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    基板處理裝置及基板處理方法
    1.
    发明专利
    基板處理裝置及基板處理方法 审中-公开
    基板处理设备及基板处理方法

    公开(公告)号：TW201541544A

    公开(公告)日：2015-11-01

    申请号：TW104112906

    申请日：2015-04-22

    申请人： 斯克林集團公司 ,  SCREEN HOLDINGS CO., LTD.

    发明人： 桒原丈二 ,  KUWAHARA, JOJI

    IPC分类号： H01L21/67 ,  G03F7/16

    CPC分类号： H01L21/68 ,  H01L21/67703 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/683 ,  H01L2221/683 ,  H05K13/0015 ,  H05K13/0061

    摘要： 本發明係為了藉由對準器調整基板之位置而預先取得對應於1個或複數個旋轉卡盤之1個或複數個修正資訊，並記憶於記憶部。各修正資訊係表示為了於藉由搬送機構自對準器向各旋轉卡盤搬送基板時使搬送後之基板中心與該旋轉卡盤之旋轉中心一致，而應藉由對準器調整之位置。於基板處理時，於自對準器向任一旋轉卡盤搬送基板前，基於記憶於記憶體之對應於該旋轉卡盤之修正資訊，藉由對準器調整基板之位置。

    简体摘要： 本发明系为了借由对准器调整基板之位置而预先取得对应于1个或复数个旋转卡盘之1个或复数个修正信息，并记忆于记忆部。各修正信息系表示为了于借由搬送机构自对准器向各旋转卡盘搬送基板时使搬送后之基板中心与该旋转卡盘之旋转中心一致，而应借由对准器调整之位置。于基板处理时，于自对准器向任一旋转卡盘搬送基板前，基于记忆于内存之对应于该旋转卡盘之修正信息，借由对准器调整基板之位置。

    基板盒洗淨裝置（四）
    4.
    发明专利
    基板盒洗淨裝置（四） 审中-公开
    基板盒洗净设备（四）

    公开(公告)号：TW201420471A

    公开(公告)日：2014-06-01

    申请号：TW102133902

    申请日：2013-09-18

    申请人： 修谷魯電子機器股份有限公司 ,  HUGLE ELECTRONICS INC.

    发明人： 坂下俊也 ,  SAKASHITA, TOSHIYA

    IPC分类号： B65G49/07 ,  B08B3/04

    CPC分类号： B08B3/10 ,  B08B3/02 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B9/0861 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/304 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67703 ,  H01L21/6773

    摘要： 【課題】本發明之課題在於：可使基板盒之各零件在槽本體內分開而進行洗淨，且可使洗淨液全面地接觸，而可確實地進行洗淨。【解決手段】本發明之基板盒洗淨裝置構成為：是將具備有基體及殼體且於內部可收容基板的基板盒，在內部沒有基板的狀態下進行洗淨的基板盒洗淨裝置，具備有將基板盒之基體及殼體各零件以分離狀態收容並洗淨的洗淨槽，又具備有將基板盒之各零件對於洗淨槽進行搬送的搬送機構，且使洗淨槽構成為具備有槽本體、及可開閉的蓋子，更具備有：旋轉板，可以垂直方向之軸線為中心旋轉地設置於槽本體之底部；複數個基體支承桿，直立設置於旋轉板且在預定之高度位置上支承基體之外緣的一部份；以及複數個殼體支承桿，直立設置於旋轉板且在與基體支承桿不同的預定之高度位置支承殼體之外緣的一部份。

    简体摘要： 【课题】本发明之课题在于：可使基板盒之各零件在槽本体内分开而进行洗净，且可使洗净液全面地接触，而可确实地进行洗净。【解决手段】本发明之基板盒洗净设备构成为：是将具备有基体及壳体且于内部可收容基板的基板盒，在内部没有基板的状态下进行洗净的基板盒洗净设备，具备有将基板盒之基体及壳体各零件以分离状态收容并洗净的洗净槽，又具备有将基板盒之各零件对于洗净槽进行搬送的搬送机构，且使洗净槽构成为具备有槽本体、及可开闭的盖子，更具备有：旋转板，可以垂直方向之轴线为中心旋转地设置于槽本体之底部；复数个基体支承杆，直立设置于旋转板且在预定之高度位置上支承基体之外缘的一部份；以及复数个壳体支承杆，直立设置于旋转板且在与基体支承杆不同的预定之高度位置支承壳体之外缘的一部份。

    基板盒洗淨裝置（三）
    8.
    发明专利
    基板盒洗淨裝置（三） 审中-公开
    基板盒洗净设备（三）

    公开(公告)号：TW201423886A

    公开(公告)日：2014-06-16

    申请号：TW102133901

    申请日：2013-09-18

    申请人： 修谷魯電子機器股份有限公司 ,  HUGLE ELECTRONICS INC.

