公开(公告)号：US4780129A

公开(公告)日：1988-10-25

申请号：US14146

申请日：1987-02-13

申请人： Rainer Becker ,  Dieter Jahn ,  Ulrich Schirmer ,  Michael Keil ,  Bruno Wuerzer ,  Norbert Meyer

发明人： Rainer Becker ,  Dieter Jahn ,  Ulrich Schirmer ,  Michael Keil ,  Bruno Wuerzer ,  Norbert Meyer

IPC分类号： A01N35/10 ,  A01N37/50 ,  A01N49/00 ,  A01N53/00 ,  C07C45/00 ,  C07C49/713 ,  C07C49/723 ,  C07C49/733 ,  C07C49/825 ,  C07C51/00 ,  C07C59/90 ,  C07C62/38 ,  C07C67/00 ,  C07C69/757 ,  C07C239/00 ,  C07C251/42 ,  C07C251/44 ,  C07C253/00 ,  C07C255/31 ,  C07C255/62 ,  A01N33/24 ,  A01N31/04 ,  C07C121/46 ,  C07C121/48

CPC分类号： C07C255/00 ,  A01N35/10 ,  A01N37/50 ,  A01N49/00 ,  A01N53/00 ,  C07C49/723 ,  C07C49/825 ,  C07C59/90 ,  C07C62/38

摘要： Cyclohexenone derivatves of the formula ##STR1## where R.sup.1 is alkyl, R.sup.2 is alkyl, unsubstituted or substituted alkenyl or alkynyl, A is alkoxycarbonyl, carboxyl, cyano or trifluoromethyl, B is hydrogen or methyl, X is straight-chain, branched or cyclic alkylene, Z is hydrogen or alkoxycarbonyl and n is 0 or 1, and salts thereof, and their use for combatting unwanted plant growth.

摘要翻译： 式（Ⅰ）的环己烯酮衍生物，其中R1是烷基，R2是烷基，未取代的或取代的烯基或炔基，A是烷氧基羰基，羧基，氰基或三氟甲基，B是氢或甲基，X是直链， 或环状亚烷基，Z为氢或烷氧基羰基，n为0或1，及其盐，以及它们用于防治不想要的植物生长的用途。

公开(公告)号：US4612036A

公开(公告)日：1986-09-16

申请号：US750997

申请日：1985-07-02

申请人： Dieter Jahn ,  Rainer Becker ,  Michael Keil ,  Bruno Wuerzer

发明人： Dieter Jahn ,  Rainer Becker ,  Michael Keil ,  Bruno Wuerzer

IPC分类号： A01N43/08 ,  A01N43/10 ,  A01N43/14 ,  A01N43/18 ,  A01N43/28 ,  A01N43/32 ,  C07D333/48 ,  C07D335/02 ,  C07D339/06 ,  C07D339/08

CPC分类号： C07D333/48 ,  A01N43/10 ,  A01N43/18 ,  A01N43/28 ,  A01N43/32 ,  C07D335/02 ,  C07D339/08

摘要： Cyclohexane-1,3-dione derivatives of the formula ##STR1## where A is an unsubstituted or substituted, saturated or unsaturated 4-membered to 7-membered ring which contains 1 or 2 sulfinyl or sulfonyl groups, R.sup.1 is hydrogen, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, methyl or cyano, R.sup.2 is alkyl and R.sup.3 is alkyl, alkenyl, haloalkenyl or propargyl, and salts of these compounds are used for controlling undesirable plant growth.

