公开(公告)号：US4958185A

公开(公告)日：1990-09-18

申请号：US206987

申请日：1988-06-07

申请人： Osamu Kamiya ,  Yasutomo Fujiyama

发明人： Osamu Kamiya ,  Yasutomo Fujiyama

IPC分类号： G03B7/099 ,  G03B7/0997 ,  G03B7/28

CPC分类号： G03B7/099

摘要： In a photographing apparatus such as a single lens reflex camera, metering photoelectric conversion elements are provided in the optical path of an imaging optical system or a finder optical system and the line width of the pattern forming the elements is set to a width undiscernable by the human eye. Thus, with such metering photoelectric conversion elements, no irregularity of the quantity of amount is caused in the image observed through the finder or the image photographed.

摘要翻译： 在诸如单镜头反射照相机的拍摄设备中，在成像光学系统或取景器光学系统的光路中设置计量光电转换元件，并且将形成元件的图案的线宽设置为不可忽视的宽度 人类的眼睛。 因此，通过这样的计量光电转换元件，在通过取景器或所拍摄的图像观察到的图像中不会引起量的不均匀。

公开(公告)号：US4599971A

公开(公告)日：1986-07-15

申请号：US731334

申请日：1985-05-06

申请人： Yasutomo Fujiyama ,  Shotaro Okabe

发明人： Yasutomo Fujiyama ,  Shotaro Okabe

IPC分类号： C23C16/50 ,  C23C16/505 ,  G03G5/08 ,  G03G5/082 ,  H01J37/32 ,  H01L21/205 ,  H01L31/0248

CPC分类号： H01J37/32082 ,  C23C16/505

摘要： In a vapor deposition film forming apparatus having a plurality of reactors each having a substrate and an electrode oppositely arranged in a vacuum chamber and means for applying a voltage thereacross to react or decompose reaction gas introduced into the vacuum chamber, the reactors are arranged on a circumference of a circle and coaxial cables having substantially equal impedance radially extend to the reactors from a matching circuit located at the center of the circle.

摘要翻译： 在具有多个反应器的蒸镀膜形成装置中，每个反应器具有基板和相对布置在真空室中的电极，以及用于在其间施加电压以反应或分解引入真空室的反应气体的装置，反应器设置在 圆周和具有基本相同阻抗的同轴电缆径向延伸到位于圆心中心的匹配电路的电抗器。

公开(公告)号：US5038712A

公开(公告)日：1991-08-13

申请号：US449054

申请日：1989-12-18

申请人： Yasutomo Fujiyama

发明人： Yasutomo Fujiyama

IPC分类号： C23C16/511 ,  G03G5/082 ,  H01J37/32

CPC分类号： H01J37/32238 ,  C23C16/511 ,  G03G5/082 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32284

摘要： An improved apparatus for the formation of a functional deposited film using a microwave plasma chemical vapor deposition process characterized in that a microwave transmissible dielectric material is used for the microwave introducing window, and the window has a structure wherein the dielectric material is divided into blocks of the same or different dielectric materials having a specific inductive capacity of more than 1.0. In this way it is possible to adjust not only the resonant frequency characteristics but also the electromagnetic resonant mode of the window to resonate with the microwave oscillation frequency so as to enhance microwave transmission.

摘要翻译： 一种用于使用微波等离子体化学气相沉积工艺形成功能沉积膜的改进装置，其特征在于微波可传导电介质材料用于微波引入窗口，并且窗口具有这样的结构，其中介电材料被分成 相同或不同的介电材料具有大于1.0的电感率。 以这种方式，不仅可以调节谐振频率特性，而且可以调节窗口的电磁谐振模式以与微波振荡频率谐振，从而增强微波传输。

公开(公告)号：US4732792A

公开(公告)日：1988-03-22

申请号：US783478

申请日：1985-10-03

申请人： Yasutomo Fujiyama

发明人： Yasutomo Fujiyama

IPC分类号： C23C4/08 ,  C23C4/10 ,  C23C14/24 ,  H01J37/16 ,  B05D1/08 ,  B05D1/10

CPC分类号： C23C4/10 ,  C23C4/08 ,  C23C4/11 ,  H01J37/16

摘要： The surface of an element of a vacuum apparatus is coated with a film formed by a flame spraying method.

