積體電路製造方法
    112.
    发明专利
    積體電路製造方法 审中-公开
    集成电路制造方法

    公开(公告)号:TW201403757A

    公开(公告)日:2014-01-16

    申请号:TW102124132

    申请日:2013-07-05

    CPC classification number: H01L22/20 H01L21/76898 H01L22/12

    Abstract: 本發明揭露關於形成具有一或更多個矽通孔(through silicon via,TSV)特徵之IC結構之積體電路製造方法及其實施方式。該積體電路製造方法包括:執行複數個處理步驟;由該複數個處理步驟收集實體量測資料(physical metrology data);基於該實體量測資料,由該複數個處理步驟收集虛擬量測資料(virtual metrology data);基於該實體量測資料及該虛擬量測資料,產生積體電路結構之良率預測;及基於該良率預測,鑑別在一稍早處理步驟(an earlier processing step)中之一動作。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明揭露关于形成具有一或更多个硅通孔(through silicon via,TSV)特征之IC结构之集成电路制造方法及其实施方式。该集成电路制造方法包括:运行复数个处理步骤;由该复数个处理步骤收集实体量测数据(physical metrology data);基于该实体量测数据,由该复数个处理步骤收集虚拟量测数据(virtual metrology data);基于该实体量测数据及该虚拟量测数据,产生集成电路结构之良率预测;及基于该良率预测,鉴别在一稍早处理步骤(an earlier processing step)中之一动作。

    半導體封裝
    115.
    发明专利
    半導體封裝 审中-公开
    半导体封装

    公开(公告)号:TW202015197A

    公开(公告)日:2020-04-16

    申请号:TW108122395

    申请日:2019-06-26

    Abstract: 本發明實施例提供半導體封裝。所述半導體封裝中的一種包括半導體晶粒、導熱圖案、包封體及導熱層。所述導熱圖案設置於所述半導體晶粒旁邊。所述包封體包封所述半導體晶粒及所述導熱圖案。所述導熱層覆蓋所述半導體晶粒的背表面,其中所述導熱圖案藉由所述導熱層而熱耦合至所述半導體晶粒且與所述半導體晶粒電性絕緣。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明实施例提供半导体封装。所述半导体封装中的一种包括半导体晶粒、导热图案、包封体及导热层。所述导热图案设置于所述半导体晶粒旁边。所述包封体包封所述半导体晶粒及所述导热图案。所述导热层覆盖所述半导体晶粒的背表面,其中所述导热图案借由所述导热层而热耦合至所述半导体晶粒且与所述半导体晶粒电性绝缘。

    半導體封裝結構
    117.
    发明专利
    半導體封裝結構 审中-公开
    半导体封装结构

    公开(公告)号:TW201904001A

    公开(公告)日:2019-01-16

    申请号:TW106138091

    申请日:2017-11-03

    Abstract: 提供半導體封裝結構,半導體封裝結構包含晶片結構,半導體封裝結構包含第一導電結構位於晶片結構上方,第一導電結構電性連接至晶片結構,第一導電結構包含第一過渡層位於晶片結構上方以及第一導電層位於第一過渡層上,第一導電層大致由雙晶銅製成。

    Abstract in simplified Chinese: 提供半导体封装结构,半导体封装结构包含芯片结构,半导体封装结构包含第一导电结构位于芯片结构上方,第一导电结构电性连接至芯片结构,第一导电结构包含第一过渡层位于芯片结构上方以及第一导电层位于第一过渡层上,第一导电层大致由双晶铜制成。

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