公开(公告)号：US20080157065A1

公开(公告)日：2008-07-03

申请号：US11784966

申请日：2007-04-10

申请人： Ahila Krishnamoorthy ,  Joseph Kennedy ,  Richard Spear ,  Deborah Yellowaga ,  Peter Smith ,  Ben Palmer ,  Ronald Katsanes ,  Michael Tucker

发明人： Ahila Krishnamoorthy ,  Joseph Kennedy ,  Richard Spear ,  Deborah Yellowaga ,  Peter Smith ,  Ben Palmer ,  Ronald Katsanes ,  Michael Tucker

IPC分类号： H01L51/50 ,  H01L33/00 ,  C08G77/04 ,  B32B27/00 ,  B32B9/00

CPC分类号： C09D183/04 ,  H01L21/02137 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/3124 ,  H01L21/316 ,  H01L51/052 ,  H01L51/0545 ,  Y10T428/31

摘要： Optoelectronic devices are described that include: a) a surface within the device, and b) at least one sufficiently light-transmissive crosslinked film, wherein the film is formed from at least one silicon-based material, at least one catalyst, and at least one solvent. Optoelectronic device are also disclosed, which include: a) a surface within the device, and b) at least one light-transmissive crosslinkable composition, wherein the composition comprises at least one silicon-based material, at least one crosslinking agent and at least one solvent. Methods of producing optoelectronic devices are also disclosed that include: a) providing a surface, b) providing at least one sufficiently light-transmissive crosslinkable composition, wherein the composition comprises at least one silicon-based material and at least one catalyst, c) applying the crosslinkable material to the surface, and d) curing the crosslinkable material to form a sufficiently light-transmissive crosslinked composition. Crosslinkable compositions are disclosed that comprise: polyphenylsilsesquioxane, polyphenylsiloxane or a combination thereof, tetramethylammonium nitrate, at least one solvent, and an aminopropyl triethoxysilane-based compound.

摘要翻译： 描述了光电器件，其包括：a）器件内的表面，以及b）至少一个足够透光的交联膜，其中所述膜由至少一种硅基材料，至少一种催化剂形成，并且至少 一种溶剂。 还公开了光电子器件，其包括：a）器件内的表面，以及b）至少一种透光性可交联组合物，其中所述组合物包含至少一种硅基材料，至少一种交联剂和至少一种 溶剂。 还公开了制造光电器件的方法，其包括：a）提供表面，b）提供至少一种足够透光的可交联组合物，其中所述组合物包含至少一种硅基材料和至少一种催化剂，c）施加 可交联材料到表面，以及d）固化可交联材料以形成足够透光的交联组合物。 公开了可交联组合物，其包含：聚苯基倍半硅氧烷，聚苯基硅氧烷或其组合，四甲基硝酸铵，至少一种溶剂和氨基丙基三乙氧基硅烷基化合物。

公开(公告)号：US20110171447A1

公开(公告)日：2011-07-14

申请号：US12027113

申请日：2008-02-06

申请人： Ahila Krishnamoorthy ,  Richard Spear ,  Amanuel Gebrebrhan

发明人： Ahila Krishnamoorthy ,  Richard Spear ,  Amanuel Gebrebrhan

IPC分类号： C09D7/12

CPC分类号： H01L51/5262 ,  C08G77/70 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02137 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122

摘要： Crosslinkable compositions are disclosed herein that comprise at least one silicon-based material comprising at least one alkyl group and at least one aryl or aromatic group, at least one catalyst, and at least one solvent.

摘要翻译： 本文公开的可交联组合物包含至少一种包含至少一个烷基和至少一个芳基或芳族基团的硅基材料，至少一种催化剂和至少一种溶剂。

公开(公告)号：US08901268B2

公开(公告)日：2014-12-02

申请号：US12027113

申请日：2008-02-06

申请人： Ahila Krishnamoorthy ,  Richard Spear ,  Amanuel Gebrebrhan

发明人： Ahila Krishnamoorthy ,  Richard Spear ,  Amanuel Gebrebrhan

IPC分类号： C08G77/06 ,  H01L35/24 ,  H01L21/02 ,  C09D183/04 ,  H01L21/312 ,  H01L51/52 ,  C08G77/00

CPC分类号： H01L51/5262 ,  C08G77/70 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02137 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122

摘要： Crosslinkable compositions are disclosed herein that comprise at least one silicon-based material comprising at least one alkyl group and at least one aryl or aromatic group, at least one catalyst, and at least one solvent.

