公开(公告)号：US5267390A

公开(公告)日：1993-12-07

申请号：US685748

申请日：1991-04-15

申请人： Duck J. Yang ,  Joseph A. Antonelli ,  Melville J. Camelon ,  Tyau-Jeen Lin ,  Hirotsugu Yasuda

发明人： Duck J. Yang ,  Joseph A. Antonelli ,  Melville J. Camelon ,  Tyau-Jeen Lin ,  Hirotsugu Yasuda

IPC分类号： C23C16/02 ,  C23C16/30 ,  C23C16/46

CPC分类号： C23C16/0272 ,  C23C16/30 ,  Y10S29/037 ,  Y10T29/49986

摘要： A process for improved corrosion protection of a metal substrates involving organic vapor deposition of a thin film by polymerization of certain precursors onto one side of the phosphated flat metal substrate (15). Following stamping and assembly of the metal substrate, a primer and topcoat may be applied over the other side of the metal substrate. The process is particularly applicable to coil steel employed in the original manufacture of automobiles, trucks, and parts thereof.

摘要翻译： 一种用于改善金属基材的腐蚀保护的方法，其涉及通过将某些前体聚合成磷酸化的平坦金属基材（15）的一侧来进行薄膜的有机气相沉积。 在金属基板的冲压和组装之后，可以在金属基板的另一侧上施加底漆和面漆。 该方法特别适用于汽车，卡车及其部件的原始制造中使用的线圈钢。

公开(公告)号：US5182000A

公开(公告)日：1993-01-26

申请号：US789485

申请日：1991-11-12

申请人： Joseph A. Antonelli ,  Tyau-Jeen Lin ,  Duck J. Yang ,  Hirotsugu Yasuda

发明人： Joseph A. Antonelli ,  Tyau-Jeen Lin ,  Duck J. Yang ,  Hirotsugu Yasuda

IPC分类号： B32B15/08 ,  B05D3/04 ,  B05D7/14 ,  C23C16/02 ,  C23C16/50 ,  C23F4/00 ,  C25D13/20

CPC分类号： C25D13/20

摘要： This invention relates to the use of low temperature plasma technology for significantly improved corrosion protection of metals. The plasma process involves pretreatment of the surface of the metal with a gas plasma comprising argon, hydrogen, or mixtures thereof, followed by plasma deposition of a thin polymeric film on the treated surface, followed by cathodic electrocoat application of a primer.

摘要翻译： 本发明涉及低温等离子体技术在显着改善金属腐蚀保护方面的应用。 等离子体处理涉及用包括氩，氢或其混合物的气体等离子体预处理金属表面，然后在处理过的表面上等离子体沉积薄的聚合物膜，然后阴极电涂涂布底漆。

公开(公告)号：US5312529A

公开(公告)日：1994-05-17

申请号：US968512

申请日：1992-10-29

申请人： Joseph A. Antonelli ,  Tyau-Jeen Lin ,  Duck J. Yang ,  Hirotsugu Yasuda

发明人： Joseph A. Antonelli ,  Tyau-Jeen Lin ,  Duck J. Yang ,  Hirotsugu Yasuda

IPC分类号： B32B15/08 ,  B05D3/04 ,  B05D7/14 ,  C23C16/02 ,  C23C16/50 ,  C23F4/00 ,  C25D13/20 ,  C25D13/12

CPC分类号： C25D13/20

摘要： This invention relates to the use of low temperature plasma technology for significantly improved corrosion protection of metals. The plasma process involves pretreatment of the surface of the metal with a gas plasma to remove oxygen, followed by plasma deposition of a thin polymeric film on the treated surface, followed by cathodic electrocoat application of a primer.

