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公开(公告)号:JP6576454B2
公开(公告)日:2019-09-18
申请号:JP2017535803
申请日:2016-01-04
申请人: アイ ジー エム マルタ リミテッド
发明人: シェア ポール
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公开(公告)号:JP2015533782A
公开(公告)日:2015-11-26
申请号:JP2015529007
申请日:2013-08-28
IPC分类号: C07C311/16 , A61K31/18 , A61K31/337 , A61K31/34 , A61K31/341 , A61K31/351 , A61K31/397 , A61K31/40 , A61K31/4168 , A61K31/426 , A61K31/438 , A61K31/44 , A61K31/4402 , A61K31/4453 , A61K31/4468 , A61K31/45 , A61K31/495 , A61K31/5375 , A61K31/55 , A61P31/12 , A61P31/20 , C07C311/17 , C07C311/20 , C07C311/51 , C07D205/02 , C07D207/12 , C07D207/26 , C07D211/56 , C07D211/58 , C07D211/76 , C07D211/96 , C07D213/42 , C07D213/81 , C07D233/84 , C07D277/56 , C07D295/04 , C07D295/12 , C07D295/22 , C07D305/08 , C07D307/22 , C07D307/64 , C07D309/14 , C07D333/34 , C07D333/48 , C07D491/107 , C07D491/113 , C07D493/08
CPC分类号: C07C311/37 , A61K31/18 , A61K31/337 , A61K31/34 , A61K31/341 , A61K31/351 , A61K31/397 , A61K31/401 , A61K31/4164 , A61K31/426 , A61K31/44 , A61K31/4453 , A61K31/4468 , A61K31/495 , A61K31/5375 , A61K31/55 , A61K45/06 , C07C311/14 , C07C311/16 , C07C311/20 , C07C311/51 , C07C2601/02 , C07C2601/04 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/08 , C07C2602/10 , C07D205/04 , C07D207/14 , C07D207/273 , C07D207/36 , C07D211/28 , C07D211/56 , C07D211/76 , C07D211/96 , C07D213/42 , C07D213/81 , C07D213/82 , C07D223/06 , C07D233/84 , C07D233/90 , C07D277/56 , C07D295/13 , C07D295/26 , C07D305/08 , C07D307/22 , C07D307/60 , C07D307/68 , C07D309/14 , C07D333/38 , C07D333/48 , C07D491/107 , C07D493/08
摘要: 式(I)のHBV複製の阻害薬であり、その立体化学異性体、並びに塩、水和物、溶媒和化合物を含み、式中、B、R1、R2及びR4は、本明細書に定義した通りの意味を有する。本発明はまた、前記化合物を製造する方法、これらを含む医薬組成物、及びHBV治療における単独での、又は他のHBV阻害薬と併用したその使用にも関する。【化1】
摘要翻译: 是HBV复制的式(I),其中,所述立体化学异构体,以及其盐,水合物,溶剂合物,其中,B,R 1,R 2和R 4如本文所定义的抑制剂 它有街道的意思。 本发明还涉及一种方法,用于制造涉及含有它们的药物组合物的化合物,并在HBV治疗,或在其使用HBV抑制剂其他组合隔离。 [公式1]
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公开(公告)号:JP5683533B2
公开(公告)日:2015-03-11
申请号:JP2012122480
申请日:2012-05-29
申请人: モレキュラー、トランスファー、インコーポレイテッドMolecular Transfer, Inc. , モレキュラー、トランスファー、インコーポレイテッドMolecular Transfer, Inc.
