金属薄膜导线的制造方法

    公开(公告)号:CN109273367A

    公开(公告)日:2019-01-25

    申请号:CN201811114253.6

    申请日:2018-09-25

    申请人: 清华大学

    IPC分类号: H01L21/48

    CPC分类号: H01L21/4853 H01L21/4814

    摘要: 本公开涉及一种金属薄膜导线的制造方法。所制造的金属薄膜导线用于实现柔性基底上的电子器件内部和/或电子器件之间的电性连接,该方法包括:在基板上依次生成掩膜层和掩膜保护层;将掩膜版图形转移到掩膜保护层上,形成掩膜保护层图形;根据掩膜保护层图形,对掩膜层进行刻蚀处理,形成刻蚀后的掩膜层;将刻蚀后的掩膜层转印至柔性基底;以刻蚀后的掩膜层为掩膜,在柔性基底上生成金属薄膜导线。其中,刻蚀后的掩膜层的图形与金属薄膜导线的图形之间形状互补。本公开实施例所提供方法,适用范围广泛,可以在柔性基底上直接生成所需的金属薄膜导线,所生成的金属薄膜导线的精度高,能够满足对金属薄膜导线的使用需求。