摘要翻译： 本文公开的可交联组合物包含至少一种包含至少一个烷基和至少一个芳基或芳族基团的硅基材料，至少一种催化剂和至少一种溶剂。

公开(公告)号：US07012125B2

公开(公告)日：2006-03-14

申请号：US10012649

申请日：2001-11-05

申请人： Joseph Kennedy ,  Teresa Baldwin ,  Nigel P. Hacker ,  Richard Spear

发明人： Joseph Kennedy ,  Teresa Baldwin ,  Nigel P. Hacker ,  Richard Spear

IPC分类号： C08G77/18

CPC分类号： G03F7/091 ,  C03C17/008 ,  C03C17/30 ,  C08K5/0008 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  H01L21/0276 ,  Y10T428/31663 ,  C08L83/04 ,  C08L2666/28

摘要： Anti-reflective coating materials for deep ultraviolet photolithography include one or more organic dyes incorporated into spin-on-glass materials. Suitable dyes are strongly absorbing over wavelength ranges around wavelengths such as 248 nm and 193 nm that may be used in photolithography. A method of making dyed spin-on-glass materials includes combining one or more organic dyes with alkoxysilane reactants during synthesis of the spin-on-glass materials.

公开(公告)号：US06365765B1

公开(公告)日：2002-04-02

申请号：US09698883

申请日：2000-10-27

申请人： Teresa Baldwin ,  Nigel Hacker ,  Joseph Kennedy ,  Richard Spear

发明人： Teresa Baldwin ,  Nigel Hacker ,  Joseph Kennedy ,  Richard Spear

IPC分类号： C07F718

CPC分类号： G03F7/091 ,  C03C17/008 ,  C03C17/30 ,  C08K5/0008 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  H01L21/0276 ,  Y10T428/31663 ,  C08L83/04 ,  C08L2666/28

摘要： Anti-reflective coating materials for deep ultraviolet photolithography include one or more organic dyes incorporated into spin-on-glass materials. Suitable dyes are strongly absorbing over wavelength ranges around wavelengths such as 248 nm and 193 nm that may be used in photolithography. A method of making dyed spin-on-glass materials includes combining one or more organic dyes with alkoxysilane reactants during synthesis of the spin-on-glass materials.

摘要翻译： 用于深紫外光刻的抗反射涂层材料包括掺入旋涂玻璃材料中的一种或多种有机染料。 合适的染料在诸如248nm和193nm的波长周围的波长范围上是强吸收的，可以用于光刻。 制造染色旋涂玻璃材料的方法包括在旋涂玻璃材料合成期间将一种或多种有机染料与烷氧基硅烷反应物组合。

公开(公告)号：US07678462B2

公开(公告)日：2010-03-16

申请号：US11178544

申请日：2005-07-11

申请人： Joseph Kennedy ,  Teresa Baldwin ,  Nigel P. Hacker ,  Richard Spear

发明人： Joseph Kennedy ,  Teresa Baldwin ,  Nigel P. Hacker ,  Richard Spear

IPC分类号： B32B9/04

CPC分类号： G03F7/091 ,  C03C17/008 ,  C03C17/30 ,  C08K5/0008 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  G03F7/0752 ,  H01L21/0276 ,  Y10T428/31663 ,  C08L83/04 ,  C08L2666/28

摘要： Anti-reflective coating materials for deep ultraviolet photolithography include one or more organic light-absorbing compounds incorporated into spin-on-glass materials. Suitable absorbing compounds are strongly absorbing over wavelength ranges around wavelengths such as 365 nm, 248 nm, and 193 nm that may be used in photolithography. A method of making absorbing spin-on-glass materials includes combining one or more organic absorbing compounds with alkoxysilane or halosilane reactants during synthesis of the spin-on-glass materials.

摘要翻译： 用于深紫外光刻的抗反射涂层材料包括掺入旋涂玻璃材料中的一种或多种有机光吸收化合物。 合适的吸收化合物在可用于光刻的诸如365nm，248nm和193nm的波长附近的波长范围上是强吸收的。 制造吸收旋涂玻璃材料的方法包括在旋涂玻璃材料的合成期间将一种或多种有机吸收化合物与烷氧基硅烷或卤代硅烷反应物组合。

公开(公告)号：US20050245717A1

公开(公告)日：2005-11-03

申请号：US11178544

申请日：2005-07-11

申请人： Joseph Kennedy ,  Teresa Baldwin ,  Nigel Hacker ,  Richard Spear

发明人： Joseph Kennedy ,  Teresa Baldwin ,  Nigel Hacker ,  Richard Spear

IPC分类号： G03F7/004 ,  C03C17/00 ,  C03C17/30 ,  C07F7/18 ,  C08K5/00 ,  C09D7/12 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  G03C1/492 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/091 ,  C03C17/008 ,  C03C17/30 ,  C08K5/0008 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  G03F7/0752 ,  H01L21/0276 ,  Y10T428/31663 ,  C08L83/04 ,  C08L2666/28

摘要： Anti-reflective coating materials for deep ultraviolet photolithography include one or more organic light-absorbing compounds incorporated into spin-on-glass materials. Suitable absorbing compounds are strongly absorbing over wavelength ranges around wavelengths such as 365 nm, 248 nm, and 193 nm that may be used in photolithography. A method of making absorbing spin-on-glass materials includes combining one or more organic absorbing compounds with alkoxysilane or halosilane reactants during synthesis of the spin-on-glass materials.

