AMIDINATE LIGAND CONTAINING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PRECURSORS
    2.
    发明申请
    AMIDINATE LIGAND CONTAINING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PRECURSORS 审中-公开
    含有化学气相沉积前体的酰胺配体

    公开(公告)号:WO2006012052A3

    公开(公告)日:2006-04-20

    申请号:PCT/US2005021439

    申请日:2005-06-17

    摘要: The present invention is directed to amidinate ligand containing precursors for use in chemical vapor deposition. More particularly, the present invention is directed to amidinate ligand containing precursors such as metalloamidinates as chemical vapor deposition precursors. Suitable precursors for chemical vapor deposition such as atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD) of films of metals, metal oxides, and metal nitrides, in which the physical properties of the precursors (or films) may be controlled by modification of the precursor ligand array are provided.

    摘要翻译: 本发明涉及用于化学气相沉积的含脒配体的前体。 更具体地说,本发明涉及含脒基配体的前体,如金属脒化物作为化学气相沉积前体。 用于化学气相沉积的合适前体如金属,金属氧化物和金属氮化物膜的常压化学气相沉积(APCVD),其中前体(或膜)的物理性质可通过改变前体配体阵列 被提供。

    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON N,N´-UNSUBSTITUIERTEN CARBOXAMIDINEN
    4.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON N,N´-UNSUBSTITUIERTEN CARBOXAMIDINEN 审中-公开
    生产N,N'-取代的甲酰胺的方法

    公开(公告)号:WO2017093495A2

    公开(公告)日:2017-06-08

    申请号:PCT/EP2016/079611

    申请日:2016-12-02

    申请人: ALZCHEM AG

    发明人: GÜTHNER, Thomas

    摘要: Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues Verfahren zur Herstellung von Ν,Ν' -unsubstituierten Carboxamidinen oder einem Salz hiervon. Des Weiteren betrifft die vorliegende Erfindung ein neues Verfahren zur Herstellung von N, N' -unsubstituierten Carboxamidinen, in dem eine Carboxamidingruppe in einem Schritt in eine gegebene Grundstruktur eingeführt wird.

    摘要翻译: 本发明涉及一种制备N,N'未取代的甲脒或其盐的新方法。 此外,本发明提供了用于的 N,N“的涉及未被取代的甲脒,其中Carboxamidingruppe在给定的基本结构引入导航使用一个步骤是HRT 的制备的新方法。