公开(公告)号：US06330260B1

公开(公告)日：2001-12-11

申请号：US09438249

申请日：1999-11-12

申请人： Eckehard D. Onkels ,  Richard L. Sandstrom ,  Thomas P. Duffey

发明人： Eckehard D. Onkels ,  Richard L. Sandstrom ,  Thomas P. Duffey

IPC分类号： H01S300

CPC分类号： H01S3/10092 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/036 ,  H01S3/225

摘要： A reliable, modular, production quality F2 excimer laser capable of producing, at repetition rates in the range of 1,000 to 2,000 Hz or greater, laser pulses with pulse energies greater than 10 mJ with a full width half, maximum bandwidth of about 1 pm or less at wavelength in the range of 157 nm. Laser gas concentrations are disclosed for reducing unwasted infrared emissions from the laser. Also disclosed are UV energy detectors which are substantially insensitive to infrared light. Preferred embodiments of the present invention can be operated in the range of 1000 to 4000 Hz with pulse energies in the range of 10 to 5 mJ with power outputs in the range of 10 to 40 watts. Using this laser as an illumination source, stepper or scanner equipment can produce integrated circuit resolution of 0.1 &mgr;m or less. Replaceable modules include a laser chamber and a modular pulse power system.

摘要翻译： 一种可靠，模块化，生产质量高的F2准分子激光器，其能够以1,000至2000Hz或更大的重复频率产生具有大于10mJ的脉冲能量的激光脉冲，全宽度为一半，最大带宽为约1pm， 在157nm范围内的波长较小。 公开了激光气体浓度，用于减少激光器的红外辐射。 还公开了对红外光基本上不敏感的紫外线能量检测器。 本发明的优选实施例可以在1000至4000Hz的范围内操作，脉冲能量在10至5mJ的范围内，功率输出在10至40瓦的范围内。 使用该激光器作为照明源，步进器或扫描仪设备可以产生0.1mum以下的集成电路分辨率。 可更换的模块包括激光室和模块脉冲电源系统。

公开(公告)号：US07058107B2

公开(公告)日：2006-06-06

申请号：US10804281

申请日：2004-03-18

申请人： David S. Knowles ,  Daniel J. W. Brown ,  Richard L. Sandstrom ,  German E. Rylov ,  Eckehard D. Onkels ,  Herve A. Besaucele ,  David W. Myers ,  Alexander I. Ershov ,  William N. Partlo ,  Igor V. Fomenkov ,  Richard C. Ujazdowski ,  Richard M. Ness ,  Scott T. Smith ,  William G. Hulburd

发明人： David S. Knowles ,  Daniel J. W. Brown ,  Richard L. Sandstrom ,  German E. Rylov ,  Eckehard D. Onkels ,  Herve A. Besaucele ,  David W. Myers ,  Alexander I. Ershov ,  William N. Partlo ,  Igor V. Fomenkov ,  Richard C. Ujazdowski ,  Richard M. Ness ,  Scott T. Smith ,  William G. Hulburd

IPC分类号： H01S3/22

CPC分类号： H01S3/2366 ,  G01J9/00 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

摘要： An injection seeded modular gas discharge laser system capable of producing high quality pulsed laser beams at pulse rates of about 4,000 Hz or greater and at pulse energies of about 5 mJ or greater. Two separate discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator producing a very narrow band seed beam which is amplified in the second discharge chamber. The chambers can be controlled separately permitting separate optimization of wavelength parameters in the master oscillator and optimization of pulse energy parameters in the amplifying chamber. A preferred embodiment in a F2 laser system configured as a MOPA and specifically designed for use as a light source for integrated circuit lithography. In the preferred MOPA embodiment, each chamber comprises a single tangential fan providing sufficient gas flow to permit operation at pulse rates of 4000 Hz or greater by clearing debris from the discharge region in less time than the approximately 0.25 milliseconds between pulses. The master oscillator is equipped with a line selection package for selecting the strongest F2 spectral line.

