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    Electromagnetic clutch
    11.
    发明授权
    Electromagnetic clutch 失效
    电磁离合器

    公开(公告)号：US5361883A

    公开(公告)日：1994-11-08

    申请号：US212286

    申请日：1994-03-14

    申请人： Tetsuo Yamamoto

    发明人： Tetsuo Yamamoto

    IPC分类号： F16D27/112 ,  F16D27/14

    CPC分类号： F16D27/112 ,  F16D27/14 ,  F16D2027/008

    摘要： An electromagnetic clutch includes a rotor assembly constituted by a pulley portion and a rotor portion. The pulley portion has a pulley portion on an outer circumferential side, is axially supported on a driven shaft to be rotatable, and is designed to receive a driving force from a driving shaft. The rotor portion has an armature on a side of the driving shaft. The armature is selectively friction-engaged by magnetic attraction. The rotor portion of the rotor assembly is formed by casting to have an uneven surface shape constituted by a plurality of projections on its outer circumferential surface. The synthetic resin pulley portion is integrally coupled to the outer circumferential surface of the rotor portion by insert molding.

    摘要翻译： 电磁离合器包括由滑轮部分和转子部分构成的转子组件。 滑轮部分在外周侧具有滑轮部分，被轴向支撑在从动轴上以可旋转，并被设计成从驱动轴接收驱动力。 转子部分在驱动轴的一侧具有电枢。 电枢通过磁吸引选择性地摩擦接合。 转子组件的转子部分通过铸造形成具有由其外周表面上的多个突起构成的不平坦表面形状。 合成树脂皮带轮部分通过嵌入成型一体地联接到转子部分的外圆周表面。

    Apparatus for filtering water containing radioactive substances in nuclear power plants
    12.
    发明授权
    Apparatus for filtering water containing radioactive substances in nuclear power plants 失效
    用于过滤核电厂放射性物质的装置

    公开(公告)号：US4756875A

    公开(公告)日：1988-07-12

    申请号：US893450

    申请日：1986-08-07

    申请人： Fumio Tajima ,  Tetsuo Yamamoto

    发明人： Fumio Tajima ,  Tetsuo Yamamoto

    IPC分类号： B01D63/02 ,  B01D63/04 ,  B01D65/02 ,  G21C19/307 ,  G21C19/30 ,  B01D39/02

    CPC分类号： B01D63/024 ,  B01D63/043 ,  B01D65/02 ,  G21C19/307 ,  B01D2321/04 ,  B01D2321/185 ,  B01D2321/2058

    摘要： An apparatus for filtering waste water containing radioactive solid particles or produced in a nuclear reactor power plant and wherein the water is filtered with a plurality of U-shaped hollow fibers each having a sponge like mesh structure containing numerous pores for trapping radioactive substances, the hollow fibers being made of flexible polyethylene and each pore having a diameter of about 0.1 micron. An air pipe is provided beneath the U-shaped hollow fibers for bubbling air into water to be filtered surrounding the fibers, thereby removing solid particles trapped in the pores.

    摘要翻译： 一种用于过滤含有放射性固体颗粒或在核反应堆发电厂中生产的废水的设备，其中用多个U形中空纤维过滤水，每个U形中空纤维具有海绵状网状结构，其包含用于捕获放射性物质的许多孔， 纤维由柔性聚乙烯制成，每个孔具有约0.1微米的直径。 在U形中空纤维之下设置空气管，用于将空气鼓泡到围绕纤维的过滤水中，从而除去捕获在孔中的固体颗粒。

    Substrate processing apparatus
    14.
    发明授权
    Substrate processing apparatus 有权
    基板加工装置

    公开(公告)号：US09209015B2

    公开(公告)日：2015-12-08

    申请号：US12783312

    申请日：2010-05-19

    申请人： Tetsuo Yamamoto ,  Naoki Matsumoto ,  Koichi Honda

    发明人： Tetsuo Yamamoto ,  Naoki Matsumoto ,  Koichi Honda

    IPC分类号： C23C16/00 ,  H01L21/306 ,  C23F1/00 ,  H01L21/02 ,  C23C16/34 ,  C23C16/455 ,  C23C16/50 ,  H01J37/32 ,  C23C16/52

    CPC分类号： H01L21/02274 ,  C23C16/345 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45578 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01J2237/3321 ,  H01L21/0214 ,  H01L21/0228

    摘要： Provided is a substrate processing apparatus, which comprises a process chamber configured to process a substrate, a first plasma generation chamber in the process chamber, a first reactive gas supply unit configured to supply first reactive gas into the first plasma generation chamber, a pair of first discharge electrodes configured to generate plasma and to excite the first reactive gas, a first gas ejection port installed in a side wall of the first plasma generation chamber to eject an active species toward the substrate, a second plasma generation chamber in the process chamber, a second reactive gas supply unit configured to supply second reactive gas into the second plasma generation chamber, a pair of second discharge electrodes configured to generate plasma and to excite the second reactive gas, and a second gas ejection port installed in a side wall of the second plasma generation chamber to eject an active species.

