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公开(公告)号：CN105895570A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201510724773.9
申请日：2015-10-30
申请人： 麦丰密封科技股份有限公司
IPC分类号： H01L21/683 , H01J37/20
CPC分类号： H01L21/6833 , F16J15/106 , H01J37/32513 , H01J37/32697 , H01J37/32715 , H01J37/3288 , H01J37/20 , H01J2237/20
摘要： 本发明提供的静电吸附承盘侧壁的改进的密封件，其利用改进的密封件多层次的多个密封部的设置，使改进的密封件与静电吸附承盘的侧壁间具有多重密封点，并且完全填满静电吸附承盘的沟槽，使蚀刻制程长久作业之后，纵使该改进的密封件的其中一密封点被电浆气体侵蚀而破损，仍能有够效防止漏气的发生，并且提供一缓冲时间，供产线人员实时更换改进的密封件，降低密封件因为突然的纵裂而导致漏气的危险，使半导体蚀刻制程更加安全，产品合格率更加提升。
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公开(公告)号：CN106997842A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201710048220.5
申请日：2017-01-20
申请人： 应用材料公司
发明人： J·罗杰斯
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01L21/6833 , H01J37/32091 , H01J37/321 , H01J37/32146 , H01J37/32541 , H01J37/32568 , H01J37/32577 , H01J37/32605 , H01J37/32697 , H01J37/32715 , H01J37/3288 , H01J2237/332 , H01J2237/334 , H01L21/67017 , H01L21/67103 , H01L21/6719 , H01L21/6831 , H01L21/68735 , H01L21/68785 , H01J37/32431 , H01J37/32477 , H01J37/32532
摘要： 本公开总体上涉及控制边缘环的射频(RF)振幅的装置和方法。装置和方法包括通过可变电容器耦接到接地的电极。所述电极可以是环形的并且嵌入在基板支撑件中，所述基板支撑件包括静电卡盘。所述电极可定位于基板和/或所述边缘环的周边下方。当等离子体壳层由于边缘环侵蚀而相邻于所述边缘环下降时，调整可变电容器的电容以便影响靠近所述基板边缘的RF振幅。经由所述电极和可变电容器对RF振幅的调整引起所述基板周边附近的等离子体壳层的调整。
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公开(公告)号：CN104041194B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201280057151.X
申请日：2012-11-07
申请人： 朗姆研究公司
发明人： 格雷格·塞克斯顿
CPC分类号： H01J37/3288 , H01J37/32513 , H01J37/32807 , Y10T16/525 , Y10T16/5275 , Y10T16/529 , Y10T16/53225 , Y10T16/5324 , Y10T16/53247 , Y10T16/5325 , Y10T16/53864 , Y10T16/547
摘要： 在一个实施方式中，等离子体处理组件可以包括耦合到铰链体的上处理体和耦合到基部铰链构件的下处理体。所述铰链体能与所述基部铰链构件可枢转地接合。自锁闩能与所述基部铰链构件可枢转地接合。当铰链体围绕第一旋转轴旋转时，凸锁闩接合构件能接触所述自锁闩并且使所述自锁闩围绕第二旋转轴沿与偏置方向相反的方向旋转。所述自锁闩能围绕第二旋转轴沿偏置方向旋转并且能阻止所述铰链体围绕第一旋转轴旋转。
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公开(公告)号：CN105428210A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201510593168.2
申请日：2015-09-17
申请人： 朗姆研究公司
CPC分类号： H01L21/67017 , B08B3/08 , C23C16/4407 , H01J37/32862 , H01L21/02052 , H01L21/02054 , H01L21/02082 , H01J37/32853 , H01J37/3288 , H01L21/02096
摘要： 本发明涉及用于清洁等离子体工艺室部件的湿法清洁工艺。一种用于清洁等离子体工艺室部件的系统和方法，包括：从所述等离子体工艺室拆除部件，所拆除的所述部件包括沉积在所述部件的表面上的材料。将加热的氧化剂溶液施加到沉积在所述部件上的所述材料中，以氧化第一部分沉积材料。将剥离溶液施加到部件中，以去除所述沉积材料的被氧化的第一部分。施加蚀刻溶液，以去除所述沉积材料的第二部分，所述清洁的部件可以被冲洗和干燥。
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公开(公告)号：CN105390362A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510724304.7
申请日：2015-10-29
申请人： 上海华力微电子有限公司
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/3288
摘要： 本发明提供了一种用于更换压力控制阀上的O型圈的系统及方法，通过采用短接装置，来短接关闭压力控制阀COM针和关闭压力控制阀互锁装置针，从而给控制装置一个工艺腔和前道真空腔均处于大气状态的假信号，使控制装置允许互锁装置打开，使压力控制阀处于可开启状态，进而实现对压力控制阀上的O型圈的更换，并且使得该更换过程简单安全有效。
