半導体装置
    1.
    发明申请
    半導体装置 审中-公开
    半导体器件

    公开(公告)号:WO2013124989A1

    公开(公告)日:2013-08-29

    申请号:PCT/JP2012/054294

    申请日:2012-02-22

    Inventor: 遠井 茂男

    Abstract:  本願の発明にかかる半導体装置は、平面視で直線的に形成された複数のゲートと、該複数のゲートと絶縁されたエミッタパターンと、該エミッタパターンの上に形成されたエミッタ電極を有し、該エミッタパターンを介して該エミッタ電極へ主電流が流れるように形成された半導体素子と、該エミッタ電極の一部に形成された第1はんだと、該第1はんだと離れて、該エミッタ電極の一部に形成された第2はんだと、該第1はんだ及び該第2はんだにより該エミッタ電極に接続された端子とを備える。該半導体素子は、該第1はんだが形成された第1はんだ領域と、該第2はんだが形成された第2はんだ領域と、該第1はんだ領域と該第2はんだ領域の間の領域である中間領域とを有し、該第1はんだ領域の該ゲートの密度と、該第2はんだ領域の該ゲートの密度と、該中間領域の該ゲートの密度は等しく、該半導体素子は、該中間領域の該主電流の電流密度が、該第1はんだ領域及び該第2はんだ領域の該主電流の電流密度よりも低くなるように形成される。

    Abstract translation: 该半导体装置设置有:半导体元件,其包括在平面图中线性形成的多个栅极,与多个栅极绝缘的发射极图案和形成在发射极图案上的发射极电极,以及 其被配置为使得主电流通过发射器图案被提供给发射极电极; 形成在所述发射电极的一部分上的第一焊料; 在所述发射电极的一部分上与所述第一焊料分开形成的第二焊料; 以及通过第一焊料和第二焊料与发射电极连接的端子。 半导体元件具有形成第一焊料的第一焊料区域,形成第二焊料的第二焊料区域和位于第一焊料区域和第二焊料区域之间的中间区域。 第一焊料区域中的栅极密度,第二焊料区域中的栅极密度和中间区域中的栅极密度彼此相等。 半导体元件被构造成使得中间区域中的主电流的电流密度低于第一焊料区域和第二焊料区域中的主电流的电流密度。

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