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    Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof
    1.
    发明授权
    Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof 失效
    辐射敏感组合物的折射率变化及其利用

    公开(公告)号：US07125647B2

    公开(公告)日：2006-10-24

    申请号：US10275285

    申请日：2002-03-08

    申请人： Isao Nishimura ,  Nobuo Bessho ,  Atsushi Kumano ,  Kenji Yamada

    发明人： Isao Nishimura ,  Nobuo Bessho ,  Atsushi Kumano ,  Kenji Yamada

    IPC分类号： G03C5/00 ,  G03C1/73 ,  C08L83/14 ,  G03F7/028 ,  G03F7/032

    CPC分类号： G03F7/039 ,  G02B1/04 ,  G02B6/02033 ,  G03F7/001 ,  G03F7/0042 ,  G03F7/0043 ,  G03F7/0757 ,  C08L85/00 ,  C08L83/04

    摘要： To provide a refractive index pattern and an optical material whose refractive indices are changed by a simple method, which have a sufficiently large refractive index difference and which are stable irrespective of their use conditions, and a method of forming these.A radiation sensitive refractive index changing composition comprising (A) a decomposable compound, (B) a hydrolyzate of an alkoxide such as tetrabutoxytitanium, tetramethoxyzirconium, tetramethoxygermanium or tetramethoxysilane, or a halogen compound such as tetrachlorosilane and (C) a radiation sensitive decomposer; and a method of producing a refractive index pattern and an optical material, using the above radiation sensitive refractive index changing composition.

    摘要翻译： 为了提供折射率图案和其折射率通过简单的方法改变的光学材料，以及形成这些折射率图案的方法，它们具有足够大的折射率差并且不论其使用条件如何都是稳定的。 一种辐射敏感折射率变化组合物，其包含（A）可分解化合物，（B）四丁氧基钛，四甲氧基锆，四甲氧基锗或四甲氧基硅烷等醇盐的水解产物，或四氯硅烷等卤素化合物和（C）辐射敏感性分解剂。 以及使用上述辐射敏感折射率变化组合物制造折射率图案和光学材料的方法。

    Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index
    4.
    发明授权
    Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index 失效
    辐射敏感组合物的折射率变化和折射率变化的方法

    公开(公告)号：US07108954B2

    公开(公告)日：2006-09-19

    申请号：US10415102

    申请日：2001-12-06

    申请人： Isao Nishimura ,  Nobuo Bessho ,  Atsushi Kumano ,  Tsutomu Shimokawa ,  Kenji Yamada

    发明人： Isao Nishimura ,  Nobuo Bessho ,  Atsushi Kumano ,  Tsutomu Shimokawa ,  Kenji Yamada

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/001 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039

    摘要： A radiation sensitive refractive index changing composition comprising (A) a decomposable compound, (B) a non-decomposable compound having a higher refractive index than the decomposable compound (A), (C) a radiation sensitive decomposer and (D) a stabilizer. By exposing this composition to radiation through a pattern mask, the above components (C) and (A) of an exposed portion decompose to create a refractive index difference between the exposed portion and an unexposed portion, thereby forming a pattern having different refractive indices.

    摘要翻译： 一种辐射敏感折射率变化组合物，其包含（A）可分解化合物，（B）具有比可分解化合物（A）更高的折射率的不可分解化合物，（C）辐射敏感分解剂和（D）稳定剂。 通过将该组合物暴露于图​​案掩模的辐射，暴露部分的上述组分（C）和（A）分解以产生曝光部分和未曝光部分之间的折射率差，从而形成具有不同折射率的图案。

    Image processing apparatus and image forming apparatus
    6.
    发明授权
    Image processing apparatus and image forming apparatus 有权
    图像处理装置和图像形成装置

    公开(公告)号：US07715065B2

    公开(公告)日：2010-05-11

    申请号：US11355900

    申请日：2006-02-17

    申请人： Isao Nishimura ,  Hiroyuki Nagano

    发明人： Isao Nishimura ,  Hiroyuki Nagano

    IPC分类号： H04N1/04

    CPC分类号： H04N1/46

    摘要： An image processing apparatus includes a detecting unit that detects whether image data for each of the lines in generated image information is chromatic or achromatic; and a determining unit that determines whether the original is chromatic or achromatic based on a detection result of the detecting unit for a first area of the image information, excluding a detection result for a predetermined second area of the image information, the predetermined second area including an end line among the lines in a scanning direction of the original.

    摘要翻译： 图像处理装置包括：检测单元，其检测所生成的图像信息中的每行的图像数据是彩色还是无彩色; 以及确定单元，基于所述图像信息的第一区域的检测单元的检测结果，除了所述图像信息的预定第二区域的检测结果之外，确定所述原稿是彩色还是无彩色，所述预定第二区域包括 在原稿的扫描方向上的行中的结束行。

    Acid generators, sulfonic acids, sulfonyl halides, and radiation sensitive resin compositions
    8.
    发明申请
    Acid generators, sulfonic acids, sulfonyl halides, and radiation sensitive resin compositions 有权
    酸产生剂，磺酸，磺酰卤和辐射敏感性树脂组合物

    公开(公告)号：US20070054214A1

    公开(公告)日：2007-03-08

    申请号：US10547769

    申请日：2004-02-20

    申请人： Satoshi Ebata ,  Yong Wang ,  Isao Nishimura

    发明人： Satoshi Ebata ,  Yong Wang ,  Isao Nishimura

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： C07C309/19 ,  C07C309/17 ,  C07C309/23 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  C07D207/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

    摘要： The invention provides novel acid generators which are unproblematic in combustibility and accumulation inside the human body and can generate acids having high acidities and high boiling points and exhibiting properly short diffusion lengths in resist coating films and which permit the formation of resist patterns excellent smoothness with little dependence on the denseness of a mask pattern; sulfonic acids generated from the acid generators; sulfonyl halides useful as raw material in the synthesis of the acid generators; and radiation-sensitive resin compositions containing the acid generators. The acid generators have structures represented by the general formula (I), wherein R1 is a monovalent substituent such as alkoxycarbonyl, alkylsulfonyl, or alkoxysulfonyl, R2 to R4 are each hydrogen or alkyl; k is an integer of 0 or above; and n is an integer of 0 to 5. Among the radiation-sensitive resin compositions, a positive one contains a resin having acid-dissociable groups in addition to the above acid generator, while a negative one contains an alkali-soluble resin and a crosslinking agent in addition to the acid generator.

    摘要翻译： 本发明提供了新颖的酸产生剂，其在人体内的可燃性和积聚中是无问题的，并且可以产生具有高酸度和高沸点的酸，并且在抗蚀剂涂膜中显示适当短的扩散长度，并且允许形成抗蚀剂图案，具有极好的平滑性 依赖于掩模图案的致密度; 酸产生器产生的磺酸; 用于合成酸发生剂的原料的磺酰卤; 和含有酸发生剂的辐射敏感性树脂组合物。 酸产生剂具有由通式（I）表示的结构，其中R 1是一价取代基，例如烷氧基羰基，烷基磺酰基或烷氧基磺酰基，R 2至R“ > 4个各自为氢或烷基; k为0以上的整数; 并且n为0〜5的整数。在这些辐射敏感性树脂组合物中，除了上述酸产生剂之外，阳性物质含有具有酸解离基团的树脂，而负极性物质含有碱溶性树脂和交联 除酸产生剂外还可加入。