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    Negative resists based on acid-catalyzed elimination of polar molecules
    32.
    发明授权
    Negative resists based on acid-catalyzed elimination of polar molecules 失效
    基于酸催化消除极性分子的负电阻

    公开(公告)号：US07393624B2

    公开(公告)日：2008-07-01

    申请号：US11820862

    申请日：2007-06-20

    申请人： Robert David Allen ,  Gregory Breyta ,  Phillip Joe Brock ,  Richard A. DiPietro ,  David R. Medeiros ,  Ratnam Sooriyakumaran

    发明人： Robert David Allen ,  Gregory Breyta ,  Phillip Joe Brock ,  Richard A. DiPietro ,  David R. Medeiros ,  Ratnam Sooriyakumaran

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F220/24 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395

    摘要： The present invention provides polymers that are useful in negative resist compositions. Polymers of the present invention comprise (1) a first monomer having a polar functional group; (2) a second monomer; and optionally, (3) a third monomer that imparts at least one characteristic selected from crosslinkable functionality, etch resistance, and solubility modulation. The first monomer provides an acid catalyzed polarity switch upon elimination of the polar functional group, whereas, the second monomer provides aqueous dissolution. The polymers of the present invention may be incorporated into negative resist compositions, which may also include photoacid generators, crosslinking agents, basic compounds, solvents, dissolution accelerators, photobase generators, latent basic compounds, surfactants, adhesion promoters, and anti-foaming agents.

    摘要翻译： 本发明提供了可用于负性抗蚀剂组合物的聚合物。 本发明的聚合物包含（1）具有极性官能团的第一单体; （2）第二单体; 和（3）赋予选自可交联官能团，耐蚀刻性和溶解度调制中的至少一种特性的第三单体。 第一单体在消除极性官能团时提供酸催化的极性开关，而第二单体提供水溶解。 本发明的聚合物可以并入负性抗蚀剂组合物，其还可以包括光酸产生剂，交联剂，碱性化合物，溶剂，溶解促进剂，光碱产生剂，潜碱性化合物，表面活性剂，粘合促进剂和消泡剂。

    Photopatternable dielectric materials for BEOL applications and methods for use
    33.
    发明授权
    Photopatternable dielectric materials for BEOL applications and methods for use 有权
    用于BEOL应用的光图案介电材料和使用方法

    公开(公告)号：US08029971B2

    公开(公告)日：2011-10-04

    申请号：US12047435

    申请日：2008-03-13

    申请人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

    发明人： Robert D. Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Blake W. Davis ,  Qinghuang Lin ,  Robert D. Miller ,  Alshakim Nelson ,  Ratnam Sooriyakumaran

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  G03F7/38

    CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

    摘要： Compositions, a method, and a photopatternable blend. The compositions include a blend of a first and a second polymer. The first polymer is a substituted silsesquioxane copolymer. The second polymer is a substituted silsesquioxane polymer. The second polymer is configured to undergo chemical crosslinking with the first polymer, the second polymer, or a combination thereof, upon exposure to light, thermal energy, or a combination thereof. The compositions include a photosensitive acid generator. The method includes forming a film. The film is patternwise imaged, and at least one region is exposed to radiation. After the imaging, the film is baked, wherein at least one exposed region is rendered substantially soluble. After the baking, the film is developed, wherein a relief pattern remains. The relief pattern is exposed to radiation. The relief pattern is baked. The relief pattern is cured. A chemically amplified positive-tone photopatternable blend is also described.

    摘要翻译： 组合，一种方法和一种光图案化混合物。 组合物包括第一和第二聚合物的共混物。 第一聚合物是取代的倍半硅氧烷共聚物。 第二聚合物是取代的倍半硅氧烷聚合物。 第二聚合物被配置为在暴露于光，热能或其组合时与第一聚合物，第二聚合物或其组合进行化学交联。 组合物包括光敏酸产生剂。 该方法包括形成膜。 膜被图案化成像，并且至少一个区域暴露于辐射。 在成像之后，烘烤该膜，其中至少一个曝光区域呈现基本上可溶的。 烘烤后，显影膜，其中保留有浮雕图案。 浮雕图案暴露于辐射。 浮雕图案被烘烤。 浮雕图案被修复。 还描述了化学放大的正色调可光图案化混合物。

    Photoresist composition
    40.
    发明授权
    Photoresist composition 失效
    光刻胶组成

    公开(公告)号：US06806026B2

    公开(公告)日：2004-10-19

    申请号：US10159635

    申请日：2002-05-31

    申请人： Robert David Allen ,  Gregory Breyta ,  Phillip Brock ,  Richard A. DiPietro ,  Debra Fenzel-Alexander ,  Carl Larson ,  David R. Medeiros ,  Dirk Pfeiffer ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D. Truong ,  Gregory M. Wallraff

    发明人： Robert David Allen ,  Gregory Breyta ,  Phillip Brock ,  Richard A. DiPietro ,  Debra Fenzel-Alexander ,  Carl Larson ,  David R. Medeiros ,  Dirk Pfeiffer ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Hoa D. Truong ,  Gregory M. Wallraff

    IPC分类号： G03F7039

    CPC分类号： C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/108

    摘要： A photoresist composition is provided that includes a polymer having at least one acrylate or methacrylate monomer having a formula: where R1 represents hydrogen (H), a linear or branched alkyl group of 1 to 20 carbons, or a semi- or perfluorinated linear or branched alkyl group of 1 to 20 carbons; and where R2 represents an unsubstituted aliphatic group or a substituted aliphatic group having zero or one trifluoromethyl (CF3) group attached to each carbon of the substituted aliphatic group, or a substituted or unsubstituted aromatic group; and where R3 represents hydrogen (H), methyl (CH3), trifluoromethyl (CF3), difluoromethyl (CHF2), fluoromethyl (CH2F), or a semi- or perfluorinated aliphatic chain; and where R4 represents trifluoromethyl (CF3), difluoromethyl (CHF2), fluoromethyl (CH2F), or a semi- or perfluorinated substituted or unsubstituted aliphatic group. A method of patterning a substrate using the photoresist composition is also provided herein.

    摘要翻译： 提供了一种光致抗蚀剂组合物，其包括具有至少一种具有下式的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯单体的聚合物：其中R 1表示氢（H），1-20个碳的直链或支链烷基，或半或全氟 1〜20个碳原子的直链或支链烷基; 并且其中R 2表示未取代的脂族基团或具有连接在取代的脂族基团的每个碳上的零个或一个三氟甲基（CF 3）基团的取代的脂族基团，或取代或未取代的芳族基团; 并且其中R 3表示氢（H），甲基（CH 3），三氟甲基（CF 3），二氟甲基（CHF 2），氟甲基（CH 2 F）或半或全氟化脂族链; 并且其中R 4表示三氟甲基（CF 3），二氟甲基（CHF 2），氟甲基（CH 2 F）或半或全氟取代或未取代的脂族基团。 本文还提供了使用光致抗蚀剂组合物图案化衬底的方法。