发明人: ジョエル、ジェシー , グリラット、ゲベエフ
IPC分类号: C12N15/09 , A61K48/00 , C07D295/04
CPC分类号: A61K9/1272 , C12N15/88 , C12N2720/12022 , C12N2810/6063
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公开(公告)号:JP5538542B2
公开(公告)日:2014-07-02
申请号:JP2012526026
申请日:2010-08-24
发明人: コルツェヴスキ,サビーネ , ピナール,エマニュエル
IPC分类号: C07C235/62 , A61K31/166 , A61K31/351 , A61K31/382 , A61K31/397 , A61K31/40 , A61K31/445 , A61K31/451 , A61K31/5395 , A61P25/04 , A61P25/18 , A61P25/28 , A61P43/00 , C07B53/00 , C07C231/12 , C07C231/18 , C07C233/79 , C07C319/20 , C07C323/62 , C07D205/04 , C07D207/06 , C07D207/10 , C07D207/12 , C07D211/38 , C07D211/44 , C07D211/46 , C07D211/58 , C07D265/30 , C07D295/04 , C07D295/12 , C07D309/14 , C07D335/02 , C07D487/04
CPC分类号: A61K31/166 , A61K31/397 , A61K31/40 , A61K31/4453 , A61K31/495 , A61K31/5375 , C07C233/79 , C07C235/62 , C07C323/62 , C07C2601/02 , C07C2601/04 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07D207/06 , C07D207/10 , C07D207/12 , C07D211/38 , C07D211/46 , C07D295/12 , C07D295/20 , C07D309/14 , C07D335/02 , C07D487/10
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公开(公告)号:JPWO2011024988A1
公开(公告)日:2013-01-31
申请号:JP2011528887
申请日:2010-08-30
申请人: 和光純薬工業株式会社
IPC分类号: C07C309/20 , C07C211/63 , C07D213/06 , C07D213/20 , C07D213/68 , C07D233/58 , C07D295/04 , C07D295/08
CPC分类号: C07C309/20 , C07D213/06 , C07D213/20 , C07D213/68 , C07D233/58 , C07D295/04 , C07D295/08
摘要: 要約課題コストが低く環境に優しく、且つ低い粘性及び融点を有する新規イオン液体を提供すること。解決手段本発明は、一般式[1]で示されるイオン液体の発明である。{式中、R1〜R3及びn個のR4は夫々独立して水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、R5〜R7は夫々独立してアルキル基、アラルキル基又はアリル基を表し、R8はアルキル基、アラルキル基、アリル基又は一般式[2](式中、Tは炭素数1〜8のアルキレン鎖を表し、R1〜R7及びnは前記に同じ。)で示される基を表し、Xは窒素原子又はリン原子を表し、nは1又は2を表す。nが1の場合は、R3とR4とが結合し、隣接する炭素原子と一緒になってシクロヘキセン環を形成していてもよい。また、Xが窒素原子である場合は、R5〜R7又はR5〜R6とそれらが結合する窒素原子とでヘテロ環を形成していてもよい。}
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公开(公告)号:JP4803377B2
公开(公告)日:2011-10-26
申请号:JP2006289489
申请日:2006-10-25
申请人: 信越化学工業株式会社
IPC分类号: G03F7/004 , C07D233/60 , C07D295/04 , C07J9/00 , C07J71/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/0392 , C07D233/60 , C07D235/06 , C07D295/088 , G03F7/0045 , G03F7/0382
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公开(公告)号:JP4676061B2
公开(公告)日:2011-04-27
申请号:JP2000561992
申请日:1999-07-30
发明人: コグラン,マイケル・ジエイ , シユカーヤンツ,ジエフリー・エム , ルーリー,ジエイ・アール , ワン,アラン・エツクス
IPC分类号: A61K31/136 , C07D295/04 , A61K31/00 , A61K31/137 , A61K31/167 , A61K31/222 , A61K31/24 , A61K31/27 , A61K31/341 , A61K31/36 , A61K31/40 , A61K31/402 , A61K31/4025 , A61K31/4453 , A61K31/45 , A61K31/4545 , A61K31/535 , A61K31/5375 , A61K31/5377 , A61P5/38 , A61P5/44 , A61P5/46 , A61P25/18 , A61P25/20 , A61P25/22 , A61P29/00 , A61P37/00 , C07C211/52 , C07C215/16 , C07C217/16 , C07C217/76 , C07C217/84 , C07C219/06 , C07C219/10 , C07C233/40 , C07C233/43 , C07C233/62 , C07C233/80 , C07C239/22 , C07C271/28 , C07C271/44 , C07C275/26 , C07C311/03 , C07C323/29 , C07D295/06 , C07D307/36 , C07D307/52 , C07D317/48 , G05D23/13