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公开(公告)号：CN104041194A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201280057151.X
申请日：2012-11-07
申请人： 朗姆研究公司
发明人： 格雷格·塞克斯顿
CPC分类号： H01J37/3288 , H01J37/32513 , H01J37/32807 , Y10T16/525 , Y10T16/5275 , Y10T16/529 , Y10T16/53225 , Y10T16/5324 , Y10T16/53247 , Y10T16/5325 , Y10T16/53864 , Y10T16/547
摘要： 在一个实施方式中，等离子体处理组件可以包括耦合到铰链体的上处理体和耦合到基部铰链构件的下处理体。所述铰链体能与所述基部铰链构件可枢转地接合。自锁闩能与所述基部铰链构件可枢转地接合。当铰链体围绕第一旋转轴旋转时，凸锁闩接合构件能接触所述自锁闩并且使所述自锁闩围绕第二旋转轴沿与偏置方向相反的方向旋转。所述自锁闩能围绕第二旋转轴沿偏置方向旋转并且能阻止所述铰链体围绕第一旋转轴旋转。
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公开(公告)号：CN103748258A
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201280040678.1
申请日：2012-09-14
申请人： 吉坤日矿日石金属株式会社
发明人： 塚本志郎
CPC分类号： H01J37/3476 , C23C14/34 , C23C14/564 , H01J37/32853 , H01J37/3288 , H01J37/34 , H01J37/3447 , Y10T29/49748
摘要： 本发明涉及一种溅射用钽制线圈的再生方法，其为配置在基板与溅射靶之间的溅射用钽制线圈的再生方法，其特征在于，对于使用过的钽制线圈，通过切削加工对线圈的全部或一部分进行单面切除(直至再沉积膜及滚花加工痕迹消失为止的切削)，将溅射中形成的再沉积膜除去，然后，在切削后的部位重新实施滚花。本发明的课题在于提供如下技术：在溅射中，溅射粒子会堆积(再沉积)到配置在基板与溅射靶之间的钽制线圈的表面上，但在溅射结束后，通过切削将堆积于该使用过的线圈的溅射粒子除去，有效地再生钽制线圈，由此，排除制作新线圈的浪费，使生产率提高，能够稳定地提供该再生线圈。
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公开(公告)号：CN107481962A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710725396.X
申请日：2015-06-12
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687
CPC分类号： H01J37/3244 , H01J37/32807 , H01J37/3288 , H01L21/6715 , H01L21/687 , H01L2221/683
摘要： 本申请描述了具有可拆卸高电阻率气体分配板的喷淋头。在一些实施例中，在半导体处理腔室中使用的喷淋头可包括：主体，所述主体具有第一侧以及与第一侧相对的第二侧；气体分配板，所述气体分配板设置为接近底座的第二侧，其中气体分配板由具有约60Ω-cm至90Ω-cm之间的电阻率的材料形成；夹具，所述夹具绕气体分配板的周缘布置，以便可移除地将气体分配板耦接至底座；以及射频(RF)垫片，所述RF垫片设置在所述夹具与所述气体分配板之间，从而促进RF功率从所述主体通过所述夹具而至所述气体分配板的导电性。
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公开(公告)号：CN105051246B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201480006631.2
申请日：2014-01-23
申请人： 应用材料公司
发明人： 穆罕默德·M·拉希德 , 汪荣军 , 清·X·源 , 唐先明
IPC分类号： C23C14/35
CPC分类号： H01J37/3408 , C23C14/35 , C23C14/564 , H01J37/3288 , H01J37/3405 , H01J37/3452 , H01J37/3455 , H01J37/3476
摘要： 双磁控管，特别有用于RF等离子体溅射，包括：径向静止开环磁控管(82)，包括相对磁极(90、92)且绕中央轴(14)旋转以扫描溅射目标(20)的外部区域；和径向可移动式开环磁控管(84)，包括相对磁极(96、98)且与该静止磁控管一起旋转。在处理期间(图2)，该可移动式磁控管以开口端邻接于该静止磁控管的开口端径向地放置于外部区域中，以形成单一开环磁控管。在清理期间(图3)，该可移动式磁控管的部分径向地向内移动以扫描及清理目标未被该静止磁控管扫描的内部区域。该可移动式磁控管可装设于臂(114)上，该臂于旋转碟状平板(100)的周边处绕轴(118)转动，该静止磁控管装设于该碟状平板，使得该臂离心地根据旋转速率或方向在径向位置间移动。
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公开(公告)号：CN106257637A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201610421556.7
申请日：2016-06-13
CPC分类号： H01L21/6719 , H01J37/3244 , H01J37/3288
摘要： 本发明提供紧固2个以上主体的装置。基板处理装置，其包括：腔室，其内部具有处理空间；支撑单元，其在上述处理空间支撑基板；以及气体供给单元，其向上述处理空间内供给工艺气体，上述气体供给单元包括：喷头，其与上述支撑单元相对；支撑板，其支撑上述喷头；紧固组件，其紧固上述喷头和上述支撑板，上述紧固组件包括：紧固主体，其形成为包绕上述支撑板的环状，可以以上述支撑板的中心轴为中心进行旋转。因而，本发明的基板处理装置可以迅速执行喷头的装卸。
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