摘要翻译： 其中A是未取代或取代的饱和或不饱和的4元至7元环，其含有1或2个亚磺酰基或磺酰基，R 1为氢，甲氧基羰基，乙氧基羰基 ，甲基或氰基，R 2是烷基，R 3是烷基，烯基，卤代烯基或炔丙基，并且这些化合物的盐用于控制不期望的植物生长。

公开(公告)号：US4596877A

公开(公告)日：1986-06-24

申请号：US655727

申请日：1984-09-28

申请人： Rainer Becker ,  Dieter Jahn ,  Michael Keil ,  Ulrich Schirmer ,  Bruno Wuerzer ,  Norbert Meyer

发明人： Rainer Becker ,  Dieter Jahn ,  Michael Keil ,  Ulrich Schirmer ,  Bruno Wuerzer ,  Norbert Meyer

IPC分类号： C07D335/02 ,  A01N20060101 ,  A01N43/18 ,  A01N43/78 ,  C07D20060101

CPC分类号： A01N43/18 ,  C07D335/02

摘要： Cyclohexenone derivatives of the formula ##STR1## where R.sup.1 is alkyl and R.sup.2 is chloroalkenyl are useful in controlling undesirable plant growth.

摘要翻译： 其中R 1为烷基且R 2为氯链烯基的式“IMAGE”的环己烯酮衍生物可用于控制不期望的植物生长。

公开(公告)号：US4585881A

公开(公告)日：1986-04-29

申请号：US584864

申请日：1984-02-29

申请人： Rainer Becker ,  Bruno Wuerzer

发明人： Rainer Becker ,  Bruno Wuerzer

IPC分类号： A01N43/36 ,  C07D207/44

CPC分类号： C07D207/44 ,  A01N43/36

摘要： 2,5-Dihydro-5-aryliminopyrrole derivatives of the formula ##STR1## where R.sup.1 is hydrogen or alkyl, R.sup.2 and R.sup.3 are each alkyl, and Ar is unsubstituted or substituted aryl, are used for controlling undesirable plant growth.

摘要翻译： 式（Ⅰ）的2,5-二氢-5-芳基亚胺基吡咯衍生物，其中R 1是氢或烷基，R 2和R 3各自是烷基，Ar是未取代或取代的芳基，用于控制不期望的植物生长。

公开(公告)号：US4568383A

公开(公告)日：1986-02-04

申请号：US498043

申请日：1983-05-25

申请人： Dieter Jahn ,  Wolfgang Rohr ,  Rainer Becker ,  Norbert Gotz ,  Bruno Wurzer

发明人： Dieter Jahn ,  Wolfgang Rohr ,  Rainer Becker ,  Norbert Gotz ,  Bruno Wurzer

IPC分类号： A01N35/06 ,  A01N37/44 ,  C07C67/00 ,  C07C239/00 ,  C07C239/14 ,  C07C239/18 ,  A01N33/02 ,  C07C83/00

CPC分类号： A01N35/06 ,  A01N37/44

摘要： Cyclohexane-1,3-dione deriatives of the general formula ##STR1## where R.sub.1 is cyclohexenyl or cyclohexadienyl, X is hydrogen or alkoxycarbonyl, R.sub.2 is alkyl and R.sub.3 is alkyl, alkenyl, propargyl or haloalkenyl, and salts thereof, and herbicides containing these compounds.

摘要翻译： 其中R 1是环己烯基或环己二烯基，X是氢或烷氧基羰基，R 2是烷基，R 3是烷基，链烯基，炔丙基或卤代烯基，及其盐，和含有这些的酰基的除草剂的通式为“IMAGE”的环己烷-1,3-二酮衍生物 化合物。

公开(公告)号：US4517013A

公开(公告)日：1985-05-14

申请号：US515898

申请日：1983-07-21

申请人： Rainer Becker ,  Dieter Jahn ,  Michael Keil ,  Walter Himmele ,  Bruno Wuerzer

发明人： Rainer Becker ,  Dieter Jahn ,  Michael Keil ,  Walter Himmele ,  Bruno Wuerzer

IPC分类号： A01N35/06 ,  A01N35/10 ,  A01N37/08 ,  A01N37/34 ,  A01N37/44 ,  A01N37/50 ,  A01N41/10 ,  C07C67/00 ,  C07C213/00 ,  C07C239/20 ,  C07C253/00 ,  C07C255/46 ,  C07C313/00 ,  C07C317/28 ,  C07C323/47 ,  A01N31/04 ,  A01N33/24 ,  C07C149/14