摘要翻译： 一种注射种子模块化气体放电激光系统，其能够以约4,000Hz或更大的脉冲速率和约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量的脉冲激光束。 提供两个单独的放电室，其中之一是主振荡器的一部分，其产生在第二放电室中放大的非常窄的带状晶体束。 可以单独控制室，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 配置为MOPA并被专门设计用作集成电路光刻的光源的F 2 N 2激光系统中的优选实施例。 在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇，其通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更短的时间内清除来自放电区域的碎屑来提供足够的气流以允许以4000Hz或更高的脉冲速率操作。 主振荡器配备有用于选择最强的F 2/2谱线的线选择包。

公开(公告)号：US06985508B2

公开(公告)日：2006-01-10

申请号：US10627215

申请日：2003-07-24

申请人： David S. Knowles ,  Daniel J. W. Brown ,  Herve A. Besaucele ,  David W. Meyers ,  Alexander I. Ershov ,  William N. Partlo ,  Richard L. Sandstrom ,  Palash P. Das ,  Stuart L. Anderson ,  Igor V. Fomenkov ,  Richard C. Ujazdowski ,  Eckehard D. Onkels ,  Richard M. Ness ,  Scott T. Smith ,  William G. Hulburd ,  Jeffrey Oicles

发明人： David S. Knowles ,  Daniel J. W. Brown ,  Herve A. Besaucele ,  David W. Meyers ,  Alexander I. Ershov ,  William N. Partlo ,  Richard L. Sandstrom ,  Palash P. Das ,  Stuart L. Anderson ,  Igor V. Fomenkov ,  Richard C. Ujazdowski ,  Eckehard D. Onkels ,  Richard M. Ness ,  Scott T. Smith ,  William G. Hulburd ,  Jeffrey Oicles

IPC分类号： H01S3/22

CPC分类号： G01J1/4257 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

摘要： An injection seeded modular gas discharge laser system capable of producing high quality pulsed laser beams at pulse rates of about 4,000 Hz or greater and at pulse energies of about 5 mJ or greater. Two separate discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator producing a very narrow band seed beam which is amplified in the second discharge chamber. The chambers can be controlled separately permitting separate optimization of wavelength parameters in the master oscillator and optimization of pulse energy parameters in the amplifying chamber. A preferred embodiment in an ArF excimer laser system configured as a MOPA and specifically designed for use as a light source for integrated circuit lithography. In the preferred MOPA embodiment, each chamber comprises a single tangential fan providing sufficient gas flow to permit operation at pulse rates of 4000 Hz or greater by clearing debris from the discharge region in less time than the approximately 0.25 milliseconds between pulses. The master oscillator is equipped with a line narrowing package having a very fast tuning mirror capable of controlling centerline wavelength on a pulse-to-pulse basis at repetition rates of 4000 Hz or greater to a precision of less than 0.2 pm.

摘要翻译： 一种注射种子模块化气体放电激光系统，其能够以约4,000Hz或更大的脉冲速率和约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量的脉冲激光束。 提供两个单独的放电室，其中之一是主振荡器的一部分，其产生在第二放电室中放大的非常窄的带状晶体束。 可以单独控制室，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 配置为MOPA并被专门用于集成电路光刻的光源的ArF准分子激光系统中的优选实施例。 在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇，其通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更短的时间内清除来自放电区域的碎屑来提供足够的气流以允许以4000Hz或更高的脉冲速率操作。 主振荡器配备有具有非常快的调谐镜的线窄化封装，能够以4000Hz或更高的重复频率在脉冲到脉冲的基础上控制中心线波长，精度小于0.2μm。

公开(公告)号：US06765945B2

公开(公告)日：2004-07-20

申请号：US09829475

申请日：2001-04-09

申请人： Richard L. Sandstrom ,  William N. Partlo ,  Eckehard D. Onkels

发明人： Richard L. Sandstrom ,  William N. Partlo ,  Eckehard D. Onkels

IPC分类号： H01S322

CPC分类号： H01S3/10092 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/0078 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08063 ,  H01S3/08068 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2325 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

摘要： A narrow band F2 laser system useful for integrated circuit lithography. An output beam from a first F2 laser gain medium is filtered with a pre-gain filter to produce a seed beam having a bandwidth of about 0.1 pm or less. The seed beam is amplified in a power gain stage which includes a second F2 laser gain medium. The output beam of the system is a pulsed laser beam with a full width half maximum band width of about 0.1 pm or less with pulse energy in excess of about 5 mJ. In a preferred embodiment the pre-gain filter includes a wavelength monitor which permits feedback control over the centerline wavelength so that the pre-gain filter optics can be adjusted to ensure that the desired bandwidth range is injected into the power gain stage.