摘要翻译： 真空装置的元件的表面涂覆有通过火焰喷涂法形成的膜。

公开(公告)号：US4633812A

公开(公告)日：1987-01-06

申请号：US699870

申请日：1985-02-08

申请人： Yasutomo Fujiyama

发明人： Yasutomo Fujiyama

IPC分类号： H01L21/302 ,  C23C16/44 ,  C23C16/509 ,  H01J37/32 ,  H01L21/205 ,  C23C13/08

CPC分类号： H01J37/32467 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/5093 ,  H01J37/32504 ,  Y10S156/914 ,  Y10S156/917

摘要： An improvement in a vacuum plasma treating apparatus having a reaction chamber partly formed of electric insulating material subject to corrosion by a fluorine or chlorine containing gas plasma, which improvement being that the electric insulating material subject to corrosion comprises a sintered ceramic material containing alumina as a primary ingredient.

摘要翻译： 一种真空等离子体处理装置的改进，其具有部分地由受含氟或含氯气体等离子体腐蚀的电绝缘材料形成的反应室，这是因为受到腐蚀的电绝缘材料的改进包括含有氧化铝作为 主要成分。

公开(公告)号：US4909184A

公开(公告)日：1990-03-20

申请号：US113504

申请日：1987-10-28

申请人： Yasutomo Fujiyama

发明人： Yasutomo Fujiyama

IPC分类号： G03G5/08 ,  C23C16/24 ,  C23C16/30 ,  C23C16/50 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32 ,  H01L21/205

CPC分类号： H01J37/32229 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32266

摘要： An improved apparatus for the formation of a functional deposited film using microwave plasma chemical vapor deposition process is characterized in that the relative setting angle between waveguides confronting each other is set to be 60.degree. or 240.degree. in the counterclockwise direction, which makes it possible to stably introduce the microwave energy into the vacuum chamber simultaneously from the plural microwave power sources without any interference among them.

摘要翻译： 使用微波等离子体化学气相沉积工艺形成功能沉积膜的改进装置的特征在于，在逆时针方向上彼此面对的波导之间的相对设定角度设定为60°或240°，这使得可以 从多个微波电源同时稳定地将微波能量引入到真空室中，而不影响其间的干扰。

公开(公告)号：US4637342A

公开(公告)日：1987-01-20

申请号：US705522

申请日：1985-02-26

申请人： Osamu Kamiya ,  Yasutomo Fujiyama ,  Kyosuke Ogawa ,  Takashi Kurokawa

发明人： Osamu Kamiya ,  Yasutomo Fujiyama ,  Kyosuke Ogawa ,  Takashi Kurokawa

IPC分类号： C23C16/50 ,  B01J3/00 ,  C23C14/56 ,  C23C16/54 ,  C23F4/00 ,  G03G5/08 ,  G03G5/082 ,  H01J37/18 ,  C23C13/08

CPC分类号： B01J3/006 ,  C23C16/54 ,  H01J37/18

摘要： A vacuum processing apparatus for applying a vacuum working process to a substrate to be processed by a plurality of processing steps comprises vacuum containers exclusively for use for processing disposed in place for each of the processing steps, and a vacuum container exclusively for use for conveyance movable between the vacuum containers exclusively for use for processing. The vacuum containers are provided with opening-closing gates which can be connected to each other. The substrate to be processed is transferably movable between the vacuum containers exclusively for use for processing and the vacuum container exclusively for use for conveyance.