摘要翻译： 本发明涉及低温等离子体技术在显着改善金属腐蚀保护方面的应用。 等离子体处理涉及用气体等离子体预处理金属表面以除去氧气，然后在处理过的表面上等离子体沉积薄的聚合物膜，然后阴极电涂涂底漆。

公开(公告)号：US5270082A

公开(公告)日：1993-12-14

申请号：US685747

申请日：1991-04-15

申请人： Tyau-Jeen Lin ,  Joseph A. Antonelli ,  Duck J. Yang ,  Hirotsugu Yasuda

发明人： Tyau-Jeen Lin ,  Joseph A. Antonelli ,  Duck J. Yang ,  Hirotsugu Yasuda

IPC分类号： C08G61/02 ,  C23C16/02 ,  C23C16/30 ,  C23C16/46

CPC分类号： C23C16/0272 ,  C08G61/025 ,  C23C16/30 ,  C08G2261/3424

摘要： A process of organic vapor deposition for significantly improved corrosion protection of metal. The process involves deposition of a thin film by polymerization of certain precursors onto the surface of a metal phosphate treated metal substrate (15). A primer or topcoat is subseqently applied over the metal substrate.

摘要翻译： 有机气相沉积工艺可显着改善金属的防腐蚀性能。 该方法包括通过将某些前体聚合到金属磷酸盐处理的金属基底（15）的表面上沉积薄膜。 将底漆或面漆依次施加在金属基材上。

公开(公告)号：US4980196A

公开(公告)日：1990-12-25

申请号：US480356

申请日：1990-02-14

申请人： Hirotsugu Yasuda ,  Tyau-Jeen Lin ,  Duck J. Yang ,  Joseph A. Antonelli

发明人： Hirotsugu Yasuda ,  Tyau-Jeen Lin ,  Duck J. Yang ,  Joseph A. Antonelli

IPC分类号： B05D3/04 ,  B05D3/14 ,  B05D7/00 ,  B05D7/14 ,  B05D7/24 ,  B32B15/08 ,  C09D161/20 ,  C09D161/28 ,  C09D163/00 ,  C09D175/00 ,  C09D175/04 ,  C09D175/06 ,  C09D183/00 ,  C09D183/04 ,  C23C16/02 ,  C23C16/40 ,  C23C16/50 ,  C23C16/503

CPC分类号： B05D1/62 ,  B05D3/142 ,  B05D3/147 ,  C23C16/0245 ,  C23C16/401 ,  C23C16/503 ,  B05D2202/10 ,  B05D2451/00 ,  B05D2518/10 ,  B05D7/542

摘要： This invention relates to the use of low temperature plasma technology for significantly improved corrosion protection of steel. The plasma process involves pretreating of the steel surfaces by oxygen plasma and thin film deposition by polymerization of certain precursors on the steel. The process utilizes DC power, substrates as the cathode, magentron anodes, and system pressures of 0.01-0.5 torr. After the thin film plasma deposition it is also preferably to put a primer coating over the thin film.

摘要翻译： 本发明涉及使用低温等离子体技术来显着改善钢的腐蚀保护。 等离子体工艺包括通过氧等离子体和钢板上的某些前体的聚合使薄膜沉积来预处理钢表面。 该工艺利用直流电源，基板作为阴极，磁控阳极，系统压力为0.01-0.5乇。 在薄膜等离子体沉积之后，还优选将底漆涂布在薄膜上。

公开(公告)号：US4981713A

公开(公告)日：1991-01-01

申请号：US480355

申请日：1990-02-14

申请人： Hirotsugu Yasuda ,  Duck J. Yang

发明人： Hirotsugu Yasuda ,  Duck J. Yang

IPC分类号： C08F2/00 ,  B01J19/08 ,  B05D7/24 ,  C08F2/52 ,  C09D183/04 ,  C23C16/50

CPC分类号： B05D1/62 ,  B01J19/088 ,  B05D2518/10

摘要： This invention relates to the use of plasma technology for coating thin polymer films on steel. The process utilizes DC power, system pressures of 0.01-1.0 torr, the steel substrate is made the cathode, and the anodes are equipped with magnetic enhancement. The result is a uniform, pin-hole free, dense organic coating. Furthermore, there is minimal deposition of the organic film on the anodes or interior of the chamber.

摘要翻译： 本发明涉及等离子体技术在钢上涂覆薄聚合物薄膜的应用。 该工艺采用直流电源，系统压力为0.01-1.0乇，钢基底为阴极，阳极配备磁力增强。 结果是均匀的针孔无密实有机涂层。 此外，在阳极或室内部存在有机膜的最小沉积。

公开(公告)号：US4501805A

公开(公告)日：1985-02-26

申请号：US564250

申请日：1983-12-22

申请人： Hirotsugu Yasuda ,  Johannes A. van Lier

发明人： Hirotsugu Yasuda ,  Johannes A. van Lier

IPC分类号： H01M2/08

CPC分类号： H01M2/08

摘要： Galvanic cells employing compressible gaskets having at least a portion of the sealing areas of such gaskets coated with plasma deposited fluorine atoms demonstrate increased resistance to electrolyte leakage.

