准单片管芯架构
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117594569A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202310887155.0

    申请日:2023-07-19

    申请人: 英特尔公司

    摘要: 本发明题为“准单片管芯架构”。本文公开了微电子组件、相关装置和方法。在一些实施例中,一种微电子组件可包括:具有一个或多个传导迹线和表面的电介质层;在电介质层的表面上的微电子子组件,该微电子子组件包括第一管芯和被电介质材料围绕的贯穿电介质通孔(TDV),其中第一管芯在电介质层的表面;在第一管芯上并且通过具有小于10微米间距的互连而被电耦合到第一管芯的第二管芯和第三管芯,并且其中TDV在第一端处被电耦合到电介质层并在相对的第二端处被电耦合到第二管芯;以及在第二和第三管芯上并耦合到第二和第三管芯的衬底;以及在电介质层的表面上并且在微电子子组件周围的绝缘材料。

    作为用于封装结构的小芯片的带TSV的混合接合堆叠存储器

    公开(公告)号:CN116387275A

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202211475241.2

    申请日:2022-11-23

    申请人: 英特尔公司

    摘要: 公开了作为用于封装结构的小芯片的带TSV的混合接合堆叠存储器。本文公开的实施例包括小芯片模块和管芯模块。在实施例中,小芯片模块包括第一小芯片,其中,第一小芯片包括第一有源表面。在实施例中,小芯片模块还包括第二小芯片,其中,第二小芯片包括第二有源表面。在实施例中,小芯片模块还包括在第一小芯片和第二小芯片之间的混合接合界面,其中,混合接合界面将第一小芯片电耦合到第二小芯片。

    用于集成电路封装的边缘对准模板结构

    公开(公告)号:CN116314093A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202211462459.4

    申请日:2022-11-21

    申请人: 英特尔公司

    摘要: 集成电路组件可以在晶圆级上制造,其中具有多个开口的基底模板可以覆盖基底衬底(例如,管芯晶圆),其中基底衬底具有形成在其中的多个第一集成电路器件,并且其中,至少一个第二集成电路器件通过基底模板中的相应开口电附接到对应的第一集成电路器件。因此,当基底衬底和基底模板被单切成单独的集成电路组件时,单独的集成电路组件将各自具有与基底模板的单切部分边缘对准的第一集成电路。基底模板的单切部分可以为各个集成电路组件提供改进的热路径、机械强度和/或电路径。

    局部高密度基底布线
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104952838B

    公开(公告)日:2019-09-17

    申请号:CN201410116450.7

    申请日:2014-03-26

    申请人: 英特尔公司

    IPC分类号: H01L23/538 H01L21/768

    摘要: 于此总体描述了对于局部高密度基底布线的系统和方法的实施例。在一个或多个实施例中,设备包含介质、第一和第二电路元件、互连元件、以及介电层。所述介质中能够包含低密度布线。所述互连元件能够被嵌入于所述介质中,并且所述互连元件中能够包含多个导电部件,所述导电部件能够电耦合至所述第一电路元件和所述第二电路元件。所述互连元件中能够包含高密度布线。所述介电层能够在所述互连管芯之上,所述介电层包含穿过所述介电层的所述第一和第二电路元件。

    局部高密度基底布线
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104952838A

    公开(公告)日:2015-09-30

    申请号:CN201410116450.7

    申请日:2014-03-26

    申请人: 英特尔公司

    IPC分类号: H01L23/538 H01L21/768

    摘要: 于此总体描述了对于局部高密度基底布线的系统和方法的实施例。在一个或多个实施例中,设备包含介质、第一和第二电路元件、互连元件、以及介电层。所述介质中能够包含低密度布线。所述互连元件能够被嵌入于所述介质中,并且所述互连元件中能够包含多个导电部件,所述导电部件能够电耦合至所述第一电路元件和所述第二电路元件。所述互连元件中能够包含高密度布线。所述介电层能够在所述互连管芯之上,所述介电层包含穿过所述介电层的所述第一和第二电路元件。