    摘要翻译： 提供了一种基板处理装置，其包括处理基板的处理室，处理室中的第一等离子体生成室，被配置为将第一反应气体供应到第一等离子体产生室中的第一反应气体供给单元， 第一放电电极，被配置为产生等离子体并激发第一反应气体;第一气体喷出口，安装在第一等离子体产生室的侧壁中，以向基板喷射活性物质;处理室中的第二等离子体产生室; 第二反应气体供给单元，被配置为将第二反应气体供应到第二等离子体产生室中;一对第二放电电极，被配置为产生等离子体并激发第二反应气体;以及第二气体喷出口，其安装在第二等离子体产生室的侧壁中 第二等离子体产生室以喷射活性物质。

    SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
    15.
    发明申请
    SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS 有权
    基板加工设备

    公开(公告)号：US20100300357A1

    公开(公告)日：2010-12-02

    申请号：US12783312

    申请日：2010-05-19

    申请人： Tetsuo Yamamoto ,  Naoki Matsumoto ,  Koichi Honda

    发明人： Tetsuo Yamamoto ,  Naoki Matsumoto ,  Koichi Honda

    IPC分类号： H01L21/46 ,  C23C16/513

    CPC分类号： H01L21/02274 ,  C23C16/345 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45578 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01J2237/3321 ,  H01L21/0214 ,  H01L21/0228

    摘要： Provided is a substrate processing apparatus, which comprises a process chamber configured to process a substrate, a first plasma generation chamber in the process chamber, a first reactive gas supply unit configured to supply first reactive gas into the first plasma generation chamber, a pair of first discharge electrodes configured to generate plasma and to excite the first reactive gas, a first gas ejection port installed in a side wall of the first plasma generation chamber to eject an active species toward the substrate, a second plasma generation chamber in the process chamber, a second reactive gas supply unit configured to supply second reactive gas into the second plasma generation chamber, a pair of second discharge electrodes configured to generate plasma and to excite the second reactive gas, and a second gas ejection port installed in a side wall of the second plasma generation chamber to eject an active species.

    摘要翻译： 提供了一种基板处理装置，其包括处理基板的处理室，处理室中的第一等离子体生成室，被配置为将第一反应气体供应到第一等离子体产生室中的第一反应气体供给单元， 第一放电电极，被配置为产生等离子体并激发第一反应气体;第一气体喷出口，安装在第一等离子体产生室的侧壁中，以向基板喷射活性物质;处理室中的第二等离子体产生室; 第二反应气体供给单元，被配置为将第二反应气体供应到第二等离子体产生室中;一对第二放电电极，被配置为产生等离子体并激发第二反应气体;以及第二气体喷出口，其安装在第二等离子体产生室的侧壁中 第二等离子体产生室以喷射活性物质。

    Peripheral device feature allowing processors to enter a low power state
    16.
    发明申请
    Peripheral device feature allowing processors to enter a low power state 有权
    外围设备功能允许处理器进入低功耗状态

    公开(公告)号：US20050156038A1

    公开(公告)日：2005-07-21

    申请号：US10762767

    申请日：2004-01-20

    申请人： Henry Wurzburg ,  Tetsuo Yamamoto ,  Mark Atchison

    发明人： Henry Wurzburg ,  Tetsuo Yamamoto ,  Mark Atchison

    IPC分类号： G06F1/32 ,  G06F1/26 ,  G06K7/00 ,  G06K7/06 ,  G06K17/00

    CPC分类号： G06F1/3215 ,  G06F1/266 ,  G06F1/325

    摘要： If a USB device is turned off or is not active, the device may be electrically disconnected from a USB host controller. The device may be electrically disconnected through a physical interface on the device. In some embodiments, if the device becomes active during a wait period (e.g., 2-3 seconds) prior to electrically disconnecting the device, the device may not be electrically disconnected. In some embodiments, when the device is electrically disconnected from the USB host controller and no system activity of a bus mastering peripheral is occurring, the CPU may enter a low power state if other conditions are met. In some embodiments, if the USB device becomes active after electrically disconnecting, the electrical disconnection may be discontinued.