    发明人： 坂下俊也 ,  SAKASHITA, TOSHIYA

    IPC分类号： H01L21/67

    CPC分类号： B08B9/205 ,  B08B3/02 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B9/0861 ,  G03F1/66 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/304 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67703 ,  H01L21/6773

    摘要： [課題]本發明之課題在於：使從載置台至支持台的移載不複雜而可較為簡易，而且，朝支持台的定位也可容易地進行。[解決手段]本發明之基板盒洗淨裝置具備有於小室內將基板盒之各零件以分離狀態收容並洗淨的洗淨槽，設有在小室內支持基板盒的支持台，具備有將基板盒之各零件在支持台與洗淨槽之間進行搬送的搬送機構，設有於小室之開口的外部可載置基板盒的載置台，並設置在載置台與支持台之間移載基板盒的移載機構，使移載機構可搭載支持台而移動於如下之2個位置：進出於載置台側而進行與載置台間之基板盒之受取、交付的進出位置、以及後退至小室內而在與搬送機構之間進行基板盒之交付、受取的後退位置。

    简体摘要： [课题]本发明之课题在于：使从载置台至支持台的移载不复杂而可较为简易，而且，朝支持台的定位也可容易地进行。[解决手段]本发明之基板盒洗净设备具备有于小室内将基板盒之各零件以分离状态收容并洗净的洗净槽，设有在小室内支持基板盒的支持台，具备有将基板盒之各零件在支持台与洗净槽之间进行搬送的搬送机构，设有于小室之开口的外部可载置基板盒的载置台，并设置在载置台与支持台之间移载基板盒的移载机构，使移载机构可搭载支持台而移动于如下之2个位置：进出于载置台侧而进行与载置台间之基板盒之受取、交付的进出位置、以及后退至小室内而在与搬送机构之间进行基板盒之交付、受取的后退位置。

    真空處理設備及製造方法 VACUUM TREATMENT APPARATUS AND A METHOD FOR MANUFACTURING
    10.
    发明专利
    真空處理設備及製造方法 VACUUM TREATMENT APPARATUS AND A METHOD FOR MANUFACTURING 审中-公开
    真空处理设备及制造方法 VACUUM TREATMENT APPARATUS AND A METHOD FOR MANUFACTURING

    公开(公告)号：TW201236102A

    公开(公告)日：2012-09-01

    申请号：TW100148755

    申请日：2011-12-27

    申请人： OC歐瑞康巴爾斯公司

    发明人： 史考特凡麥斯特 巴特 ,  麗茲勒 渥夫甘 ,  勞德 羅傑 ,  巴茲蘭 羅夫 ,  羅勒 丹尼爾

    IPC分类号： H01L

    CPC分类号： C23C16/458 ,  C23C14/50 ,  C23C14/541 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/52 ,  F04B45/02 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32834 ,  H01J2237/3321 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67703 ,  H01L21/67739 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67751 ,  H01L21/6776

    摘要： 本發明係關於一種真空處理設備及製造方法。此真空處理設備包含：用於處理工件(特別是矽晶圓)的複數個處理室(18、19)；一運送室(15)，裝附至透過個別開口而與該運送室(15)相通的該等處理室(18、19)，該運送室包含位於該等處理室(18、19)每一者附近的複數搬運區；一工件載體，其設置於該運送室(15)內且被構造成將工件運送於搬運區之間；及一個以上的搬運器，用以將工件運送於搬運區與處理室(18、19)之間。藉此，運送室(15)繞著一軸線呈環狀，且該等開口具有大致平行於該軸線的開口軸線。以此方式，運送室上的力量會被重新導向至一大型支撐結構，且因此可以獲得符合成本效益、重量輕且仍舊堅固的機械結構。

    简体摘要： 本发明系关于一种真空处理设备及制造方法。此真空处理设备包含：用于处理工件(特别是硅晶圆)的复数个处理室(18、19)；一运送室(15)，装附至透过个别开口而与该运送室(15)相通的该等处理室(18、19)，该运送室包含位于该等处理室(18、19)每一者附近的复数搬运区；一工件载体，其设置于该运送室(15)内且被构造成将工件运送于搬运区之间；及一个以上的搬运器，用以将工件运送于搬运区与处理室(18、19)之间。借此，运送室(15)绕着一轴线呈环状，且该等开口具有大致平行于该轴线的开口轴线。以此方式，运送室上的力量会被重新导向至一大型支撑结构，且因此可以获得符合成本效益、重量轻且仍旧坚固的机械结构。