公开(公告)号：US07687209B2

公开(公告)日：2010-03-30

申请号：US11384835

申请日：2006-03-21

申请人： Maurits Van Der Schaar ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren

发明人： Maurits Van Der Schaar ,  Richard Johannes Franciscus Van Haren

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0035 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70466 ,  G03F9/7084

摘要： A device manufacturing method includes a transfer of a pattern from a patterning device onto a substrate. The device manufacturing method further includes transferring a pattern of a main mark to a base layer for forming an alignment mark; depositing a pattern receiving layer on the base layer; in a first lithographic process, aligning, by using the main mark, a first mask that includes a first pattern and a local mark pattern, and transferring the first pattern and the local mark pattern to the pattern receiving layer; aligning, by using the local mark pattern, a second mask including a second pattern relative to the pattern receiving layer; andin a second lithographic process, transferring the second pattern to the pattern receiving layer; the first and second patterns being configured to form an assembled pattern.

摘要翻译： 一种器件制造方法包括将图案从图案形成装置转移到衬底上。 所述器件制造方法还包括将主标记的图案转印到用于形成对准标记的基底层; 在基层上沉积图案接收层; 在第一光刻工艺中，通过使用主标记对准包括第一图案和局部标记图案的第一掩模，并将第一图案和局部标记图案转印到图案接收层; 通过使用本地标记图案，相对于图案接收层对准包括第二图案的第二掩模; 并在第二光刻工艺中将第二图案转印到图案接收层; 第一和第二图案被配置成形成组装图案。

公开(公告)号：US07558643B2

公开(公告)日：2009-07-07

申请号：US11007578

申请日：2004-12-09

申请人： Maurits Van Der Schaar ,  Jeroen Huijbregtse ,  Sicco Ian Schets ,  Bart Luc Swinnen

发明人： Maurits Van Der Schaar ,  Jeroen Huijbregtse ,  Sicco Ian Schets ,  Bart Luc Swinnen

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G03F9/7092

摘要： A method according to one embodiment of the invention relates to determining at least one parameter of a model that provides information about a position of an object. The object may include a plurality of alignment marks of which desired positions are known. The method includes measuring a plurality of positional parameters for each alignment mark. Based on the measured plurality of positional parameters, which are weighted with weighing coefficients, at least one parameter of the model of the object is determined. The numerical value of each weighing coefficient is determined together with the at least one parameter of the model.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的方法涉及确定提供关于对象的位置的信息的模型的至少一个参数。 物体可以包括多个对准标记，其中期望的位置是已知的。 该方法包括测量每个对准标记的多个位置参数。 基于所测量的多个位置参数，其被称重系数加权，确定对象的模型的至少一个参数。 每个称重系数的数值与模型的至少一个参数一起确定。

公开(公告)号：US07532307B2

公开(公告)日：2009-05-12

申请号：US11170747

申请日：2005-06-30

申请人： Maurits Van Der Schaar ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers

发明人： Maurits Van Der Schaar ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42 ,  G03F9/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70641 ,  G03F7/70683

摘要： One or more focus settings for use in a device manufacturing method is determined by printing a plurality of target markers at different focus settings and using a scatterometer, e.g. off-line, to measure a property of the target markers that is indicative of focus.

摘要翻译： 通过在不同焦点设置下打印多个目标标记并使用散射仪，例如，用于在设备制造方法中使用的一个或多个焦点设置来确定。 离线，以测量指示焦点的目标标记的属性。

公开(公告)号：US20080311344A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：US11808922

申请日：2007-06-13

申请人： Antoine Gaston Marie Kiers ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Antoine Gaston Marie Kiers ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： B32B3/10 ,  B32B7/02 ,  B41L17/00 ,  G01N21/01 ,  G01N23/20

CPC分类号： G01N21/4788 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/95615 ,  G03F7/70633 ,  Y10T428/24331 ,  Y10T428/24942

摘要： An overlay target on a substrate is disclosed, the overlay target including a periodic array of structures wherein every nth structure is different from the rest of the structures. The periodic array is desirably made of two interlaced gratings, one of the gratings having a different pitch from the other grating in order to create an asymmetry in the array. This asymmetry can then be measured by measuring the diffraction spectra of radiation reflected from the overlay target. Variation in the asymmetry indicates the presence of an overlay error in layers on the substrate, where overlay targets are printed on subsequent layers.

