金刚石薄膜场效应光电探测器的制备方法

    公开(公告)号:CN101527331A

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200910048331.1

    申请日:2009-03-26

    Applicant: 上海大学

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明涉及一种基于P型纳米金刚石薄膜/[100]定向金刚石薄膜场效应光电探测器的制备方法,属场效应光电探测器制造工艺技术领域。本发明的特点是:采用了肖特基场效应结构,并利用P型纳米金刚石薄膜作为表面P型沟道层;纳米金刚石薄膜的P型不是通过掺杂其他元素获得,而是采用氢等离子刻蚀的方法获得H终端P型纳米金刚石层。本发明的另一个特点是采用了除去传统的硅衬底的工艺,使有利于探测器在高温、高频、大功率领域及恶劣环境中的应用。

    X射线光刻掩模版的制备方法

    公开(公告)号:CN100510957C

    公开(公告)日:2009-07-08

    申请号:CN200610030241.6

    申请日:2006-08-21

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明涉及一种X射线光刻掩模版的制备方法,属光刻掩模版制造技术领域。本发明主要采用热丝化学气相沉积法沉积的金刚石薄膜作为X射线光刻掩模基膜材料,并通过改进的工艺参数和后期处理工艺,改善金刚石薄膜的性能,提高金刚石薄膜的光学透过率和表面平整度。通过对硅片的预处理、金刚石薄膜的沉积、去除部分硅片开出圆形透光宽口并形成硅支撑以及金刚石薄膜上贴附一层重金属金膜层,最终制成具有掩模曝光图形的掩模板。

    在氧化铝陶瓷上进行金刚石薄膜定向生长的方法

    公开(公告)号:CN1458129A

    公开(公告)日:2003-11-26

    申请号:CN03114880.8

    申请日:2003-01-14

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明述及一种在氧化铝陶瓷上进行金刚石薄膜定向生长的方法,其特征在于采用微波等离子体化学气相沉积法进行金刚石薄膜定向沉积,其工艺步骤如下:a.在未沉积金刚石膜之前,采用碳离子注入处理法+对氧化铝陶瓷进行碳离子注入,然后在含有氮气和氢气的混合气氛下进行微波等离子体高温退火处理;b.在经退火处理的氧化铝陶瓷上进行金刚石膜的定向沉积,即将氧化铝陶瓷放置在微波等离子体辐射的石英管反应室中,反应室抽真空并送入氢气和甲烷的混合气体,在特殊装置中和特定工艺下,进行气相沉积金刚石薄膜,而且是定向晶粒形成的金刚石薄膜。

    利用有机高分子材料降低钙钛矿探测器暗电流的方法

    公开(公告)号:CN111312857B

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202010126593.1

    申请日:2020-02-28

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明公开了一种利用有机高分子材料降低钙钛矿探测器暗电流的方法,通过对关键材料,特别是有机材料的具体种类及用量的调控,并对相应辐射探测器制备的工艺流程及关键步骤所使用的参数条件进行了一定的改进,对热喷涂工艺所采用的温度及时间进行设置,达到能够满足商业需求的多晶卤化物钙钛矿光电探测器,其结构为ITO/多晶CsPbBr3/Au电极。本发明制作的无机钙钛矿CsPbBr3探测器具有较低的暗电流数量级,较高的信噪比以及优异的水氧稳定性。该半导体探测器的制备方法步骤简单,成本低廉,过程低温可控,且所制备的CsPbBr3材料抗水氧能力优异,可将本发明方法运用于大规模商业生产,具有显著的产业化推广价值。

    一种氧化镓器件用欧姆接触复合电极及其制备方法

    公开(公告)号:CN115632065A

    公开(公告)日:2023-01-20

    申请号:CN202211379415.5

    申请日:2022-11-04

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明公开了一种氧化镓器件用欧姆接触复合电极及其制备方法,实现与氧化镓材料形成欧姆接触的复合电极,与氧化镓材料形成欧姆接触的复合电极结构采用低阻复合中间层‑金属电极的组合形式,整体依次由氧化镓材料、低阻掺杂氧化镓中间层、低阻氧化物半导体中间层和金属电极四部分进行层叠组装而成;其中氧化镓材料可以包括单晶、多晶以及非晶氧化镓。本发明设计的复合电极引入低阻复合中间层,解决传统多层金属叠层电极在合金化的过程中易引起界面反应的问题,新型复合电极减少界面的影响,改善氧化镓材料电极接触特性,实现对氧化镓材料更稳定的欧姆接触,使氧化镓器件的电学性能更加可靠,在氧化镓电力电子器件领域中有广泛的应用前景。

    碲锌镉晶体的电感耦合等离子体刻蚀工艺方法

    公开(公告)号:CN110289215B

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN201910551761.9

    申请日:2019-06-25

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明公开了一种碲锌镉晶体的电感耦合等离子体刻蚀工艺方法,在刻蚀前采用碲锌镉晶体的结构采用衬底‑半导体的组合形式。本发明用SF6和Ar作为电感耦合等离子刻蚀的刻蚀气体,与传统的反应离子刻蚀方式相比,电感耦合等离子刻蚀的离子密度高,刻蚀速率更快,让刻蚀后的碲锌镉晶体的刻蚀形貌有更高的精度,更高的选择比并且刻蚀表面平整光滑。本发明刻蚀的晶体材料对于公共安全、军事、核工业、核医学、科学研究以及航空航天等领域安全监控、辐射防护方面具有重要意义和应用前景。

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