公开(公告)号：US08318613B2

公开(公告)日：2012-11-27

申请号：US12934365

申请日：2009-03-02

申请人： Werner Stockum ,  Ingo Koehler ,  Arjan Meijer ,  Paul Craig Brookes ,  Katie Patterson ,  Mark James

发明人： Werner Stockum ,  Ingo Koehler ,  Arjan Meijer ,  Paul Craig Brookes ,  Katie Patterson ,  Mark James

IPC分类号： H01L21/316 ,  C08G77/60

CPC分类号： C23C18/12

摘要： The present invention relates to compositions, which are useful for the generation of patterned or structured SiO2-layers or of SiO2-lines during the manufacturing process of semiconductor devices, and which are suitable for the application in inkjet operations. The present invention also relates to a modified process of manufacturing semiconductor devices taking advantage of these new compositions.

摘要翻译： 本发明涉及组合物，其可用于在半导体器件的制造过程中产生图案化或结构化的SiO 2层或SiO 2线，并且适用于在喷墨操作中的应用。 本发明还涉及利用这些新组合物制造半导体器件的改进方法。

公开(公告)号：US20110021037A1

公开(公告)日：2011-01-27

申请号：US12934365

申请日：2009-03-02

申请人： Werner Stockum ,  Ingo Koehler ,  Arjan Meijer ,  Paul Craig Brookes ,  Katie Patterson ,  Mark James

发明人： Werner Stockum ,  Ingo Koehler ,  Arjan Meijer ,  Paul Craig Brookes ,  Katie Patterson ,  Mark James

IPC分类号： H01L21/314 ,  H01B1/12

CPC分类号： C23C18/12

摘要： The present invention relates to compositions, which are useful for the generation of patterned or structured SiO2-layers or of SiO2-lines during the manufacturing process of semiconductor devices, and which are suitable for the application in inkjet operations. The present invention also relates to a modified process of manufacturing semiconductor devices taking advantage of these new compositions.

摘要翻译： 本发明涉及组合物，其可用于在半导体器件的制造过程中产生图案化或结构化的SiO 2层或SiO 2线，并且适用于在喷墨操作中的应用。 本发明还涉及利用这些新组合物制造半导体器件的改进方法。

公开(公告)号：US08809112B2

公开(公告)日：2014-08-19

申请号：US13699092

申请日：2011-04-26

申请人： Werner Stockum ,  Arjan Meijer ,  Ingo Koehler

发明人： Werner Stockum ,  Arjan Meijer ,  Ingo Koehler

IPC分类号： H01L51/40 ,  H01L21/302

CPC分类号： H01L51/0019 ,  B82Y10/00 ,  H01L51/0026 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0037 ,  H01L51/0045 ,  H01L51/4253 ,  H01L51/444

摘要： The present invention refers to a method for selectively structuring of a polymer matrix comprising CNT (carbon nano tubes) on a flexible plastic substructure. The method also includes a suitable etching composition, which allows to proceed the method in a mass production.

摘要翻译： 本发明涉及一种在柔性塑料子结构上选择性地构造包含CNT（碳纳米管）的聚合物基体的方法。 该方法还包括合适的蚀刻组合物，其允许在批量生产中进行该方法。

公开(公告)号：US08999186B2

公开(公告)日：2015-04-07

申请号：US14114401

申请日：2012-03-28

申请人： Arjan Meijer ,  Werner Stockum ,  Ingo Koehler

发明人： Arjan Meijer ,  Werner Stockum ,  Ingo Koehler

IPC分类号： B44C1/22 ,  C09K13/02 ,  B81C1/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  H01L51/00

CPC分类号： C09K13/02 ,  B81C1/00539 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2018 ,  H01L51/0017 ,  H01L51/0023

摘要： The present invention relates to a method for selectively etching and patterning with high resolution of flexible polymer matrices, which may comprise Ag nano tubes.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于选择性地蚀刻和图案化高分辨率的柔性聚合物基质的方法，其可以包括Ag纳米管。

公开(公告)号：US20140054260A1

公开(公告)日：2014-02-27

申请号：US14114401

申请日：2012-03-28

申请人： Arjan Meijer ,  Werner Stockum ,  Ingo Koehler

发明人： Arjan Meijer ,  Werner Stockum ,  Ingo Koehler

IPC分类号： C09K13/02

CPC分类号： C09K13/02 ,  B81C1/00539 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2018 ,  H01L51/0017 ,  H01L51/0023

摘要： The present invention relates to a method for selectively etching and patterning with high resolution of flexible polymer matrices, which may comprise Ag nano tubes.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于选择性地蚀刻和图案化高分辨率的柔性聚合物基质的方法，其可以包括Ag纳米管。

公开(公告)号：US20130065359A1

公开(公告)日：2013-03-14

申请号：US13699092

申请日：2011-04-26

申请人： Werner Stockum ,  Arjan Meijer ,  Ingo Koehler

发明人： Werner Stockum ,  Arjan Meijer ,  Ingo Koehler

IPC分类号： H01L51/48

CPC分类号： H01L51/0019 ,  B82Y10/00 ,  H01L51/0026 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0037 ,  H01L51/0045 ,  H01L51/4253 ,  H01L51/444

摘要： The present invention refers to a method for selectively structuring of a polymer matrix comprising CNT (carbon nano tubes) on a flexible plastic substructure. The method also includes a suitable etching composition, which allows to proceed the method in a mass production.