CPC分类号: C07C211/52 , C07C211/50 , C07C215/16 , C07C217/76 , C07C217/80 , C07C219/06 , C07C229/18 , C07C233/43 , C07C233/44 , C07C233/62 , C07C233/80 , C07C271/28 , C07C311/39 , C07C323/29 , C07C2601/02 , C07D317/48
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公开(公告)号:JP2009533315A
公开(公告)日:2009-09-17
申请号:JP2008509565
申请日:2006-05-03
申请人: ランバクシー ラボラトリーズ リミテッド
发明人: アーメッド,シャハダット , アパディヤイ,ディリップ,ジェイ. , アローラ,ジャスビル,シン , カトック,リタ , グジラティ,アーティ , クルハデ,サントス,ハリバウ , コージェ,アブヒジット,ダッタ , ゴーシュ,ゾマ , ダス,ビスワジット , バンドヨパドヤイ,アニッシュ , ラティー,スジャータ
IPC分类号: C07C211/49 , A01N33/06 , A01N37/22 , A01N41/06 , A01N43/08 , A01N43/10 , A01N43/12 , A01N43/36 , A01N43/40 , A01N43/42 , A01N43/50 , A01N43/56 , A01N43/60 , A01N43/653 , A01N43/78 , A01N43/80 , A01N43/88 , A01N43/90 , A01N47/22 , A01N47/24 , A01N47/30 , A01N47/34 , A01N47/44 , A01P3/00 , A61K31/145 , A61K31/343 , A61K31/353 , A61K31/381 , A61K31/40 , A61K31/4035 , A61K31/4155 , A61K31/4188 , A61K31/4196 , A61K31/422 , A61K31/44 , A61K31/4406 , A61K31/455 , A61K31/495 , A61K31/506 , A61K31/5375 , A61P1/00 , A61P11/00 , A61P17/00 , A61P17/10 , A61P19/00 , A61P31/04 , A61P31/10 , C07C209/36 , C07C231/02 , C07C233/80 , C07C237/34 , C07C269/02 , C07C271/28 , C07C271/58 , C07C273/18 , C07C275/40 , C07C277/08 , C07C279/18 , C07C303/40 , C07C307/10 , C07C311/05 , C07C311/18 , C07C311/29 , C07C311/37 , C07C311/44 , C07C311/53 , C07C311/60 , C07C335/20 , C07D207/36 , C07D209/48 , C07D213/71 , C07D213/81 , C07D213/82 , C07D239/42 , C07D249/08 , C07D295/02 , C07D295/04 , C07D307/84 , C07D311/22 , C07D333/34 , C07D333/62 , C07D409/04 , C07D413/04 , C07D513/04
CPC分类号: Y02A50/478
摘要: 本明細書に提供されるものは、tRNAシンテターゼ阻害剤であり、従って抗菌剤として使用が可能な、芳香族化合物置換体である。 本明細書に記載される化合物は、グラム陽性、グラム陰性の、嫌気性細菌または真菌微生物、より詳細には細菌、例えば、Staphylococci, Enterococci, Streptococci, Haemophilus, Moraxalla, Escherichia, Chlamydia, Rickettsiae, Mycoplasm, Legionella, Mycobacterium, Helicobacter, Clostridium, Bacteroides, Corynebacterium, BacillusまたはEnterobactericeae, および真菌生物、例えば、Aspergillus, Blastomyces, Candida, Coccidiodes, Cryptococcus, Epidermophyton, Hendersonula, Histoplasma, Microsporum, Paecilomyces, Paracoccidiodes, Pneumocystis, Trichophyton, またはTrichosporiumによって引き起こされる、または、助長される病態の治療または予防に使用することが可能である。 これらの化合物、その製薬組成物の調製法、および微生物感染の治療法も提供される。
【選択図】なし-
9.Nitrogen-containing organic compound, resist material and pattern forming method 有权
标题翻译: 含氮有机化合物,耐腐蚀材料和图案形成方法公开(公告)号:JP2008107513A
公开(公告)日:2008-05-08
申请号:JP2006289489
申请日:2006-10-25
申请人: Shin Etsu Chem Co Ltd , 信越化学工業株式会社
IPC分类号: G03F7/004 , C07D233/60 , C07D295/04 , C07J9/00 , C07J71/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/0392 , C07D233/60 , C07D235/06 , C07D295/088 , G03F7/0045 , G03F7/0382
摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming material excellent in resolution and mask coverage dependency and useful in microfabrication using an electron beam or far-ultraviolet radiation. SOLUTION: The resist material contains a nitrogen-containing organic compound having a nitrogen-containing heterocycle represented by formula (1) and having a molecular weight of ≥380 as a quencher, wherein R 1 represents a 2-20C divalent substituent forming a nitrogen-containing heteroaliphatic ring or a nitrogen-containing heteroaromatic ring in combination with the nitrogen atom bonded at both ends and may contain an oxigen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a halogen atom; R 2 is an alkylene group which may contain a 2-10C carbonyl group; and R 3 is a 22-50C alkyl group or acyl group which may contain a hydroxyl group, a carbonyl group, an ester group, an ether group or a cyano group. The resist material containing the nitrogen-containing organic compound provides high resolution and satisfactory mask coverage dependency, is useful in microfabrication using an electron beam or far-ultraviolet radiation, and is suitable for use as a fine pattern forming material for VLSI production. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译: 要解决的问题:提供分辨率和掩模覆盖度依赖性优异的图案形成材料,并且在使用电子束或远紫外线辐射的微细加工中是有用的。 解决方案:抗蚀剂材料含有具有由式(1)表示的含氮杂环并且分子量≥380的作为猝灭剂的含氮有机化合物,其中R
1 SP>表示 与两末端结合的氮原子结合形成含氮杂脂族环或含氮杂芳环的2-20C二价取代基,可含有氧原子,氮原子,硫原子或卤原子; R SP2是可以含有2-10C羰基的亚烷基; R 3是可以含有羟基,羰基,酯基,醚基或氰基的22-50℃的烷基或酰基。 包含含氮有机化合物的抗蚀剂材料提供高分辨率和令人满意的掩模覆盖依赖性,可用于使用电子束或远紫外线辐射的微细加工,并且适合用作用于VLSI生产的精细图案形成材料。 版权所有(C)2008,JPO&INPIT -
10.
公开(公告)号:JP2008500383A
公开(公告)日:2008-01-10
申请号:JP2007517477
申请日:2005-05-09
申请人: ファイザー・プロダクツ・インク
发明人: コフマン,カレン・ジーン , ブロドニー,マイケル・アーロン
IPC分类号: C07D211/26 , A61K31/495 , A61K31/496 , A61K31/5377 , A61P1/04 , A61P3/04 , A61P9/06 , A61P9/10 , A61P9/12 , A61P15/10 , A61P25/00 , A61P25/06 , A61P25/08 , A61P25/14 , A61P25/16 , A61P25/18 , A61P25/20 , A61P25/22 , A61P25/24 , A61P25/28 , A61P25/30 , A61P25/32 , A61P25/34 , A61P25/36 , A61P43/00 , C07D213/38 , C07D213/40 , C07D213/64 , C07D213/74 , C07D213/75 , C07D213/80 , C07D213/82 , C07D217/24 , C07D231/06 , C07D231/40 , C07D239/42 , C07D241/04 , C07D285/12 , C07D285/135 , C07D295/02 , C07D295/03 , C07D295/04 , C07D295/06 , C07D295/073 , C07D295/08 , C07D295/096 , C07D295/12 , C07D295/135 , C07D295/14 , C07D295/155 , C07D295/192 , C07D307/52 , C07D317/60 , C07D317/68 , C07D319/18 , C07D401/14 , C07D405/04 , C07D405/12
CPC分类号: C07D213/40 , C07D211/26 , C07D213/38 , C07D213/64 , C07D213/74 , C07D213/75 , C07D213/79 , C07D213/80 , C07D213/82 , C07D217/24 , C07D231/40 , C07D239/42 , C07D285/135 , C07D295/03 , C07D295/033 , C07D295/073 , C07D295/096 , C07D295/135 , C07D295/155 , C07D295/192 , C07D307/52 , C07D317/60 , C07D319/18 , C07D405/04 , C07D471/04
摘要: 本発明は、新規なテトラヒドロナフチルピペラジン誘導体、すなわち式(I)の化合物[式中:R
1 、R
2 およびR
6 は明細書中に定めたものであり、XはCH
2 またはOであり、Aは後記の式(G
1 、G
2 、G
2a 、G
3 、G
4 、G
5 またはG
6 )の基であり、Dは式(D)の基であり、Y、W、ZはCまたはNであり、R
7 は明細書中に定めたものである]、およびそれらの塩類、ならびに組成物に関する。 これには、セロトニン1(5-HT
1 )受容体の選択的なアンタゴニスト、インバースアゴニストおよび部分アゴニストが含まれる。 本発明化合物は、5-HT
1 アゴニストまたはアンタゴニストの関与が示唆されるうつ病、不安、強迫性障害(OCD)その他の障害の治療または予防に有用である。
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