摘要翻译： 用于集成电路光刻的窄带F2激光系统。 用预增益滤波器对来自第一F2激光增益介质的输出光束进行滤波，以产生具有约0.1μm或更小带宽的种束。 种子束在包括第二F2激光增益介质的功率增益级中被放大。 系统的输出光束是具有约0.1μm或更小的全宽半最大带宽的脉冲激光束，脉冲能量超过约5mJ。 在优选实施例中，预增益滤波器包括允许对中心线波长进行反馈控制的波长监视器，使得可以调整预增益滤波器光学器件，以确保将期望的带宽范围注入功率增益级。

公开(公告)号：US06801560B2

公开(公告)日：2004-10-05

申请号：US10056619

申请日：2002-01-23

申请人： David S. Knowles ,  Daniel J. W. Brown ,  Richard L. Sandstrom ,  German E. Rylov ,  Eckehard D. Onkels ,  Herve A. Besaucele ,  David W. Myers ,  Alexander I. Ershov ,  William N. Partlo ,  Igor V. Fomenkov ,  Richard C. Ujazdowski ,  Richard M. Ness ,  Scott T. Smith ,  William G. Hulburd

发明人： David S. Knowles ,  Daniel J. W. Brown ,  Richard L. Sandstrom ,  German E. Rylov ,  Eckehard D. Onkels ,  Herve A. Besaucele ,  David W. Myers ,  Alexander I. Ershov ,  William N. Partlo ,  Igor V. Fomenkov ,  Richard C. Ujazdowski ,  Richard M. Ness ,  Scott T. Smith ,  William G. Hulburd

IPC分类号： H01S322

CPC分类号： H01S3/2366 ,  G01J9/00 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

摘要： An injection seeded modular gas discharge laser system capable of producing high quality pulsed laser beams at pulse rates of about 4,000 Hz or greater and at pulse energies of about 5 mJ or greater. Two separate discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator producing a very narrow band seed beam which is amplified in the second discharge chamber. The chambers can be controlled separately permitting separate optimization of wavelength parameters in the master oscillator and optimization of pulse energy parameters in the amplifying chamber. A preferred embodiment in a F2 laser system configured as a MOPA and specifically designed for use as a light source for integrated circuit lithography. In the preferred MOPA embodiment, each chamber comprises a single tangential fan providing sufficient gas flow to permit operation at pulse rates of 4000 Hz or greater by clearing debris from the discharge region in less time than the approximately 0.25 milliseconds between pulses. The master oscillator is equipped with a line selection package for selecting the strongest F2 spectral line.

公开(公告)号：US06735236B2

公开(公告)日：2004-05-11

申请号：US09451407

申请日：1999-11-30

申请人： Raymond F. Cybulski ,  Alexander I. Ershov ,  Eckehard D. Onkels ,  Palash P. Das ,  Danilo K. Richardson ,  Jesse D. Buck

发明人： Raymond F. Cybulski ,  Alexander I. Ershov ,  Eckehard D. Onkels ,  Palash P. Das ,  Danilo K. Richardson ,  Jesse D. Buck

IPC分类号： H01S308

CPC分类号： G03F7/70025 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/034 ,  H01S3/036 ,  H01S3/0401 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/0812 ,  H01S3/086 ,  H01S3/13 ,  H01S3/134 ,  H01S3/1392 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2256

摘要： A grating based line narrowing device for line narrowing lasers producing high energy laser beams. Techniques are provided for minimizing adverse effects of hot gas layers present on the face of the grating. In preferred embodiments a stream of gas is directed across the face of the grating. In other embodiments the effect of the hot gas layer is reduced with the use of helium as a purge gas and in other embodiments the purge gas pressure is reduced to reduce the optical effects of the hot gas layer.