摘要翻译： 使用具有涂覆有等离子体沉积的氟原子的这种衬垫的至少一部分密封区域的可压缩衬垫的电镀细胞表现出对电解质泄漏的增加的抗性。

公开(公告)号：US20050143685A1

公开(公告)日：2005-06-30

申请号：US10490240

申请日：2002-09-19

申请人： Isabelle Peyron ,  Hirotsugu Yasuda

发明人： Isabelle Peyron ,  Hirotsugu Yasuda

IPC分类号： A61M11/04 ,  A61J1/03 ,  A61M15/00 ,  B05D5/08 ,  B05D7/24 ,  B65D25/14 ,  B65D83/38 ,  B65D83/44 ,  A61N1/30

CPC分类号： B05D1/60 ,  A61M15/009 ,  A61M2205/0222 ,  B05D1/62 ,  B05D5/083

摘要： A medicament dispenser comprising a canister and a drug dispensing valve, wherein one or more surfaces of said canister and/or valve has a fluorinated coating provided by a process comprising generating one or more fluorine-containing radical species and polymerising said radicals on said one or more surfaces, provided that the radicals are not generated by a process involving continuous wave radio frequency plasma polymerisation is disclosed.

摘要翻译： 一种药物分配器，其包括罐和药物分配阀，其中所述罐和/或阀的一个或多个表面具有氟化涂层，所述氟化涂层由包括产生一种或多种含氟自由基物质并在所述一种或多种 公开了更多的表面，条件是自由基不是由涉及连续波射频等离子体聚合的过程产生的。

公开(公告)号：US20050201945A1

公开(公告)日：2005-09-15

申请号：US10493327

申请日：2002-10-23

申请人： Cecile Bonvoisin ,  Ignatius Britto ,  Ralf Greger ,  Christophe Laroche ,  Verna Lo ,  Johan Palmers ,  Isabelle Denise Peyron ,  Anthony Vanlandeghem ,  Hirotsugu Yasuda

发明人： Cecile Bonvoisin ,  Ignatius Britto ,  Ralf Greger ,  Christophe Laroche ,  Verna Lo ,  Johan Palmers ,  Isabelle Denise Peyron ,  Anthony Vanlandeghem ,  Hirotsugu Yasuda

IPC分类号： A61M15/00 ,  B05D3/14 ,  B05D5/08 ,  B05D7/22 ,  B05D7/24 ,  B65D83/14 ,  A61M11/00 ,  A61L9/04

CPC分类号： B05D1/62 ,  B05D3/142 ,  B05D5/083 ,  B05D7/22 ,  B65D83/14

摘要： A dispenser for dispensing a medicament that includes a canister for housing the medicament and a fluid propellant therefor and a drug-dispensing valve wherein one or more of the internal surfaces of the canister and/or valve includes a fluorinated coating prepared from plasma polymerisation of one or more fluorinated monomers selected from the group consisting of CH2FCF3 and C3F6 is disclosed.

摘要翻译： 一种用于分配药物的分配器，其包括用于容纳药物的罐和用于其的流体推进剂和药物分配阀，其中罐和/或阀的一个或多个内表面包括由等离子体聚合制成的氟化涂层 或更多的氟化单体，其选自CH 2 COF 3 3 F 3和C 3 F 6 C 6。

公开(公告)号：US4032440A

公开(公告)日：1977-06-28

申请号：US633140

申请日：1975-11-18

申请人： Hirotsugu Yasuda

发明人： Hirotsugu Yasuda

IPC分类号： B01D31/00 ,  B01D13/00

CPC分类号： B01D69/127

摘要： A semipermeable composite membrane is prepared by glow discharge polymerization of a combination of an organic monomer and an inorganic monomer in the presence of a porous support, the polymerization resulting in deposition of a thin film of copolymer on the surface of the support.