摘要翻译： 公开了一种在衬底上的覆盖目标，覆盖目标包括周期性结构阵列，其中每第n个结构与其余结构不同。 期望地由两个隔行光栅制成周期阵列，其中一个光栅与另一个光栅具有不同的间距，以便在阵列中产生不对称性。 然后可以通过测量从覆盖目标反射的辐射的衍射光谱来测量该不对称性。 不对称性的变化表示衬底上存在覆盖层错误，其中覆盖目标印刷在后续层上。

公开(公告)号：US06768539B2

公开(公告)日：2004-07-27

申请号：US10043271

申请日：2002-01-14

申请人： Cheng-Qun Gui ,  Henricus Wilheimus Maria Van Buel ,  Maurits Van Der Schaar ,  Arie Jeffrey Den Boef

发明人： Cheng-Qun Gui ,  Henricus Wilheimus Maria Van Buel ,  Maurits Van Der Schaar ,  Arie Jeffrey Den Boef

IPC分类号： G03B2742

CPC分类号： G03F7/70691 ,  G03F7/70216 ,  G03F9/7084

摘要： A lithographic projection apparatus is provided with an optical system built into the wafer table for producing an image of a wafer mark that is provided on the back side of the wafer. The image is located at the plane of the front side of the wafer and can be viewed by an alignment system from the front side of the wafer. Simultaneous alignment between marks on the back and front of the wafer and a mask can be performed using a pre-existing alignment system

摘要翻译： 光刻投影装置设置有内置在晶片台中的光学系统，用于产生设置在晶片背面的晶片标记的图像。 图像位于晶片正面的平面上，并且可以通过对准系统从晶片的正面观察。 可以使用预先存在的对准系统来执行晶片背面和前面的标记与掩模之间的同时对准

公开(公告)号：US08908147B2

公开(公告)日：2014-12-09

申请号：US13181932

申请日：2011-07-13

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar ,  Andreas Fuchs ,  Martyn John Coogans ,  Kaustuve Bhattacharyya ,  Stephen Peter Morgan ,  Michael Kubis

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar ,  Andreas Fuchs ,  Martyn John Coogans ,  Kaustuve Bhattacharyya ,  Stephen Peter Morgan ,  Michael Kubis

IPC分类号： G03F7/20 ,  A01H1/06 ,  G03B27/52 ,  G03B27/53 ,  A01G1/00 ,  C12N15/82

CPC分类号： A01H1/06 ,  A01G22/00 ,  C12N15/8201 ,  G03B27/52 ,  G03B27/53 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70633

摘要： A method of determining an overlay error. Measuring an overlay target having process-induced asymmetry. Constructing a model of the target. Modifying the model, e.g., by moving one of the structures to compensate for the asymmetry. Calculating an asymmetry-induced overlay error using the modified model. Determining an overlay error in a production target by subtracting the asymmetry-induced overlay error from a measured overlay error. In one example, the model is modified by varying asymmetry p(n′), p(n″) and the calculating an asymmetry-induced overlay error is repeated for a plurality of scatterometer measurement recipes and the step of determining an overlay error in a production target uses the calculated asymmetry-induced overlay errors to select an optimum scatterometer measurement recipe used to measure the production target.

摘要翻译： 确定重叠错误的方法。 测量具有过程引起的不对称性的覆盖目标。 构建目标模型。 修改模型，例如通过移动结构之一来补偿不对称性。 使用修改的模型计算不对称引起的覆盖误差。 通过从测量的重叠错误中减去不对称引起的覆盖误差来确定生产目标中的重叠错误。 在一个示例中，通过改变不对称p（n'），p（n“）来修改模型，并且针对多个散射仪测量配方重复计算不对称引起的重叠误差，并且确定在 生产目标使用计算的不对称引起的重叠误差来选择用于测量生产目标的最佳散射仪测量配方。

公开(公告)号：US08553230B2

公开(公告)日：2013-10-08

申请号：US13249566

申请日：2011-09-30

申请人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

发明人： Arie Jeffrey Maria Den Boef ,  Arno Jan Bleeker ,  Youri Johannes Laurentius Maria Van Dommelen ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Paul Frank Luehrmann ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Maurits Van Der Schaar ,  Cedric Desire Grouwstra ,  Markus Gerardus Martinus Van Kraaij

IPC分类号： G01B9/02

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034

摘要： An apparatus and method to determine a property of a substrate by measuring, in the pupil plane of a high numerical aperture lens, an angle-resolved spectrum as a result of radiation being reflected off the substrate. The property may be angle and wavelength dependent and may include the intensity of TM- and TE-polarized radiation and their relative phase difference.

