公开(公告)号：US08891061B2

公开(公告)日：2014-11-18

申请号：US13062861

申请日：2009-10-02

申请人： Christian Marinus Leewis ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Johannes Anna Quaedackers ,  Christine Corinne Mattheus

发明人： Christian Marinus Leewis ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Johannes Anna Quaedackers ,  Christine Corinne Mattheus

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70641 ,  G03F1/38 ,  G03F7/706 ,  G03F7/70608 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70675 ,  G03F7/70683

摘要： In order to determine whether an exposure apparatus is outputting the correct dose of radiation and its projection system is focusing the radiation correctly, a test pattern is used on a mask for printing a specific marker onto a substrate. This marker is then measured by an inspection apparatus, such as a scatterometer, to determine whether there are errors in focus and dose and other related properties. The test pattern is configured such that changes in focus and dose may be easily determined by measuring the properties of a pattern that is exposed using the mask. The test pattern may be a 2D pattern where physical or geometric properties, e.g., pitch, are different in each of the two dimensions. The test pattern may also be a one-dimensional pattern made up of an array of structures in one dimension, the structures being made up of at least one substructure, the substructures reacting differently to focus and dose and giving rise to an exposed pattern from which focus and dose may be determined.

摘要翻译： 为了确定曝光装置是否正在输出正确剂量的辐射，并且其投影系统正确地对准辐射，在掩模上使用测试图案将特定标记物印刷到基底上。 然后通过诸如散射仪的检查装置测量该标记，以确定焦点和剂量以及其它相关性质是否存在错误。 测试图案被配置为使得可以通过测量使用掩模曝光的图案的特性容易地确定聚焦和剂量的变化。 测试图案可以是二维图案，其中物理或几何性质（例如间距）在两个维度的每一个中是不同的。 测试图案也可以是由一维结构阵列组成的一维图案，该结构由至少一个子结构构成，该子结构与焦点和剂量不同地反应并产生暴露图案， 可以确定焦点和剂量。

公开(公告)号：US08830472B2

公开(公告)日：2014-09-09

申请号：US12920984

申请日：2009-03-30

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Martin Ebert

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Martin Ebert

IPC分类号： G01N21/55 ,  G01N21/956 ,  G01N21/95 ,  G03F7/20 ,  G01N21/47 ,  G01N21/88

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/47 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/8845 ,  G03F7/70625

摘要： A method of assessing a model of a substrate is presented. A scatterometry measurement is taken using radiation at a first wavelength. The wavelength of the radiation is then changed and a further scatterometry measurement taken. If the scatterometry measurements are consistent across a range of wavelengths then the model is sufficiently accurate. However, if the scatterometry measurements change as the wavelength changes then the model of the substrate is not sufficiently accurate.

摘要翻译： 提出了一种评估底物模型的方法。 使用第一波长的辐射进行散射测量。 然后改变辐射的波长，并进行进一步的散射测量。 如果散射测量在波长范围内是一致的，则模型是足够准确的。 然而，如果散射测量值随着波长的变化而变化，则衬底的模型不够准确。

公开(公告)号：US20110026032A1

公开(公告)日：2011-02-03

申请号：US12920984

申请日：2009-03-30

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Martin Ebert

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Hugo Augustinus Joseph Cramer ,  Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Martin Ebert

IPC分类号： G01N21/47

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/47 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/8845 ,  G03F7/70625

摘要： A method of assessing a model of a substrate is presented. A scatterometry measurement is taken using radiation at a first wavelength. The wavelength of the radiation is then changed and a further scatterometry measurement taken. If the scatterometry measurements are consistent across a range of wavelengths then the model is sufficiently accurate. However, if the scatterometry measurements change as the wavelength changes then the model of the substrate is not sufficiently accurate.

