公开(公告)号：US20070299176A1

公开(公告)日：2007-12-27

申请号：US11341334

申请日：2006-01-27

申请人： Thomas Markley ,  Scott Weigel ,  Christine Kretz ,  Thomas Braymer ,  James Mac Dougall ,  Cecilia Petit

发明人： Thomas Markley ,  Scott Weigel ,  Christine Kretz ,  Thomas Braymer ,  James Mac Dougall ,  Cecilia Petit

IPC分类号： B05D3/02 ,  B05D3/06 ,  B60C1/00 ,  C08L83/04

CPC分类号： C09D183/04 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/3121 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/31695

摘要： A photodefinable, organosilicate material having a dielectric constant (κ) of 3.5 or below and a method for making and using same, for example, in an electronic device, is described herein. In one aspect, there is provided a composition for preparing a photodefinable material comprising: a silica source capable of being sol-gel processed and having a molar ratio of carbon to silicon within the silica source contained therein of at least 0.5 or greater; a photoactive compound; optionally a solvent; and water provided the composition contains 0.1% by weight or less of an added acid where the acid has a molecular weight of 500 or less.

摘要翻译： 本文描述了具有3.5或更低介电常数（κ）的可光缩合的有机硅酸盐材料及其制造和使用方法，例如在电子设备中。 一方面，提供了一种用于制备可光限定材料的组合物，其包含：能够进行溶胶 - 凝胶加工并且其中含有的二氧化硅源中的碳与硅的摩尔比至少为0.5以上的二氧化硅源; 光敏化合物; 任选的溶剂; 和水，只要该组合物含有0.1重量％以下的酸，其中酸的分子量为500以下。

公开(公告)号：US20080012074A1

公开(公告)日：2008-01-17

申请号：US11773570

申请日：2007-07-05

申请人： Thomas Braymer ,  Christine Kretz ,  Thomas Markley ,  Scott Weigel

发明人： Thomas Braymer ,  Christine Kretz ,  Thomas Markley ,  Scott Weigel

IPC分类号： H01L27/12 ,  C09D183/06

CPC分类号： H01L29/78603 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02362 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/316 ,  H01L27/1248 ,  H01L27/1292 ,  H01L29/4908 ,  H01L51/0096 ,  H01L51/0525

摘要： Traditionally, sol-gel silicates have been reported as being high temperature processable at 400 C to give reasonably dense films that showed good leakage current densities (

摘要翻译： 传统上，已经报道了溶胶 - 凝胶硅酸盐在400℃下是高温可加工的，以产生相当致密的膜，其表现出良好的漏电流密度（<5×10 -8 -8 A / cm 2 / >）。 最近我们已经发现，我们能够从135℃至250℃固化的溶胶 - 凝胶硅酸盐前体的特定组合制备薄膜，并提供良好的漏电流密度值（9×10 -9 -9） A / cm 2至1×10 -10 A / cm 2），尽管处理温度降低。 这些是在较低温度下固化的硅酸盐的一些例子，其中泄漏电流密度足够低以用作柔性或轻质薄膜晶体管的低温处理或可加工或可印刷的栅极电介质。 这些制剂也可用于薄膜晶体管和其它电子器件的不锈钢箔的平面化。

公开(公告)号：US20070296047A1

公开(公告)日：2007-12-27

申请号：US11752722

申请日：2007-05-23

申请人： Christine Kretz ,  William Burgoyne ,  Thomas Markley

发明人： Christine Kretz ,  William Burgoyne ,  Thomas Markley

IPC分类号： H01L29/786 ,  C08G65/00 ,  C08J3/28

CPC分类号： H01B3/427 ,  C08G65/40 ,  C08L71/00 ,  H01L51/052

摘要： The use of a poly(arylene ether) polymer as a passivation or gate dielectric layer in thin film transistors. This poly(arylene ether) polymer includes polymer repeat units of the following structure: —(O—Ar1—O—Ar2—O—)m—(—O—Ar3—O—Ar4—O)n— where Ar1, Ar2, Ar3, and Ar4 are identical or different aryl radicals, m is 0 to 1, n is 1−m, and at least one of the aryl radicals is grafted to the backbone of the polymer

摘要翻译： 使用聚（亚芳基醚）聚合物作为薄膜晶体管中的钝化或栅介质层。 该聚（亚芳基醚）聚合物包括具有以下结构的聚合物重复单元：<？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”→>（O-Ar 1 -O） - <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“tail”？>其中Ar <1> 2，Ar 3和Ar 4是相同或不同的芳基，m是0-1，n是1-m，并且至少一个 芳基被接枝到聚合物的主链上

公开(公告)号：US20050029490A1

公开(公告)日：2005-02-10

申请号：US10737203

申请日：2003-12-16

申请人： Hoshang Subawalla ,  Gene Parris ,  Christopher Mammarella ,  Bridget O'Brien ,  Keith Fabregas ,  Madhukar Rao ,  Christine Kretz

发明人： Hoshang Subawalla ,  Gene Parris ,  Christopher Mammarella ,  Bridget O'Brien ,  Keith Fabregas ,  Madhukar Rao ,  Christine Kretz

IPC分类号： C11D1/72 ,  C11D3/16 ,  C11D3/20 ,  C09K5/00

CPC分类号： C11D3/2031 ,  C11D1/72 ,  C11D3/164 ,  C11D3/2027

摘要： A dense cleaning fluid for removing contaminants from a substrate and a method comprising same is disclosed herein. In one embodiment of the present invention, the dense cleaning fluid comprises a dense fluid and at least one acetylenic diol or acetylenic alcohol surfactant.

