公开(公告)号：US06251560B1

公开(公告)日：2001-06-26

申请号：US09566395

申请日：2000-05-05

申请人： Thomas I. Wallow ,  Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Richard Anthony DiPietro ,  Hiroshi Ito ,  Hoa Dao Truong ,  Pushkara Rao Varanasi

发明人： Thomas I. Wallow ,  Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Richard Anthony DiPietro ,  Hiroshi Ito ,  Hoa Dao Truong ,  Pushkara Rao Varanasi

IPC分类号： B03F7004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039

摘要： Acid-catalyzed positive photoresist compositions which are imageable with 193 nm radiation (and possibly other radiation) and are developable to form photoresist structures of improved development characteristics and improved etch resistance are enabled by the use of resist compositions containing cyclic olefin polymer having a cyclic olefin monomer having a lactone moiety, the monomer having no oxygen atoms intervening between the lactone moiety and a ring of the cyclic olefin. Preferred lactone moieties are spirolactones (having a 5 or 6 membered ring) directly to a cyclic olefin ring.

摘要翻译： 通过使用含有具有环烯烃的环状烯烃聚合物的抗蚀剂组合物可以实现可用193nm辐射（和可能的其它辐射）成像并且可显影以形成改进的显影特性和改善的耐蚀刻性的光致抗蚀剂结构的酸性催化的正性光致抗蚀剂组合物 具有内酯部分的单体，所述单体不含有介于内酯部分和环状烯烃环之间的氧原子。 优选的内酯部分是直接与环烯烃环一起的螺内酯（具有5或6元环）。

公开(公告)号：US06420503B1

公开(公告)日：2002-07-16

申请号：US09497846

申请日：2000-02-03

申请人： Saikumar Jayaraman ,  Richard Vicari ,  Larry F. Rhodes ,  Pushkara Rao Varanasi ,  Thomas I. Wallow ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Robert D. Allen ,  Richard A. DiPietro ,  Hiroshi Ito ,  Juliann Opitz

发明人： Saikumar Jayaraman ,  Richard Vicari ,  Larry F. Rhodes ,  Pushkara Rao Varanasi ,  Thomas I. Wallow ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Robert D. Allen ,  Richard A. DiPietro ,  Hiroshi Ito ,  Juliann Opitz

IPC分类号： C08F2806

CPC分类号： C08F32/08 ,  C08G61/08

摘要： The invention is directed to polymers containing a repeating unit derived from a norbornene sulfonamide. These may be addition polymers which include copolymers with one or more comonomers such as norbornene, ethylene, an acrylate or sulfur dioxide or carbon monoxide. Said monomers may be polymerized using single or multicomponent Group VIII catalysts. The norbornene sulfonamides can also form ROMP polymers using known metathesis catalysts. Preferably the ROMP polymers may be hydrogenated to give more stable polymers.

摘要翻译： 本发明涉及含有衍生自降冰片烯磺酰胺的重复单元的聚合物。 这些可以是加成聚合物，其包括与一种或多种共聚单体如降冰片烯，乙烯，丙烯酸酯或二氧化硫或一氧化碳的共聚物。 所述单体可以使用单组分或多组分VIII族催化剂进行聚合。 降冰片烯磺酰胺也可以使用已知的复分解催化剂形成ROMP聚合物。 优选地，ROMP聚合物可以被氢化以得到更稳定的聚合物。

公开(公告)号：US06770419B2

公开(公告)日：2004-08-03

申请号：US10241937

申请日：2002-09-11

申请人： Mahmoud M. Khojasteh ,  Ranee W. Kwong ,  Kuang-Jung Chen ,  Pushkara Rao Varanasi ,  Robert D. Allen ,  Phillip Brock ,  Frances Houle ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Mahmoud M. Khojasteh ,  Ranee W. Kwong ,  Kuang-Jung Chen ,  Pushkara Rao Varanasi ,  Robert D. Allen ,  Phillip Brock ,  Frances Houle ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： G03C173

CPC分类号： G03F7/094 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

摘要： The silicon-containing resist compositions which have low silicon outgassing and high resolution lithographic performance, especially in bilayer or multilayer lithographic applications using 193 nm or shorter wavelength imaging radiation are enabled by the presence of an imaging polymer having silicon-containing, non-acid-labile pendant groups. The resist compositions of the invention are preferably further characterized by the substantial absence of silicon-containing acid-labile moieties.