摘要翻译： 一种用于通过多个处理步骤将真空加工过程施加到待加工基板的真空处理设备包括专门用于每个处理步骤所设置的处理的真空容器和专门用于可移动的输送的真空容器 在专用于加工的真空容器之间。 真空容器设置有彼此连接的开闭门。 待处理的基材可以在专门用于加工的真空容器和专门用于输送的真空容器之间转移。

公开(公告)号：US4526644A

公开(公告)日：1985-07-02

申请号：US596804

申请日：1984-04-04

申请人： Yasutomo Fujiyama ,  Osamu Kamiya

发明人： Yasutomo Fujiyama ,  Osamu Kamiya

IPC分类号： C23C16/509 ,  H01J37/32 ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/306 ,  B44C1/22 ,  C03C15/00 ,  C03C25/06

CPC分类号： H01J37/32477 ,  C23C16/5093 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/3065 ,  Y10S156/914

摘要： A treatment device utilizing plasma performs treatment by exposing a material to be treated to a plasma atmosphere formed by converting at least either one of fluorine and a fluorine compound into gas plasma, and said device comprises a structural member for forming the space for maintaining said plasma atmosphere, which is constituted of a stainless steel structure member coated on its surface exposed to said plasma atmosphere with a metal film which can difficultly form a fluoride.

摘要翻译： 利用等离子体的处理装置通过将待处理材料暴露于通过将氟和氟化合物中的至少一种转化为气体等离子体而形成的等离子体气氛进行处理，并且所述装置包括用于形成用于保持所述等离子体的空间的结构部件 气氛由其表面暴露于所述等离子体气氛的不锈钢结构构件与可能难以形成氟化物的金属膜构成。

公开(公告)号：US6058945A

公开(公告)日：2000-05-09

申请号：US922454

申请日：1997-09-03

申请人： Yasutomo Fujiyama ,  Hideya Kumomi

发明人： Yasutomo Fujiyama ,  Hideya Kumomi

IPC分类号： B08B3/12 ,  H01L21/306 ,  H01L21/3063 ,  B08R7/00

CPC分类号： H01L21/02052 ,  B08B3/12 ,  H01L21/3063 ,  Y10S134/902

摘要： Provided is a suitable cleaning method of a porous semiconductor substrate without collapse of the porous structure due to cavitation or resonance. In a cleaning method of a porous surface of a semiconductor substrate having the porous structure at least in the surface, cleaning for removing dust particles adhering to the porous surface of the substrate takes place with pure water on which a high-frequency wave with a frequency in the range of from 600 kHz to 2 MHz is superimposed.

摘要翻译： 提供了多孔半导体衬底的合适的清洁方法，而不会由于空化或共振而导致多孔结构的塌陷。 在至少在表面上具有多孔结构的半导体衬底的多孔表面的清洁方法中，用附着在衬底的多孔表面上的灰尘颗粒去除的清洁是在其上具有频率的高频波的纯水进行的 在600kHz到2MHz的范围内被叠加。

公开(公告)号：US4709656A

公开(公告)日：1987-12-01

申请号：US798188

申请日：1985-11-14

申请人： Yasutomo Fujiyama

发明人： Yasutomo Fujiyama

IPC分类号： C23C16/50 ,  C23C16/54 ,  G03G5/08 ,  G03G5/082 ,  H01J37/18 ,  H01J37/32 ,  H01L31/0248 ,  B05D3/06

CPC分类号： H01J37/185 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32

摘要： There is disclosed layer forming apparatus for forming a deposition layer on a substrate by means of electric discharge, comprising a supporting electrode, and a cassette of a structure capable of accommodating therein a substrate for layer formation and being inserted into said supporting electrode and electrically connected therewith to cause electric discharge in said cassette.

摘要翻译： 公开了一种用于通过放电在基板上形成沉积层的层形成装置，包括支撑电极和能够容纳其中用于层形成的基板并被插入到所述支撑电极中的电连接的结构的盒 从而导致所述盒中的放电。