半導体装置
    3.
    发明专利
    半導体装置 有权
    半导体设备

    公开(公告)号:JPWO2014042055A1

    公开(公告)日:2016-08-18

    申请号:JP2014535505

    申请日:2013-09-04

    摘要: 【課題】特に、MEMSセンサに対する熱応力の影響を従来よりも小さくすることができる半導体装置を提供することを目的としている。【解決手段】プリント基板2(支持基板)上に第1のダイボンド樹脂5を介して積層されたシリコンを主体とするMEMSセンサ3と、前記MEMSセンサ3上に第2のダイボンド樹脂9を介して積層された第1のシリコン基板11(磁気センサ用ASIC)と、封止材としてのモールド樹脂20と、を有しており、各ダイボンド樹脂5,9は、前記モールド樹脂20よりも軟質な材質により形成されていることを特徴とする。【選択図】図2

    摘要翻译: 一个特别的,本发明的目的是提供一种可以比热应力对MEMS传感器的现有效果较小的半导体器件。 和印刷电路板2的MEMS传感器3为主层压硅的通过在第一芯片键合树脂5(支撑衬底)上,通过在MEMS传感器3的第二管芯接合树脂9 被堆叠在第一硅衬底11(ASIC磁传感器),作为密封材料的树脂20,具有比模具的树脂20的相应的管芯接合树脂5和9,较软的材料 其特征在于,它是由形成。 .The

    構造体、局在型表面プラズモン共鳴センサ用チップ、及び局在型表面プラズモン共鳴センサ

    公开(公告)号:JPWO2010140616A1

    公开(公告)日:2012-11-22

    申请号:JP2011518470

    申请日:2010-06-02

    IPC分类号: G01N21/27

    摘要: より高感度の局在型表面プラズモン共鳴センサを提供し得る、局在型表面プラズモン共鳴センサ用チップを実現する。本発明の局在型表面プラズモン共鳴センサ用チップは、透明基板(51)と、当該透明基板(51)の表面の少なくとも一部を覆うように形成された金属層(52)とを有し、上記金属層(52)の表面には、平坦部と、上記平坦部に対して窪んだ凹部と、上記平坦部に対して突出した凸部とが形成されており、上記凸部は、上記凹部の外周に沿って連続的に突起しており、上記凹部の外周に沿って連続的に突起した上記凸部の頂点が成す形状の直径が5nm以上1,000nm以下の範囲内である。