摘要翻译： 用于从基底去除污染物的致密清洁流体及其包含方法在此公开。 在本发明的一个实施方案中，致密清洁流体包含致密流体和至少一种炔属二醇或炔属醇表面活性剂。

公开(公告)号：US20060013780A1

公开(公告)日：2006-01-19

申请号：US10894108

申请日：2004-07-19

申请人： Michael Ford ,  Christine Kretz ,  Kevin Lassila ,  Richard Underwood ,  Ingrid Meier

发明人： Michael Ford ,  Christine Kretz ,  Kevin Lassila ,  Richard Underwood ,  Ingrid Meier

IPC分类号： A61K8/46 ,  A61K8/60 ,  C07H5/04 ,  C04B14/00 ,  C07H5/06

CPC分类号： A01N25/30 ,  A61K8/60 ,  A61Q5/02 ,  A61Q19/10 ,  C07C215/14 ,  C07C217/08 ,  C07H15/04 ,  C11D1/42 ,  C11D3/30

摘要： Surfactant compositions containing compounds according to structure (I), and methods of making them, are disclosed. The compounds provide reduced dynamic and equilibrium surface tension, good solubility, moderate foaming, and good cleaning performance. The methods for making them involve reaction of N-(polyhydroxyalkyl)-alkylamines with dinitriles, dialdehydes, or acetals or hemiacetals of dialdehydes in the presence of hydrogen and a transition metal catalyst. In structure (I), x is an integer from about 1 to 12, R1 and R2 are independently C3-C30 linear alkyl, cyclic alkyl, branched alkyl, alkenyl, aryl, alkylaryl, alkoxyalkyl, and dialkylaminoalkyl; and R3 and R4 are independently hydrogen or a pyranosyl group such as α-D-glucopyranosyl, β-D-glucopyranosyl, or β-D-galactopyranosyl.

摘要翻译： 公开了含有根据结构（I）的化合物及其制备方法的表面活性剂组合物。 该化合物提供动态和平衡的表面张力降低，溶解性好，发泡适中，清洗性能好。 制备它们的方法包括在氢和过渡金属催化剂的存在下N-（多羟基烷基） - 烷基胺与二腈，二醛或缩醛或半醛的半缩醛的反应。 在结构（I）中，x为约1至12的整数，R 1和R 2独立为C 3 -C 30直链烷基，环烷基，支链烷基，烯基 ，芳基，烷基芳基，烷氧基烷基和二烷基氨基烷基; R 3和R 4独立地是氢或吡喃糖基，例如α-D-吡喃葡萄糖基，β-D-吡喃葡萄糖基或β-D-吡喃半乳糖基。

公开(公告)号：US20050029492A1

公开(公告)日：2005-02-10

申请号：US10635046

申请日：2003-08-05

申请人： Hoshang Subawalla ,  Gene Parris ,  Christopher Mammarella ,  Bridget O'Brien ,  Keith Fabregas ,  Madhukar Rao ,  Christine Kretz

发明人： Hoshang Subawalla ,  Gene Parris ,  Christopher Mammarella ,  Bridget O'Brien ,  Keith Fabregas ,  Madhukar Rao ,  Christine Kretz

IPC分类号： C11D1/72 ,  C11D3/16 ,  C11D3/20 ,  C09K13/06

CPC分类号： C11D3/2031 ,  C11D1/72 ,  C11D3/164 ,  C11D3/2027

摘要： A dense cleaning fluid for removing contaminants from an substrate and a method comprising same is disclosed herein. In one embodiment of the present invention, the dense cleaning fluid comprises a dense fluid and at least one acetylenic diol or acetylenic alcohol surfactant.

摘要翻译： 本文公开了用于从基底去除污染物的致密清洁流体和包含其的方法。 在本发明的一个实施方案中，致密清洁流体包含致密流体和至少一种炔属二醇或炔属醇表面活性剂。

公开(公告)号：US20050240002A1

公开(公告)日：2005-10-27

申请号：US10978542

申请日：2004-11-01

申请人： William Burgoyne ,  Christine Kretz

发明人： William Burgoyne ,  Christine Kretz

IPC分类号： C08G79/02

CPC分类号： C08J5/18 ,  C08G65/40 ,  C08G65/405 ,  C08G65/48 ,  C08J2371/12 ,  C08K3/34 ,  C08K9/04 ,  C08L71/12 ,  C08L71/08

摘要： Poly(arylene ether) polymers are provided having polymer repeat units of the following structure: wherein Ar1, Ar2, Ar3, and Ar4 are identical or different aryl radicals, m is 0 to 1, n is 1-m, and at least one of G1, G2, G3, G4, G5, G6, G7 and G8 is a hydroxyalkyl furan group. Thin films of the polymer and methods of making the polymer are also provided.

摘要翻译： 提供具有以下结构的聚合物重复单元的聚（亚芳基醚）聚合物：其中Ar 1，Ar 2，Ar 3和Ar 4是相同或不同的芳基，m是0-1，n是1-m，并且G 1，G 2， ，G 3，G 4，G 5，G 6，G 7，/ >和G 8是羟烷基呋喃基。 还提供聚合物的薄膜和制备聚合物的方法。