公开(公告)号：US06956097B2

公开(公告)日：2005-10-18

申请号：US10076846

申请日：2002-02-14

申请人： Joseph Kennedy ,  Teresa Baldwin ,  Nigel P. Hacker ,  Richard Spear

发明人： Joseph Kennedy ,  Teresa Baldwin ,  Nigel P. Hacker ,  Richard Spear

IPC分类号： G03F7/004 ,  C03C17/00 ,  C03C17/30 ,  C07F7/18 ,  C08K5/00 ,  C09D7/12 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  G03C1/492 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  C08G77/12

CPC分类号： G03F7/091 ,  C03C17/008 ,  C03C17/30 ,  C08K5/0008 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  G03F7/0752 ,  H01L21/0276 ,  Y10T428/31663 ,  C08L83/04 ,  C08L2666/28

摘要： Anti-reflective coating materials for deep ultraviolet photolithography include one or more organic light-absorbing compounds incorporated into spin-on-glass materials. Suitable absorbing compounds are strongly absorbing over wavelength ranges around wavelengths such as 365 nm, 248 nm, and 193 nm that may be used in photolithography. A method of making absorbing spin-on-glass materials includes combining one or more organic absorbing compounds with alkoxysilane or halosilane reactants during synthesis of the spin-on-glass materials.

公开(公告)号：US06969753B2

公开(公告)日：2005-11-29

申请号：US10300357

申请日：2002-11-19

申请人： Teresa Baldwin ,  Joseph Kennedy ,  Nigel Hacker ,  Richard Spear

发明人： Teresa Baldwin ,  Joseph Kennedy ,  Nigel Hacker ,  Richard Spear

IPC分类号： G03F7/004 ,  C03C17/00 ,  C03C17/30 ,  C07F7/18 ,  C08K5/00 ,  C09D7/12 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  G03C1/492 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  C08G77/12

CPC分类号： G03F7/091 ,  C03C17/008 ,  C03C17/30 ,  C08K5/0008 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  G03F7/0752 ,  H01L21/0276 ,  Y10T428/31663 ,  C08L83/04 ,  C08L2666/28

摘要： Anti-reflective coating materials for deep ultraviolet photolithography include one or more organic light-absorbing compounds incorporated into spin-on-glass materials. Suitable absorbing compounds are strongly absorbing over wavelength ranges around wavelengths such as 365 nm, 248 nm, and 193 nm that may be used in photolithography. A method of making absorbing spin-on-glass materials includes combining one or more organic absorbing compounds with alkoxysilane or halosilane reactants during synthesis of the spin-on-glass materials.

摘要翻译： 用于深紫外光刻的抗反射涂层材料包括掺入旋涂玻璃材料中的一种或多种有机光吸收化合物。 合适的吸收化合物在可用于光刻的诸如365nm，248nm和193nm的波长附近的波长范围上是强吸收的。 制造吸收旋涂玻璃材料的方法包括在旋涂玻璃材料的合成期间将一种或多种有机吸收化合物与烷氧基硅烷或卤代硅烷反应物组合。

公开(公告)号：US06824879B2

公开(公告)日：2004-11-30

申请号：US10001143

申请日：2001-11-15

申请人： Teresa Baldwin ,  Joseph Kennedy ,  Nigel Hacker ,  Richard Spear

发明人： Teresa Baldwin ,  Joseph Kennedy ,  Nigel Hacker ,  Richard Spear

IPC分类号： C08G7718

CPC分类号： G02B5/23 ,  C03C17/008 ,  C03C17/30 ,  C08G77/04 ,  C08G77/12 ,  C08K5/0008 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276 ,  Y10T428/31663 ,  C08L83/04 ,  C08L2666/28

摘要： Anti-reflective coating materials for ultraviolet photolithography include at least one organic light-absorbing compound incorporated into spin-on-glass materials. Suitable absorbing compounds are strongly absorbing over wavelength ranges around wavelengths such as 365 nm, 248 nm, 193 nm and 157 nm that may be used in photolithography. A method of making absorbing spin-on-glass materials includes combining at least one organic absorbing compound with alkoxysilane or halosilane reactants during synthesis of the spin-on-glass materials.

摘要翻译： 用于紫外光刻的抗反射涂层材料包括掺入旋涂玻璃材料中的至少一种有机光吸收化合物。 合适的吸收化合物在可用于光刻的诸如365nm，248nm，193nm和157nm的波长周围的波长范围上是强吸收的。 制造吸收旋涂玻璃材料的方法包括在旋涂玻璃材料的合成期间将至少一种有机吸收化合物与烷氧基硅烷或卤代硅烷反应物组合。