摘要翻译： 本发明涉及一种在柔性塑料子结构上选择性地构造包含CNT（碳纳米管）的聚合物基体的方法。 该方法还包括合适的蚀刻组合物，其允许在批量生产中进行该方法。

公开(公告)号：US20140000481A1

公开(公告)日：2014-01-02

申请号：US14003467

申请日：2012-02-09

申请人： Ingo Koehler ,  Oliver Doll ,  Werner Stockum ,  Sebastian Barth

发明人： Ingo Koehler ,  Oliver Doll ,  Werner Stockum ,  Sebastian Barth

IPC分类号： C09D7/12 ,  H01L21/22

CPC分类号： C09D7/1216 ,  C09D1/00 ,  C09D5/006 ,  C09D7/1233 ,  C09D7/61 ,  C09D7/63 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/1254 ,  H01L21/2225

摘要： The present invention relates to aluminium oxide pastes and to a process for the use of the aluminium oxide pastes for the formation of Al2O3 coatings or mixed Al2O3 hybrid layers.

摘要翻译： 本发明涉及氧化铝浆料以及使用氧化铝浆料形成Al 2 O 3涂层或混合的Al 2 O 3混合层的方法。

公开(公告)号：US20140166613A1

公开(公告)日：2014-06-19

申请号：US14233464

申请日：2012-06-19

申请人： Oliver Doll ,  Ingo Koehler ,  Christian Matuschek ,  Werner Stockum

发明人： Oliver Doll ,  Ingo Koehler ,  Christian Matuschek ,  Werner Stockum

IPC分类号： H01B13/00

CPC分类号： H01B13/00 ,  C03C17/00 ,  C03C2218/33 ,  C09K13/02 ,  H05K3/067

摘要： The present invention relates to compositions which are particularly suitable for the etching and structuring of transparent, conductive antireflection coatings and of corresponding stacked layers, which are preferably present in touch-sensitive display screens or display elements. The latter are generally also known as touch-sensitive displays, touch panels or touch screens. In particular, these are compositions by means of which fine structures can be etched selectively into conductive transparent oxidic layers and into corresponding layer stacks.

摘要翻译： 本发明涉及特别适用于蚀刻和结构化透明导电抗反射涂层和相应叠层的组合物，其优选存在于触敏显示屏或显示元件中。 后者通常也称为触敏显示器，触摸面板或触摸屏。 特别地，这些是通过这些组合物可以将精细结构选择性地蚀刻到导电透明氧化物层中并进入相应的层叠层。

公开(公告)号：US08723340B2

公开(公告)日：2014-05-13

申请号：US13504504

申请日：2010-10-01

申请人： Werner Stockum ,  Oliver Doll ,  Ingo Koehler

发明人： Werner Stockum ,  Oliver Doll ,  Ingo Koehler

IPC分类号： H01L23/29

CPC分类号： H01L31/1804 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/022425 ,  H01L31/02363 ,  H01L31/068 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： The present invention relates to a process for the production of solar cells comprising a selective emitter using an improved etching-paste composition which has significantly improved selectivity for silicon layers.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于生产太阳能电池的方法，其包括使用改进的蚀刻 - 糊剂组合物的选择性发射体，其具有显着提高的硅层选择性。

公开(公告)号：US20130341769A1

公开(公告)日：2013-12-26

申请号：US14004074

申请日：2012-02-09

申请人： Ingo Koehler ,  Oliver Doll ,  Werner Stockum ,  Sebastian Barth

发明人： Ingo Koehler ,  Oliver Doll ,  Werner Stockum ,  Sebastian Barth

IPC分类号： H01L31/0216

CPC分类号： H01L31/02167 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1254 ,  C23C18/1295 ,  C23C24/082 ,  C23C26/00 ,  H01L31/022425 ,  H01L31/02245 ,  Y02E10/50

摘要： The present invention relates to aluminium oxide-based passivation layers which simultaneously act as diffusion barrier for underlying wafer layers against aluminium and other metals. Furthermore, a process and suitable compositions for the production of these layers are described.

摘要翻译： 本发明涉及基于氧化铝的钝化层，其同时充当针对铝和其它金属的下面的晶片层的扩散阻挡层。 此外，描述了用于生产这些层的方法和合适的组合物。