摘要翻译： 通过在高数值孔径透镜的光瞳平面中测量作为辐射的结果的角度分辨光谱从衬底反射来确定衬底的性质的装置和方法。 该属性可以是角度和波长相关的，并且可以包括TM和TE偏振辐射的强度及其相对相位差。

公开(公告)号：US20130059240A1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：US13401882

申请日：2012-02-22

申请人： Maurits Van Der Schaar ,  Patrick Warnaar ,  Kaustuve Bhattacharyya ,  Hendrik Jan Hidde Smilde ,  Michael Kubis

发明人： Maurits Van Der Schaar ,  Patrick Warnaar ,  Kaustuve Bhattacharyya ,  Hendrik Jan Hidde Smilde ,  Michael Kubis

IPC分类号： G01B11/14 ,  G03F7/20 ,  G03B27/00

CPC分类号： G03F9/7042 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70683 ,  H01L23/544 ,  H01L23/58 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A pattern from a patterning device is applied to a substrate by a lithographic apparatus. The applied pattern includes product features and metrology targets. The metrology targets include large targets and small targets which are for measuring overlay. Some of the smaller targets are distributed at locations between the larger targets, while other small targets are placed at the same locations as a large target. By comparing values measured using a small target and large target at the same location, parameter values measured using all the small targets can be corrected for better accuracy. The large targets can be located primarily within scribe lanes while the small targets are distributed within product areas.

摘要翻译： 来自图案形成装置的图案通过光刻装置施加到基板。 应用模式包括产品功能和计量目标。 测量目标包括大目标和小目标，用于测量覆盖。 一些较小的目标分布在较大目标之间的位置，而其他小目标则放置在与大目标相同的位置。 通过比较在相同位置使用小目标和大目标测量的值，可以校正使用所有小目标测量的参数值以获得更高的精度。 大型目标主要位于划线范围内，而小目标则分布在产品区域内。

公开(公告)号：US20110292365A1

公开(公告)日：2011-12-01

申请号：US13132011

申请日：2009-12-01

申请人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： G03B27/54 ,  G01N21/00

CPC分类号： G03F7/70633 ,  G01N21/4785 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70625

摘要： Disclosed are methods, apparatuses, and lithographic systems for calibrating an inspection apparatus. Radiation is projected onto a pattern in a target position of a substrate. By making a plurality of measurements of the pattern and comparing the measured first or higher diffraction orders of radiation reflected from the pattern of different measurements, a residual error indicative of the error in a scatterometer may be calculated. This error is an error in measurements of substrate parameters caused by irregularities of the scatterometer. The residual error may manifest itself as an asymmetry in the diffraction spectra.

摘要翻译： 公开了用于校准检查装置的方法，装置和光刻系统。 辐射被投影到基板的目标位置的图案上。 通过对图案进行多次测量并比较从不同测量图案反射的辐射的测量的第一或更高的衍射级数，可以计算指示散射仪中的误差的残差。 该误差是由散射仪的不规则引起的衬底参数的测量误差。 残余误差可能表现为衍射光谱中的不对称性。

公开(公告)号：US20110255066A1

公开(公告)日：2011-10-20

申请号：US12996211

申请日：2009-06-04

申请人： Andreas Fuchs ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Andreas Fuchs ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： G03B27/74 ,  G03B27/32 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03F7/70633

摘要： An apparatus measures properties, such as overlay error, of a substrate divided into a plurality of fields. The apparatus includes a radiation source configured to direct radiation onto a first target of each field of the substrate. Each first target (T4G) has at least a first grating and a second grating having respective predetermined offsets, the predetermined offset (+d) of the first grating being in a direction opposite the predetermined offset (−d) of the second grating. A detector is configured to detect the radiation reflected from each first target and to obtain an asymmetry value for each first target from the detected radiation. Further, a module is configured to determine an overlay value for each first target based on at least the obtained asymmetry value and the predetermined offsets and determine a polynomial fit across a plurality of first targets of a corresponding plurality of fields of the substrate for a relationship between the obtained asymmetry value and determined overlay value of each first target.

摘要翻译： 一种装置测量分成多个场的衬底的性质，例如覆盖误差。 该装置包括被配置为将辐射引导到衬底的每个场的第一靶上的辐射源。 每个第一目标（T4G）具有至少第一光栅和具有相应预定偏移的第二光栅，第一光栅的预定偏移（+ d）在与第二光栅的预定偏移（-d）相反的方向上。 检测器被配置为检测从每个第一目标反射的辐射，并且从检测到的辐射获得每个第一目标的不对称值。 此外，模块被配置为基于至少所获得的不对称值和预定偏移来确定每个第一目标的覆盖值，并且确定跨越衬底的相应多个场的多个第一目标的多项式拟合，以获得关系 在获得的不对称值和确定的每个第一目标的覆盖值之间。