利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

25 条记录 (耗时 0.023 秒)

    Vinylphenylpropionic acid derivatives, production process therefor, polymer thereof and radiation sensitive resin composition
    12.
    发明授权
    Vinylphenylpropionic acid derivatives, production process therefor, polymer thereof and radiation sensitive resin composition 有权
    乙烯基苯丙酸衍生物，其制备方法，其聚合物和辐射敏感树脂组合物

    公开(公告)号：US06770780B1

    公开(公告)日：2004-08-03

    申请号：US10129119

    申请日：2002-05-14

    申请人： Yong Wang ,  Yasuaki Mutsuga ,  Shigeo Shimizu ,  Tsutomu Shimokawa ,  Atsushi Kumano

    发明人： Yong Wang ,  Yasuaki Mutsuga ,  Shigeo Shimizu ,  Tsutomu Shimokawa ,  Atsushi Kumano

    IPC分类号： C07F909

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07C67/343 ,  C07C69/618 ,  C07D309/12 ,  C08F30/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039

    摘要： Vinylphenylpropionic acid derivatives; processes for producing the derivatives; polymers of the same; and radiosensitive resin compositions containing the polymers. The above polymers exhibit low radiation absorption and are useful as the resin component of radiosensitive resin compositions particularly suitable for chemically amplified resists. For example, t-butyl 4-vinylphenylpropionate is produced by (1) reacting t-butyl bromoacetate with tri(n-butyl)phosphine to obtain a quaternary phosphonium salt, (2) reacting this salt with a base to obtain a phosphorus ylide, (3) reacting this ylide with 2,4,6-tris(3′,5′-di-t-butyl-4′-hydroxybenzyl)methyl-styrene to obtain a quaternary phosphonium salt, and (4) hydrolyzing this salt.

    摘要翻译： 乙烯基苯丙酸衍生物; 制备衍生物的方法; 相同的聚合物; 和含有聚合物的放射敏感性树脂组合物。 上述聚合物表现出低的辐射吸收，并且可用作特别适用于化学放大抗蚀剂的放射敏感树脂组合物的树脂组分。 例如，通过（1）使溴乙酸叔丁酯与三（正丁基）膦反应得到季鏻盐，（2）使该盐与碱反应得到磷内叶立德，得到4-乙烯基苯基丙酸叔丁酯， （3）使该叶立德与2,4,6-三（3'，5'-二叔丁基-4'-羟基苄基）甲基苯乙烯反应，得到季鏻盐，（4）水解该盐。

    Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof
    13.
    发明授权
    Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof 失效
    辐射敏感组合物的折射率变化及其利用

    公开(公告)号：US07125647B2

    公开(公告)日：2006-10-24

    申请号：US10275285

    申请日：2002-03-08

    申请人： Isao Nishimura ,  Nobuo Bessho ,  Atsushi Kumano ,  Kenji Yamada

    发明人： Isao Nishimura ,  Nobuo Bessho ,  Atsushi Kumano ,  Kenji Yamada

    IPC分类号： G03C5/00 ,  G03C1/73 ,  C08L83/14 ,  G03F7/028 ,  G03F7/032

    CPC分类号： G03F7/039 ,  G02B1/04 ,  G02B6/02033 ,  G03F7/001 ,  G03F7/0042 ,  G03F7/0043 ,  G03F7/0757 ,  C08L85/00 ,  C08L83/04

    摘要： To provide a refractive index pattern and an optical material whose refractive indices are changed by a simple method, which have a sufficiently large refractive index difference and which are stable irrespective of their use conditions, and a method of forming these.A radiation sensitive refractive index changing composition comprising (A) a decomposable compound, (B) a hydrolyzate of an alkoxide such as tetrabutoxytitanium, tetramethoxyzirconium, tetramethoxygermanium or tetramethoxysilane, or a halogen compound such as tetrachlorosilane and (C) a radiation sensitive decomposer; and a method of producing a refractive index pattern and an optical material, using the above radiation sensitive refractive index changing composition.

    摘要翻译： 为了提供折射率图案和其折射率通过简单的方法改变的光学材料，以及形成这些折射率图案的方法，它们具有足够大的折射率差并且不论其使用条件如何都是稳定的。 一种辐射敏感折射率变化组合物，其包含（A）可分解化合物，（B）四丁氧基钛，四甲氧基锆，四甲氧基锗或四甲氧基硅烷等醇盐的水解产物，或四氯硅烷等卤素化合物和（C）辐射敏感性分解剂。 以及使用上述辐射敏感折射率变化组合物制造折射率图案和光学材料的方法。

    Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index
    16.
    发明授权
    Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index 失效
    辐射敏感组合物的折射率变化和折射率变化的方法

    公开(公告)号：US07108954B2

    公开(公告)日：2006-09-19

    申请号：US10415102

    申请日：2001-12-06

    申请人： Isao Nishimura ,  Nobuo Bessho ,  Atsushi Kumano ,  Tsutomu Shimokawa ,  Kenji Yamada

    发明人： Isao Nishimura ,  Nobuo Bessho ,  Atsushi Kumano ,  Tsutomu Shimokawa ,  Kenji Yamada

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/001 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039

    摘要： A radiation sensitive refractive index changing composition comprising (A) a decomposable compound, (B) a non-decomposable compound having a higher refractive index than the decomposable compound (A), (C) a radiation sensitive decomposer and (D) a stabilizer. By exposing this composition to radiation through a pattern mask, the above components (C) and (A) of an exposed portion decompose to create a refractive index difference between the exposed portion and an unexposed portion, thereby forming a pattern having different refractive indices.

    摘要翻译： 一种辐射敏感折射率变化组合物，其包含（A）可分解化合物，（B）具有比可分解化合物（A）更高的折射率的不可分解化合物，（C）辐射敏感分解剂和（D）稳定剂。 通过将该组合物暴露于图​​案掩模的辐射，暴露部分的上述组分（C）和（A）分解以产生曝光部分和未曝光部分之间的折射率差，从而形成具有不同折射率的图案。

    Method for forming pattern, and optical element
    20.
    发明授权
    Method for forming pattern, and optical element 有权
    形成图案的方法和光学元件

    公开(公告)号：US07378224B2

    公开(公告)日：2008-05-27

    申请号：US10888985

    申请日：2004-07-13

    申请人： Masaaki Hanamura ,  Shinji Shiraki ,  Atsushi Kumano

    发明人： Masaaki Hanamura ,  Shinji Shiraki ,  Atsushi Kumano

    IPC分类号： G03F7/00

    CPC分类号： G03F7/001 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/40

    摘要： There is provided a method for forming a pattern comprising two regions of different refractive indices easily, that is, a method comprising the steps of forming a pattern having a water-shedding oil-shedding region by use of a radiation sensitive resin composition and coating the pattern with a high refractive index resin solution using a solvent having low wettability to the water-shedding oil-shedding region so as to form two regions of different refractive indices.

    摘要翻译： 提供了一种用于形成包含两个不同折射率区域的图案的方法，即，一种方法包括以下步骤：通过使用辐射敏感性树脂组合物形成具有脱水油脱落区域的图案，并涂布 使用对脱水脱油区域具有低润湿性的溶剂的高折射率树脂溶液的图案，以形成不同折射率的两个区域。