CPC分类号： A01N37/50 ,  A01N35/06 ,  A01N35/10 ,  A01N37/44 ,  A01N41/10

摘要： Cyclohexane-1,3-dione derivatives of the formula ##STR1## where R.sup.1 is C.sub.1 -C.sub.4 -alkyl, R.sup.2 is C.sub.1 -C.sub.5 -alkyl, unsubstituted or halogen-substituted C.sub.2 -C.sub.5 -alkenyl or C.sub.2 -C.sub.5 -alkynyl, R.sup.3 is C.sub.1 -C.sub.10 -alkyl, which contains 2, 3 or 4 of the hetero-atoms O and/or S and/or the groups --SO-- and/or --SO.sub.2 -- in any desired position and R.sup.4 is hydrogen, cyano, methyl or --COOR.sup.5, where R.sup.5 is C.sub.1 -C.sub.5 -alkyl, and salts of these compounds are used for controlling undesirable plant growth.

摘要翻译： 其中R 1是C 1 -C 4 - 烷基，R 2是C 1 -C 5 - 烷基，未取代的或被卤素取代的C 2 -C 5 - 烯基或C 2 -C 5 - 炔基的式Ⅺa的环己烷-1,3-二酮衍生物，R3是 C 1 -C 10 - 烷基，其在任何所需位置含有2,3或4个杂原子O和/或S和/或-SO-和/或-SO 2 - 基，R 4为氢，氰基，甲基或 -COOR5，其中R5是C1-C5-烷基，并且这些化合物的盐被用于控制不期望的植物生长。

公开(公告)号：US4500340A

公开(公告)日：1985-02-19

申请号：US443523

申请日：1982-11-22

申请人： Rainer Becker ,  Hans Theobald ,  Ulrich Schirmer ,  Wolfgang Spiegler ,  Walter Seufert ,  Bruno Wuerzer

发明人： Rainer Becker ,  Hans Theobald ,  Ulrich Schirmer ,  Wolfgang Spiegler ,  Walter Seufert ,  Bruno Wuerzer

IPC分类号： A01N47/30 ,  C07D231/12 ,  C07D233/64 ,  C07D233/68 ,  C07D249/08 ,  C07D261/08 ,  C07D271/06 ,  C07D271/10 ,  C07D277/22 ,  C07D277/24 ,  C07D277/28 ,  C07D277/64 ,  C07D285/08 ,  C07D285/12 ,  C07D277/62 ,  C07D277/20 ,  C07D333/14

CPC分类号： C07D231/12 ,  A01N47/30 ,  C07D233/68 ,  C07D261/08 ,  C07D271/06 ,  C07D271/10 ,  C07D277/24 ,  C07D277/64 ,  C07D285/08 ,  C07D285/12

摘要： Urea derivatives of the formula ##STR1## where R, X, Z, Het and n have the meanings given in the description, are used for controlling undesirable plant growth.

摘要翻译： 其中R，X，Z，Het和n具有说​​明书中给出的含义的式“IMAGE”的脲衍生物用于控制不期望的植物生长。

公开(公告)号：US4396418A

公开(公告)日：1983-08-02

申请号：US259543

申请日：1981-05-01

申请人： Ulrich Schirmer ,  Rainer Becker ,  Bruno Wuerzer ,  Guenter Retzlaff

发明人： Ulrich Schirmer ,  Rainer Becker ,  Bruno Wuerzer ,  Guenter Retzlaff

IPC分类号： A01N47/20 ,  A01P13/00 ,  C07C67/00 ,  C07C239/00 ,  C07C271/28 ,  C07C271/42 ,  C07C271/48 ,  C07C313/00 ,  C07C315/04 ,  C07C317/22 ,  C07C317/42 ,  C07C323/43 ,  C07C325/00 ,  C07C333/08 ,  C07C155/02 ,  A01N31/14 ,  A01N37/44 ,  C07C125/06