公开(公告)号：US06818381B2

公开(公告)日：2004-11-16

申请号：US10026184

申请日：2001-12-21

申请人： Mahmoud M. Khojasteh ,  Timothy M. Hughes ,  Ranee W. Kwong ,  Pushkara Rao Varanasi ,  William R. Brunsvold ,  Margaret C. Lawson ,  Robert D. Allen ,  David R. Medeiros ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Phillip Brock

发明人： Mahmoud M. Khojasteh ,  Timothy M. Hughes ,  Ranee W. Kwong ,  Pushkara Rao Varanasi ,  William R. Brunsvold ,  Margaret C. Lawson ,  Robert D. Allen ,  David R. Medeiros ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Phillip Brock

IPC分类号： G03F711

CPC分类号： G03F7/094 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0758 ,  G11B5/3163

摘要： Compositions suitable for forming planarizing underlayers for multilayer lithographic processes are characterized by the presence of (A) a polymer containing: (i) cyclic ether moieties, (ii) saturated polycyclic moieties, and (iii) aromatic moieties for compositions not requiring a separate crosslinker, or (B) a polymer containing: (i) saturated polycyclic moieties, and (ii) aromatic moieties for compositions requiring a separate crosslinker. The compositions provide outstanding optical, mechanical and etch selectivity properties. The compositions are especially useful in lithographic processes using radiation less than 200 nm in wavelength to configure underlying material layers.

摘要翻译： 适用于形成用于多层平版印刷工艺的平坦化底层的组合物的特征在于（A）含有（i）环醚部分，（ii）饱和多环部分和（iii）不需要单独交联剂的组合物的芳族部分的聚合物 ，或（B）含有：（i）饱和多环部分的聚合物，和（ii）需要单独交联剂的组合物的芳族部分。 该组合物提供优异的光学，机械和蚀刻选择性。 组合物在使用波长小于200nm的辐射的光刻工艺中特别有用，以配置下层材料层。

公开(公告)号：US06927015B2

公开(公告)日：2005-08-09

申请号：US10920762

申请日：2004-08-18

申请人： Mahmoud M. Khojasteh ,  Timothy M. Hughes ,  Ranee W. Kwong ,  Pushkara Rao Varanasi ,  William R. Brunsvold ,  Margaret C. Lawson ,  Robert D. Allen ,  David R. Medeiros ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Phillip Brock

发明人： Mahmoud M. Khojasteh ,  Timothy M. Hughes ,  Ranee W. Kwong ,  Pushkara Rao Varanasi ,  William R. Brunsvold ,  Margaret C. Lawson ,  Robert D. Allen ,  David R. Medeiros ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Phillip Brock

IPC分类号： C08F30/08 ,  C08F32/00 ,  C08F230/08 ,  C08K5/41 ,  C08K5/54 ,  C08L43/04 ,  C08L45/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09 ,  G11B5/31 ,  H01L21/027 ,  G03F7/40 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/094 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0758 ,  G11B5/3163

摘要： Compositions suitable for forming planarizing underlayers for multilayer lithographic processes are characterized by the presence of (A) a polymer containing: (i) cyclic ether moieties, (ii) saturated polycyclic moieties, and (iii) aromatic moieties for compositions not requiring a separate crosslinker, or (B) a polymer containing: (i) saturated polycyclic moieties, and (ii) aromatic moieties for compositions requiring a separate crosslinker. The compositions provide outstanding optical, mechanical and etch selectivity properties. The compositions are especially useful in lithographic processes using radiation less than 200 nm in wavelength to configure underlying material layers.