摘要翻译： 用于生产高能量激光束的线窄激光器的基于光栅的线窄化装置。 提供了用于最小化存在于光栅表面上的热气层的不利影响的技术。在优选实施例中，气流指向光栅的表面。 在其它实施例中，通过使用氦气作为净化气体来减少热气体层的影响，在其他实施例中，减少吹扫气体压力以减少热气体层的光学效应。

公开(公告)号：US06556600B2

公开(公告)日：2003-04-29

申请号：US09855310

申请日：2001-05-14

申请人： Richard L. Sandstrom ,  Richard M. Ness ,  William N. Partlo ,  Alexander I. Ershov ,  Eckehard D. Onkels ,  Choonghoon Oh

发明人： Richard L. Sandstrom ,  Richard M. Ness ,  William N. Partlo ,  Alexander I. Ershov ,  Eckehard D. Onkels ,  Choonghoon Oh

IPC分类号： H01S310

CPC分类号： H01S3/105 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/08063 ,  H01S3/08068 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/10092 ,  H01S3/104 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2325 ,  H01S3/2366

摘要： The present invention provides a narrow band laser system having two laser subsystems. The first laser subsystem is configured to provide a very narrow band pulsed output beam which is used to injection seed the second laser subsystem where the narrow band pulsed seed beam is amplified to produce a narrow band pulsed output beam. A pulse power supply is provided which is specially configured to precisely time the discharges in the two laser subsystem so that the discharges are properly synchronized. The laser gas comprises F2 at a partial pressure less than about 1% with a buffer gas comprised of helium or neon or a combination of helium and neon. Control of center wavelength of the output beam is provided by adjusting one or more of the following parameters in the first laser: the total laser gas pressure, the relative concentration of helium or neon, F2 partial pressure, laser gas temperature, discharge voltage and pulse energy.

摘要翻译： 本发明提供一种具有两个激光子系统的窄带激光系统。 第一激光子系统被配置为提供非常窄的带状脉冲输出光束，其用于向第二激光子系统注入种子，其中窄带脉冲种子光束被放大以产生窄带脉冲输出光束。 提供了一种脉冲电源，其特别配置为精确地对两个激光子系统中的放电进行时间放电，使得放电正确同步。 激光气体包含分压小于约1％的F2，由氦或氖组成的缓冲气体或氦和氖的组合。 通过调整第一激光器中的一个或多个以下参数来提供输出光束的中心波长的控制：总激光气体压力，氦或氖的相对浓度，F2分压，激光气体温度，放电电压和脉冲 能源。

公开(公告)号：US06539042B2

公开(公告)日：2003-03-25

申请号：US09771789

申请日：2001-01-29

申请人： Shahryar Rokni ,  Xiaojiang J. Pan ,  Eckehard D. Onkels

发明人： Shahryar Rokni ,  Xiaojiang J. Pan ,  Eckehard D. Onkels

IPC分类号： H01S322

CPC分类号： G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0401 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/225

摘要： The present invention provides an ultra pure purge system for discharge lasers. The LNP, the output coupler, the wavemeter and selected high voltage components are contained in sealed chambers each having a purge inlet port and a purge outlet port. Purge gas such as N2 is filtered and directed to each of the inlet ports. Gas exiting the outlet ports may be directed to flow monitors having alarms so that any loss of purge will be immediately detected. Purge gas may be exhausted or recirculated.

摘要翻译： 本发明提供一种用于放电激光器的超纯净化系统。 LNP，输出耦合器，波形计和选定的高电压部件都包含在密封室中，每个密封腔都具有清洗入口和净化出口。 吹扫气体如N 2被过滤并引导到每个入口端口。 离开出口的气体可以被引导到具有报警器的流量监视器，使得将立即检测到任何清除的损失。 吹扫气体可能被排出或再循环。

公开(公告)号：US06370174B1

公开(公告)日：2002-04-09

申请号：US09459165

申请日：1999-12-10

申请人： Eckehard D. Onkels ,  Palash P. Das ,  Thomas P. Duffey ,  Richard L. Sandstrom ,  Alexander I. Ershov ,  William N. Partlo

发明人： Eckehard D. Onkels ,  Palash P. Das ,  Thomas P. Duffey ,  Richard L. Sandstrom ,  Alexander I. Ershov ,  William N. Partlo

IPC分类号： H01S300

CPC分类号： G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/036 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2308 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

摘要： A tunable injection seeded very narrow band F2 lithography laser. The laser combines modular design features of prior art long life releasable lithography lasers with special F2 line narrowing and tuning techniques applied to a seed beam operated in a first gain medium which beam is used to stimulate narrow band lasing in a second gain medium to produce a very narrow band laser beam useful for integrated circuit lithography.