CPC分类号： A01N47/20

摘要： N-aryl(thiol)carbamates of the formula ##STR1## where X denotes hydrogen, fluorine, bromine, iodine, alkyl, alkoxy, haloalkyl, haloalkoxy, alkylthio, alkylsulfinyl or alkylsulfonyl of 1 to 6 carbon atoms, cycloalkyl of 3 to 6 carbon atoms, phenyl or benzyloxy, Y denotes hydrogen, halogen, alkyl, alkoxy, haloalkyl, haloalkoxy, alkylthio, alkylsulfinyl or alkylsulfonyl of 1 to 6 carbon atoms, cycloalkyl of 3 to 6 carbon atoms, phenyl or benzyloxy, n denotes one of the integers 1 and 2, Z denotes hydrogen, halogen or trifluoromethyl, A denotes oxygen, sulfur, sulfinyl or sulfonyl, and Q denotes oxygen or sulfur, and their use for combating unwanted plant growth.

摘要翻译： 式（I）的N-芳基（硫醇）氨基甲酸酯，其中X表示1至6个碳原子的氢，氟，溴，碘，烷基，烷氧基，卤代烷基，卤代烷氧基，烷硫基，烷基亚磺酰基或烷基磺酰基， 苯基或苄氧基，Y表示氢，卤素，烷基，烷氧基，卤代烷基，卤代烷氧基，烷硫基，烷基亚磺酰基或具有1至6个碳原子的烷基磺酰基，3至6个碳原子的环烷基，苯基或苄氧基，n表示一个 的整数1和2，Z表示氢，卤素或三氟甲基，A表示氧，硫，亚磺酰基或磺酰基，Q表示氧或硫，以及它们用于抵抗不想要的植物生长的用途。

公开(公告)号：US09023666B2

公开(公告)日：2015-05-05

申请号：US13058587

申请日：2009-08-13

申请人： Nicole Auth ,  Petra Spies ,  Rainer Becker ,  Thorsten Hofmann ,  Klaus Edinger

发明人： Nicole Auth ,  Petra Spies ,  Rainer Becker ,  Thorsten Hofmann ,  Klaus Edinger

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213

CPC分类号： H01L21/3065 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/32136

摘要： The invention relates to a method for electron beam induced etching of a material (100, 200) with the method steps providing at least one etching gas at a position of the material (100, 200) at which an electron beam impacts on the material (100, 200) and simultaneously providing at least one passivation gas which is adapted for slowing down or inhibiting a spontaneous etching by the at least one etching gas.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于电子束感应蚀刻材料（100,200）的方法，该方法步骤在电子束撞击材料（100,200）的位置提供至少一种蚀刻气体（ 100,200），并且同时提供至少一个钝化气体，该钝化气体适于减缓或抑制至少一种蚀刻气体的自发蚀刻。

公开(公告)号：US08632687B2

公开(公告)日：2014-01-21

申请号：US13058635

申请日：2009-08-11

申请人： Nicole Auth ,  Petra Spies ,  Rainer Becker ,  Thorsten Hofmann ,  Klaus Edinger

发明人： Nicole Auth ,  Petra Spies ,  Rainer Becker ,  Thorsten Hofmann ,  Klaus Edinger

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： H01L21/3065 ,  H01J37/3056 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/32136

摘要： The invention relates to a method for electron beam induced etching of a layer contaminated with gallium, with the method steps of providing at least one first halogenated compound as an etching gas at the position at which an electron beam impacts on the layer, and providing at least one second halogenated compound as a precursor gas for removing of the gallium from this position.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于电子束诱导的被镓污染的层的蚀刻的方法，其方法步骤是在电子束冲击该层的位置处提供至少一种第一卤化化合物作为蚀刻气体，并且在 至少一个第二卤代化合物作为用于从该位置除去镓的前体气体。