摘要翻译： 适用于形成用于多层平版印刷工艺的平坦化底层的组合物的特征在于（A）含有（i）环醚部分，（ii）饱和多环部分和（iii）不需要单独交联剂的组合物的芳族部分的聚合物 ，或（B）含有：（i）饱和多环部分的聚合物，和（ii）需要单独交联剂的组合物的芳族部分。 该组合物提供优异的光学，机械和蚀刻选择性。 组合物在使用波长小于200nm的辐射的光刻工艺中特别有用，以配置下层材料层。

公开(公告)号：US07919225B2

公开(公告)日：2011-04-05

申请号：US12126287

申请日：2008-05-23

申请人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Geraud Jean-Michel Dubois ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Sampath Purushothaman ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Geraud Jean-Michel Dubois ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Sampath Purushothaman ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/0757 ,  C08L83/14 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126 ,  C08L83/00

摘要： A method and a composition. The composition includes at least one carbosilane-substituted silsesquioxane polymer which crosslinks in the presence of an acid. The at least one carbosilane-substituted silsesquioxane polymer is soluble in aqueous base. The method includes forming a coating on a substrate. The coating includes one or more carbosilane-substituted silsesquioxane polymers. The carbosilane-substituted silsesquioxane polymer is soluble in aqueous base. The coating is exposed to radiation, resulting in generating a latent pattern in the coating. The exposed coating is baked at a first temperature less than about 150° C. The baked coating is developed, resulting in forming a latent image from the latent pattern in the baked coating. The latent image is cured at a second temperature less than about 500° C.

摘要翻译： 方法和组成。 该组合物包括在酸存在下交联的至少一种碳硅烷取代的倍半硅氧烷聚合物。 所述至少一种碳硅烷取代的倍半硅氧烷聚合物可溶于碱水溶液。 该方法包括在基底上形成涂层。 涂层包括一种或多种碳硅烷取代的倍半硅氧烷聚合物。 碳硅烷取代的倍半硅氧烷聚合物可溶于碱水溶液。 涂层暴露于辐射，导致在涂层中产生潜在图案。 暴露的涂层在小于约150℃的第一温度下烘烤。烘烤的涂层被显影，从而在烘烤涂层中从潜在图案形成潜像。 潜像在低于约500℃的第二温度下固化

公开(公告)号：US20090291389A1

公开(公告)日：2009-11-26

申请号：US12126287

申请日：2008-05-23

申请人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Geraud Jean-Michel Dubois ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Sampath Purushothaman ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Geraud Jean-Michel Dubois ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Sampath Purushothaman ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： G03F7/075 ,  C08G77/12 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0757 ,  C08L83/14 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126 ,  C08L83/00

摘要： A method and a composition. The composition includes at least one carbosilane-substituted silsesquioxane polymer which crosslinks in the presence of an acid. The at least one carbosilane-substituted silsesquioxane polymer is soluble in aqueous base. The method includes forming a coating on a substrate. The coating includes one or more carbosilane-substituted silsesquioxane polymers. The carbosilane-substituted silsesquioxane polymer is soluble in aqueous base. The coating is exposed to radiation, resulting in generating a latent pattern in the coating. The exposed coating is baked at a first temperature less than about 150° C. The baked coating is developed, resulting in forming a latent image from the latent pattern in the baked coating. The latent image is cured at a second temperature less than about 500° C.

摘要翻译： 方法和组成。 该组合物包括在酸存在下交联的至少一种碳硅烷取代的倍半硅氧烷聚合物。 所述至少一种碳硅烷取代的倍半硅氧烷聚合物可溶于碱水溶液。 该方法包括在基底上形成涂层。 涂层包括一种或多种碳硅烷取代的倍半硅氧烷聚合物。 碳硅烷取代的倍半硅氧烷聚合物可溶于碱水溶液。 涂层暴露于辐射，导致在涂层中产生潜在图案。 暴露的涂层在小于约150℃的第一温度下烘烤。烘烤的涂层被显影，从而在烘烤涂层中从潜在图案形成潜像。 潜像在低于约500℃的第二温度下固化

公开(公告)号：US08029971B2

公开(公告)日：2011-10-04

申请号：US12047435

申请日：2008-03-13

申请人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Compositions, a method, and a photopatternable blend. The compositions include a blend of a first and a second polymer. The first polymer is a substituted silsesquioxane copolymer. The second polymer is a substituted silsesquioxane polymer. The second polymer is configured to undergo chemical crosslinking with the first polymer, the second polymer, or a combination thereof, upon exposure to light, thermal energy, or a combination thereof. The compositions include a photosensitive acid generator. The method includes forming a film. The film is patternwise imaged, and at least one region is exposed to radiation. After the imaging, the film is baked, wherein at least one exposed region is rendered substantially soluble. After the baking, the film is developed, wherein a relief pattern remains. The relief pattern is exposed to radiation. The relief pattern is baked. The relief pattern is cured. A chemically amplified positive-tone photopatternable blend is also described.

