酸化合物，无机酸盐或其混合物，0.3〜5重量％的环状胺化合物，1〜 10重量％的至少一种有机酸，有机酸盐或其混合物的化合物，0.1至5重量％的对甲苯磺酸和水，基于蚀刻剂的总重量。 另外，铜 - 钛蚀刻剂还含有0.01〜2重量％的含氟化合物。 还公开了使用蚀刻剂形成显示装置的方法和显示装置。

公开(公告)号：US20110269309A1

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：US12981304

申请日：2010-12-29

申请人： Pil-Soon HONG ,  Gwui-Hyun PARK ,  Jin-Ho JU ,  Jean-Ho SONG ,  Sang-Tae KIM ,  Seong-Hyeon KIM ,  Won-Young CHANG ,  Jong-Heum YOON ,  Eun-Sang LEE ,  Min-Ju IM

发明人： Pil-Soon HONG ,  Gwui-Hyun PARK ,  Jin-Ho JU ,  Jean-Ho SONG ,  Sang-Tae KIM ,  Seong-Hyeon KIM ,  Won-Young CHANG ,  Jong-Heum YOON ,  Eun-Sang LEE ,  Min-Ju IM

IPC分类号： H01L21/3213 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： H01L27/1288 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/085 ,  G03F7/40 ,  H01L21/32139 ,  H01L27/1214

摘要： Provided are a photoresist composition having superior adhesion to an etch target film, a method of forming a pattern by using the photoresist composition, and a method of manufacturing a thin-film transistor (TFT) substrate. The photoresist composition includes an alkali-soluble resin; a photosensitive compound; a solvent; and 0.01 to 0.1 parts by weight of a compound represented by Formula 1: wherein R is one of hydrogen, an alkyl having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl having 4 to 8 carbon atoms, and a phenyl group.

摘要翻译： 提供了具有优异的与蚀刻目标膜的粘附性的光致抗蚀剂组合物，通过使用光致抗蚀剂组合物形成图案的方法，以及制造薄膜晶体管（TFT）基板的方法。 光致抗蚀剂组合物包括碱溶性树脂; 光敏化合物; 溶剂; 和0.01〜0.1重量份的由式1表示的化合物：其中R是氢，具有1至10个碳原子的烷基，具有4至8个碳原子的环烷基和苯基之一。

公开(公告)号：US20160315019A1

公开(公告)日：2016-10-27

申请号：US15084536

申请日：2016-03-30

申请人： Jung-Min OH ,  Mi-Hyun PARK ,  Hyo-San LEE ,  Ji-Hoon JEONG ,  Yong-Sun KO ,  In-Gi KIM ,  Na-Rim KIM ,  Sang-Tae KIM ,  Seong-Min KIM ,  Kyong-Ho LEE

发明人： Jung-Min OH ,  Mi-Hyun PARK ,  Hyo-San LEE ,  Ji-Hoon JEONG ,  Yong-Sun KO ,  In-Gi KIM ,  Na-Rim KIM ,  Sang-Tae KIM ,  Seong-Min KIM ,  Kyong-Ho LEE

IPC分类号： H01L21/8238 ,  H01L21/027 ,  H01L21/8234 ,  H01L29/16 ,  H01L21/311 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3105 ,  G03F7/42 ,  H01L21/266

CPC分类号： G03F7/426 ,  G03F7/039 ,  G03F7/42 ,  G03F7/422 ,  G03F7/425 ,  H01L21/266 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/823814 ,  H01L21/823828 ,  H01L29/16

摘要： A composition for removing photoresist, including an alkyl ammonium fluoride salt in an amount ranging from about 0.5 weight percent to about 10 weight percent, based on a total weight of the composition; an organic sulfonic acid in an amount ranging from about 1 weight percent to about 20 weight percent, based on the total weight of the composition; and a lactone-based solvent in an amount ranging from about 70 weight percent to about 98.5 weight percent, based on the total weight of the composition.

摘要翻译： 基于组合物的总重量，用于除去光致抗蚀剂的组合物，其包含约0.5重量％至约10重量％的烷基铵氟化物盐; 基于组合物的总重量的约1重量％至约20重量％的量的有机磺酸; 和基于组合物总重量的约70重量％至约98.5重量％的内酯类溶剂。