摘要翻译： 可调式注入种子非常窄的F2光刻激光。 激光器结合了现有技术的长寿命可剥离光刻激光器的模块化设计特征，其具有应用于在第一增益介质中操作的种子光束的特殊F2线窄化和调谐技术，该光束用于在第二增益介质中刺激窄带激光以产生 非常窄带激光束可用于集成电路光刻。

公开(公告)号：US07567607B2

公开(公告)日：2009-07-28

申请号：US11346519

申请日：2006-02-01

申请人： David S. Knowles ,  Daniel J. W. Brown ,  Herve A. Besaucele ,  David W. Myers ,  Alexander I. Ershov ,  William N. Partlo ,  Richard L. Sandstrom ,  Palash P. Das ,  Stuart L. Anderson ,  Igor V. Fomenkov ,  Richard C. Ujazdowski ,  Eckehard D. Onkels ,  Richard M. Ness ,  Scot T. Smith ,  William G. Hulburd ,  Jeffrey Oicles

发明人： David S. Knowles ,  Daniel J. W. Brown ,  Herve A. Besaucele ,  David W. Myers ,  Alexander I. Ershov ,  William N. Partlo ,  Richard L. Sandstrom ,  Palash P. Das ,  Stuart L. Anderson ,  Igor V. Fomenkov ,  Richard C. Ujazdowski ,  Eckehard D. Onkels ,  Richard M. Ness ,  Scot T. Smith ,  William G. Hulburd ,  Jeffrey Oicles

IPC分类号： H01S3/22 ,  H01S3/223

CPC分类号： G01J1/4257 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

摘要： An oscillator-amplifier gas discharge laser system and method is disclosed which may comprise a first laser unit which may comprise a first discharge region which may contain an excimer or molecular fluorine lasing gas medium; a first pair of electrodes defining the first discharge region containing the lasing gas medium, a line narrowing unit for narrowing a spectral bandwidth of output laser light pulse beam pulses produced in said first discharge region; a second laser unit which may comprise a second discharge chamber which may contain an excimer or molecular fluorine lasing gas medium; a second pair of electrodes defining the second discharge region containing the lasing gas medium; a pulse power system providing electrical pulses to the first pair of electrodes and to the second pair of electrodes producing gas discharges in the lasing gas medium between the respective first and second pair of electrodes, and laser parameter control mechanism modifying a selected parameter of a selected laser output light pulse beam pulse produced by said gas discharge laser system by controlling the timing of the occurrence of the gas discharge between the first pair of electrodes and the occurrence of the gas discharge between the second pair of electrodes.

摘要翻译： 公开了一种振荡放大器气体放电激光器系统和方法，其可以包括第一激光器单元，该第一激光器单元可以包括可包含受激准分子或分子氟激光气体介质的第一放电区域; 限定含有激光气体介质的第一放电区域的第一对电极，用于使在所述第一放电区域中产生的输出激光脉冲光束脉冲的光谱带宽变窄的线窄化单元; 第二激光单元，其可以包括可包含受激准分子或分子氟激光气体介质的第二放电室; 限定包含所述激光气体介质的所述第二放电区域的第二对电极; 脉冲功率系统，其向所述第一对电极和所述第二对电极提供电脉冲，在所述相应的第一和第二对电极之间的所述激光气体介质中产生气体放电，以及激光参数控制机构修改所选择的所选择的参数 通过控制第一对电极之间的气体放电的发生时间和第二对电极之间的气体放电的发生的时间，由所述气体放电激光系统产生的激光输出光脉冲束脉冲。