摘要翻译： 组合，一种方法和一种光图案化混合物。 组合物包括第一和第二聚合物的共混物。 第一聚合物是取代的倍半硅氧烷共聚物。 第二聚合物是取代的倍半硅氧烷聚合物。 第二聚合物被配置为在暴露于光，热能或其组合时与第一聚合物，第二聚合物或其组合进行化学交联。 组合物包括光敏酸产生剂。 该方法包括形成膜。 膜被图案化成像，并且至少一个区域暴露于辐射。 在成像之后，烘烤该膜，其中至少一个曝光区域呈现基本上可溶的。 烘烤后，显影膜，其中保留有浮雕图案。 浮雕图案暴露于辐射。 浮雕图案被烘烤。 浮雕图案被修复。 还描述了化学放大的正色调可光图案化混合物。

公开(公告)号：US20090233226A1

公开(公告)日：2009-09-17

申请号：US12047435

申请日：2008-03-13

申请人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

发明人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Compositions, a method, and a photopatternable blend. The compositions include a blend of a first and a second polymer. The first polymer is a substituted silsesquioxane copolymer. The second polymer is a substituted silsesquioxane polymer. The second polymer is configured to undergo chemical crosslinking with the first polymer, the second polymer, or a combination thereof, upon exposure to light, thermal energy, or a combination thereof. The compositions include a photosensitive acid generator. The method includes forming a film. The film is patternwise imaged, and at least one region is exposed to radiation. After the imaging, the film is baked, wherein at least one exposed region is rendered substantially soluble. After the baking, the film is developed, wherein a relief pattern remains. The relief pattern is exposed to radiation. The relief pattern is baked. The relief pattern is cured. A chemically amplified positive-tone photopatternable blend is also described.

摘要翻译： 组合，一种方法和一种光图案化混合物。 组合物包括第一和第二聚合物的共混物。 第一聚合物是取代的倍半硅氧烷共聚物。 第二聚合物是取代的倍半硅氧烷聚合物。 第二聚合物被配置为在暴露于光，热能或其组合时与第一聚合物，第二聚合物或其组合进行化学交联。 组合物包括光敏酸产生剂。 该方法包括形成膜。 膜被图案化成像，并且至少一个区域暴露于辐射。 在成像之后，烘烤该膜，其中至少一个曝光区域呈现基本上可溶的。 烘烤后，显影膜，其中保留有浮雕图案。 浮雕图案暴露于辐射。 浮雕图案被烘烤。 浮雕图案被修复。 还描述了化学放大的正色调可光图案化混合物。

公开(公告)号：US07749422B2

公开(公告)日：2010-07-06

申请号：US11694117

申请日：2007-03-30

申请人： Robert D. Allen ,  Mark W. Hart ,  Frances Houle ,  Hiroshi Ito

发明人： Robert D. Allen ,  Mark W. Hart ,  Frances Houle ,  Hiroshi Ito

IPC分类号： B29C35/08

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  Y10S977/887

摘要： An imprint process comprising coating a selected surface of a micropatterned template with a release composition having a basic reactive moiety; wherein the template is transparent to UV radiation; imprinting the template onto a photocationically curable composition; curing the UV curable composition to form an imprinted composition, wherein the release composition having a basic reactive moiety is effective to locally inhibit curing of the composition at an interface between the template and the imprinted composition; and releasing the template from the imprinted composition.

摘要翻译： 一种压印方法，包括用具有碱性反应性部分的释放组合物涂布微图案化模板的选定表面; 其中所述模板对UV辐射是透明的; 将模板印刷在光固化组合物上; 固化可UV固化组合物以形成印迹组合物，其中具有碱性反应性部分的释放组合物有效地局部抑制组合物在模板和印迹组合物之间的界面处的固化; 并从印迹组合物释放模板。