金属めっき被覆ステンレス材、および金属めっき被覆ステンレス材の製造方法
    73.
    发明申请
    金属めっき被覆ステンレス材、および金属めっき被覆ステンレス材の製造方法 审中-公开
    金属不锈钢材料和金属不锈钢材料的生产方法

    公开(公告)号:WO2015041132A1

    公开(公告)日:2015-03-26

    申请号:PCT/JP2014/074053

    申请日:2014-09-11

    Abstract:  表面におけるオージェ電子分光分析によるCr/O値が0.05~0.2、かつCr/Fe値が0.5~0.8の範囲である不動態膜(11)が形成されたステンレス鋼板(10)と、前記ステンレス鋼板(10)の不動態膜(11)上に形成された金属めっき層(20)と、を備え、前記金属めっき層(20)が、Ag、Pd、Pt、Rh、Ru、Cu、Sn、Crのうちいずれか一の金属またはこれらの合金により構成されためっき層であることを特徴とする金属めっき被覆ステンレス材(100)を提供する。

    Abstract translation: 本发明提供一种金属镀不锈钢材料(100),其特征在于具有:在其上形成有Cr / O值在0.05以下的钝化膜(11)的不锈钢板(10) -0.2,Cr / Fe值在0.5-0.8的范围内,所述值是通过对钝化膜(11)的表面进行俄歇电子能谱获得的; 和形成在不锈钢板(10)上的钝化膜(11)上的金属镀层(20)。 金属镀不锈钢材料(100)的特征还在于金属镀层(20)由Ag,Pd,Pt,Rh,Ru,Cu,Sn和Cr中的任一种金属构成,或 这些金属的合金。

    めっき積層体の製造方法及びめっき積層体
    75.
    发明申请
    めっき積層体の製造方法及びめっき積層体 审中-公开
    生产层压板和层压板的方法

    公开(公告)号:WO2014199547A1

    公开(公告)日:2014-12-18

    申请号:PCT/JP2014/002168

    申请日:2014-04-16

    Abstract:  優れた耐摩耗性、電導性、摺動性及び低摩擦性を有し、かつ、めっき層の脆化を抑制するのに好適な錫めっき/銀めっき積層体及びその製造方法を提供する。本発明は、金属基材の表面に形成された錫めっき層の上に銀めっき層を形成させるめっき積層体の製造方法であって、錫めっき層の表面の任意の領域にニッケルめっき処理を施してニッケルめっき層を形成させる第一工程と、ニッケルめっき層の表面の任意の領域に銀ストライクめっき処理を施す第二工程と、銀ストライクめっき処理を施した後のニッケルめっき層の表面の領域の少なくとも一部に銀めっき処理を施す第三工程と、を含むこと、を特徴とするめっき積層体の製造方法である。

    Abstract translation: 提供:具有优异的耐磨性,导电性和滑动性和低摩擦性的镀锡/镀银层压体,从而可以防止其中包含的镀层的脆化; 以及制造镀锡/镀银层压体的方法。 本发明是一种通过在金属基材的表面上形成的镀锡层上形成银镀层来制造电镀层叠体的方法,其特征在于包括:第一步骤, 镀锡层的表面进行镀镍处理,由此形成镀镍层; 对镀镍层表面的任意区域进行银击镀处理的第二工序; 以及对经过银镀处理的镀镍层的表面区域的至少一部分进行镀银处理的第三工序。

    銀めっき材
    76.
    发明申请
    銀めっき材 审中-公开
    镀银材料

    公开(公告)号:WO2014148200A1

    公开(公告)日:2014-09-25

    申请号:PCT/JP2014/054252

    申请日:2014-02-18

    Abstract: 耐熱性、曲げ加工性および耐摩耗性が良好な銀めっき材を提供する。銅または銅合金からなる素材上に銀からなる厚さ10μm以下の表層が形成された銀めっき材において、表層の優先配向面(好ましくは、{200}面または{111}面)のロッキングカーブの半価幅を2~8°、好ましくは3~7°にすることにより、表層の面外配向性を向上させて、銀めっき材の耐熱性、曲げ加工性および耐摩耗性を向上させる。

    Abstract translation: 提供具有优异的耐热性,弯曲加工性和耐磨性的镀银材料。 在这种镀银材料中,其由10μm或更薄的由银构成的表面层形成在由铜或铜合金构成的材料上,通过将表面的优先取向平面的摆动曲线的最大宽度设定 层(优选为{200}面或{111}面)为2-8°,优选为3-7°,提高了表面层的面外取向性,耐热性,弯曲加工性 并且提高了镀银材料的耐磨性。

    나노 구조체 및 그 제조 방법
    78.
    发明申请
    나노 구조체 및 그 제조 방법 审中-公开
    纳米结构及其制造方法

    公开(公告)号:WO2014003338A1

    公开(公告)日:2014-01-03

    申请号:PCT/KR2013/005166

    申请日:2013-06-12

    CPC classification number: C25D3/38 C25D3/46 C25D3/48 C25D3/58 C25D5/18 C25D7/12

    Abstract: 본 발명은, 템플릿이나 계면활성제를 사용하지 않고 기판 상에 수직 성장된 나노 구조체의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따른 나노 구조체의 제조 방법은, 나노 구조체 형성 대상 물질을 포함하는 초희석 전해 용액을 제공하는 단계; 초희석 전해 용액 내에 전도성 기판을 침지하는 단계; 나노 구조체 형성 대상 물질을 전도성 기판에 증착시켜 나노 구조체를 형성하도록, 전도성 기판에 전자를 제공하는 환원 전압을 인가하는 단계; 및 전도성 기판에 증착된 나노 구조체의 적어도 일부를 용해시키도록, 전도성 기판에 전자를 제거하는 산화 전압을 인가하는 단계;를 포함한다.

    Abstract translation: 本发明提供一种在不使用模板或表面活性剂的情况下制造在晶片上垂直生长的纳米结构的方法。 根据本发明的一个实施方案的制造纳米结构的方法包括以下步骤:提供包括用于形成纳米结构的材料的超稀释电解质; 将导电晶片浸入超稀释电解质中; 提供向导电晶片提供电子的还原电压,以便通过在导电晶片上沉积用于形成纳米结构的材料而形成纳米结构; 以及提供从导电晶片去除电子的氧化电压,以便溶解沉积在导电晶片上的纳米结构的至少一部分。

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