    摘要翻译： 如果USB设备关闭或未激活，则设备可能与USB主机控制器电气断开。 该设备可以通过设备上的物理接口电断开。 在一些实施例中，如果在电气断开设备之前的设备在等待期间（例如2-3秒）期间变得有效，则该设备可能不会被电断开。 在一些实施例中，当设备与USB主机控制器电气断开连接并且没有发生总线母盘制作外设的系统活动时，如果满足其他条件，则CPU可以进入低功率状态。 在一些实施例中，如果在电断开之后USB设备变为有效，则可能停止电断开。

    Apparatus for radio communication of facsimile
    18.
    发明授权
    Apparatus for radio communication of facsimile 失效
    传真无线电通讯装置

    公开(公告)号：US5467199A

    公开(公告)日：1995-11-14

    申请号：US324488

    申请日：1994-10-18

    申请人： Shigeru Mikami ,  Masayuki Mori ,  Tetsuo Yamamoto ,  Matsuhiro Ohno ,  Mineo Matsumoto

    发明人： Shigeru Mikami ,  Masayuki Mori ,  Tetsuo Yamamoto ,  Matsuhiro Ohno ,  Mineo Matsumoto

    IPC分类号： H04N1/00

    CPC分类号： H04N1/00103

    摘要： Tone signal (34a) having a reference frequency (f) which is produced by the tone signal generation device (34) at the transmitter part is transmitted, via transmitter device (32), antenna (31), aerial line, antenna (32), to the reception sector (12). Then, the received tone signal (12a) is compared by the frequency correction circuit (A) with the preset reference signal (f), and according to a result of the comparison, a frequency produced by the reception sector (12) is corrected. That is, an error produced between the transmission frequency by the transmitter (32) and the reception frequency by the receiver (12) is apparently canceled. Thereby facsimile data can be transmitted so correctly to the receiver part so that the facsimile communication with use of radio SSB system can be successfully applied, although there may be an error between the transmitter frequency and the receiver frequency.

    摘要翻译： 通过发射机装置（32），天线（31），架空电线，天线（32）发射具有由发送器部分的音调信号产生装置（34）产生的参考频率（f）的音频信号（34a） ，到接收扇区（12）。 然后，通过频率校正电路（A）将接收到的音调信号（12a）与预设的参考信号（f）进行比较，并且根据比较结果，校正由接收扇区（12）产生的频率。 也就是说，在发送器（32）的发送频率与接收机（12）的接收频率之间产生的误差显然被取消。 由此，传真数据可以如此正确地发送到接收机部分，使得可以成功地应用使用无线SSB系统的传真通信，尽管发射机频率和接收机频率之间可能存在错误。

    Substrate processing apparatus
    19.
    发明授权
    Substrate processing apparatus 有权
    基板加工装置

    公开(公告)号：US08875656B2

    公开(公告)日：2014-11-04

    申请号：US12382331

    申请日：2009-03-13

    申请人： Tadashi Kontani ,  Tetsuo Yamamoto ,  Nobuhito Shima ,  Nobuo Ishimaru

    发明人： Tadashi Kontani ,  Tetsuo Yamamoto ,  Nobuhito Shima ,  Nobuo Ishimaru

    IPC分类号： C23C16/00 ,  C23C16/452 ,  C23C16/34 ,  C23C16/455

    CPC分类号： C23C16/345 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45542 ,  C23C16/45544

    摘要： A substrate processing apparatus includes a processing chamber in which a substrate is mounted, a gas supply unit that supplies processing gas into the processing chamber, a gas exhaust unit that exhausts atmospheric gas in the processing chamber, first and second electrodes to which high-frequency power is applied to set the processing gas to an active state. Each of the first and second electrodes includes a core wire formed of a metal and plural pipe bodies that are joined to one another through the core wire so as to be bendable, and less thermally deformed than the core wire.

    摘要翻译： 基板处理装置包括：处理室，其中安装有基板;气体供应单元，其将处理气体供应到处理室;排气单元，其排出处理室中的气氛气体;高频的第一和第二电极; 施加电力以将处理气体设置为活动状态。 第一电极和第二电极中的每一个包括由金属和多个管体形成的芯线，所述多个管体通过芯线彼此接合，以便能够弯曲，并且比芯线更不易热变形。