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    Antireflective coating compositions
    11.
    发明授权
    Antireflective coating compositions 有权
    防反射涂料组合物

    公开(公告)号：US08329387B2

    公开(公告)日：2012-12-11

    申请号：US12133567

    申请日：2008-07-08

    申请人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel

    发明人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Jian Yin ,  Hengpeng Wu ,  Mark Neisser ,  Ralph Dammel

    IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  C08G73/06 ,  C08G73/10 ,  C08G18/71

    CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G63/6854 ,  C08G73/0273 ,  C08G73/06 ,  C08G73/0638 ,  C08G73/0644 ,  C08G73/0677 ,  C08L79/04 ,  C09D167/00 ,  C09D179/04

    摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising a novel polymer without an aromatic chromophore, where the polymer comprises a structural unit derived from an aminoplast and a structural unit derived from a diol, triol, dithiol, trithiol, other polyols, diacid, triacid, other polyacids, diimide or mixture thereof, where the diol, dithiol, triol, trithiol, diacid, triacid, diimide, diamide or imide-amide optionally contain one or more nitrogen and/or sulfur atoms or contain one or more alkene groups. The invention also relates to the novel polymer and a process for using the novel antireflective coating composition in a lithographic process.

    摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含没有芳族发色团的新型聚合物，其中聚合物包含衍生自氨基塑料的结构单元和衍生自二醇，三醇，二硫醇，三硫醇，其它多元醇，二酸，三酸的结构单元 ，其它多元酸，二酰亚胺或其混合物，其中二醇，二硫醇，三醇，三硫醇，二酸，三酸，二酰亚胺，二酰胺或酰亚胺 - 酰胺任选地含有一个或多个氮和/或硫原子或含有一个或多个烯烃基团。 本发明还涉及新型聚合物和在光刻工艺中使用新型抗反射涂料组合物的方法。

    Antireflective composition for photoresists
    12.
    发明申请
    Antireflective composition for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US20080038659A1

    公开(公告)日：2008-02-14

    申请号：US11502706

    申请日：2006-08-10

    申请人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    发明人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' '独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C 1 -C 20 -C 20）烃基部分，W是（C 1 H 12） C 20 -C 20烃基连接部分，Y'独立地为（C 1 -C 20）烃基连接部分 。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。

    Solvent mixtures for antireflective coating compositions for photoresists
    15.
    发明授权
    Solvent mixtures for antireflective coating compositions for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射涂料组合物的溶剂混合物

    公开(公告)号：US07824844B2

    公开(公告)日：2010-11-02

    申请号：US11624744

    申请日：2007-01-19

    申请人： Zhong Xiang ,  Hengpeng Wu ,  Hong Zhuang ,  Eleazar Gonzalez ,  Mark O. Neisser

    发明人： Zhong Xiang ,  Hengpeng Wu ,  Hong Zhuang ,  Eleazar Gonzalez ,  Mark O. Neisser

    IPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/30 ,  G03F7/11 ,  C08F8/30 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/091 ,  C09D7/20 ,  G03F7/0048

    摘要： The invention relates to an antireflective coating composition capable of being coated beneath a photoresist layer, where the antireflective coating composition comprises a polymeric crosslinker and a solvent mixture, where the solvent mixture comprises at least one primary organic solvent and at least one secondary organic solvent selected from any of structures 1, 2 and 3, where, R1, R3, and R4, are selected from H and C1-C6 alkyl, and R2, R5, R6, R7, R8, and R9 are selected from C1-C6 alkyl, and n=1-5. The invention also relates to an antireflective coating composition capable of being coated beneath a photoresist layer, where the antireflective coating composition comprises a polymeric crosslinker and a solvent mixture, where the solvent mixture comprises at least 2 organic solvents, and where the antireflective coating composition has a liquid particle count at 0.2 micron of less than 100/ml after accelerated aging.

    摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其能够涂覆在光致抗蚀剂层下面，其中抗反射涂料组合物包含聚合物交联剂和溶剂混合物，其中溶剂混合物包含至少一种主要有机溶剂和至少一种选择的二级有机溶剂 其中R 1，R 3和R 4选自H和C 1 -C 6烷基，R 2，R 5，R 6，R 7，R 8和R 9选自C 1 -C 6烷基， n = 1-5。 本发明还涉及能够涂覆在光致抗蚀剂层下面的抗反射涂料组合物，其中抗反射涂料组合物包含聚合物交联剂和溶剂混合物，其中溶剂混合物包含至少2种有机溶剂，并且其中抗反射涂料组合物具有 在加速老化后，0.2微米的液体颗粒数小于100 / ml。

    Antireflective coating compositions
    20.
    发明授权
    Antireflective coating compositions 有权
    防反射涂料组合物

    公开(公告)号：US07666575B2

    公开(公告)日：2010-02-23

    申请号：US11550459

    申请日：2006-10-18

    申请人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

    发明人： Woo-Kyu Kim ,  Hengpeng Wu ,  David Abdallah ,  Mark Neisser ,  PingHung Lu ,  Ruzhi Zhang ,  M. Dalil Rahman

    IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising, (i) a thermal acid generator; (ii) a crosslinkable polymer comprising at least one aromatic group; and, (iii) a polymeric crosslinker comprising at least one unit of structure (6), where R11 to R13 is independently selected from H, (C1-C6) alkyl and aromatic group, R14 and R15 are independently (C1-C10) alkyl. The invention also relates to a process for imaging the antireflective coating composition of the present invention.

    摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含：（i）热酸发生剂; （ii）包含至少一个芳族基团的可交联聚合物; 和（iii）包含至少一个结构单元（6）的聚合物交联剂，其中R 11至R 13独立地选自H，（C 1 -C 6）烷基和芳族基团，R 14和R 15独立地为（C 1 -C 10）烷基 。 本发明还涉及一种用于对本发明的抗反射涂料组合物进行成像的方法。