摘要翻译： 提出了一种评估底物模型的方法。 使用第一波长的辐射进行散射测量。 然后改变辐射的波长，并进行进一步的散射测量。 如果散射测量在波长范围内是一致的，则模型是足够准确的。 然而，如果散射测量值随着波长的变化而变化，则衬底的模型不够准确。

公开(公告)号：US08848195B2

公开(公告)日：2014-09-30

申请号：US13123613

申请日：2009-10-22

申请人： Christian Marinus Leewis ,  Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Karel Diederick Van Der Mast ,  Peter Clement Paul Vanoppen ,  Ruben Alvarez Sanchez

发明人： Christian Marinus Leewis ,  Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Karel Diederick Van Der Mast ,  Peter Clement Paul Vanoppen ,  Ruben Alvarez Sanchez

IPC分类号： G01N21/47 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70625

摘要： In a method for determining one or more properties of a substrate, scatterometry spectra can be measured from one or more targets on the substrate. Reconstructions of each of said spectra can be performed to derive one or more values for the property of the substrate, by comparing representations of each of the measured spectra with one or more modeled representations of spectra calculated using variable parameter values. At least one parameter in the reconstruction for each spectrum can be linked to the value of the parameter used in the reconstruction for a different spectrum.

摘要翻译： 在确定衬底的一个或多个特性的方法中，可以从衬底上的一个或多个靶测量散射光谱。 可以通过将每个测量光谱的表示与使用可变参数值计算的光谱的一个或多个建模表示进行比较，来执行每个所述光谱的重建以导出衬底性质的一个或多个值。 每个频谱的重建中至少有一个参数可以链接到在不同频谱的重构中使用的参数的值。

公开(公告)号：US20120033223A1

公开(公告)日：2012-02-09

申请号：US13123613

申请日：2009-10-22

申请人： Christian Marinus Leewis ,  Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Karel Diederick Van Der Mast ,  Peter Clement Paul Vanoppen ,  Ruben Alvarez Sanchez

发明人： Christian Marinus Leewis ,  Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Karel Diederick Van Der Mast ,  Peter Clement Paul Vanoppen ,  Ruben Alvarez Sanchez

IPC分类号： G01N21/47 ,  B05C11/00 ,  C23C16/52

CPC分类号： G03F7/70625

摘要： In a method for determining one or more properties of a substrate, scatterometry spectra can be measured from one or more targets on the substrate. Reconstructions of each of said spectra can be performed to derive one or more values for the property of the substrate, by comparing representations of each of the measured spectra with one or more modeled representations of spectra calculated using variable parameter values. At least one parameter in the reconstruction for each spectrum can be linked to the value of the parameter used in the reconstruction for a different spectrum.

摘要翻译： 在确定衬底的一个或多个特性的方法中，可以从衬底上的一个或多个靶测量散射光谱。 可以通过将每个测量光谱的表示与使用可变参数值计算的光谱的一个或多个建模表示进行比较，来执行每个所述光谱的重建以导出衬底性质的一个或多个值。 每个频谱的重建中至少有一个参数可以链接到在不同频谱的重构中使用的参数的值。

公开(公告)号：US09482967B2

公开(公告)日：2016-11-01

申请号：US13238861

申请日：2011-09-21

申请人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Tammo Uitterdijk ,  Nicolas Alban Lallemant

发明人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Johannes Henricus Wilhelmus Jacobs ,  Tammo Uitterdijk ,  Nicolas Alban Lallemant

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70858 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/706

摘要： An immersion lithographic apparatus is disclosed that has a measurement system or a prediction system for measuring and/or predicting, respectively, an effect associated with a temperature fluctuation of the immersion liquid, and a control system for controlling the or another effect associated with the temperature of the immersion liquid, on the basis of the measurement and/or prediction obtained by the measurement system and/or prediction system, respectively. An associated control system and device manufacturing method is also disclosed.

摘要翻译： 公开了一种浸没式光刻设备，其具有用于分别测量和/或预测与浸没液体的温度波动相关的影响的测量系统或预测系统，以及用于控制与温度相关的或另一效应的控制系统 基于由测量系统和/或预测系统获得的测量和/或预测的浸没液体。 还公开了一种相关的控制系统和设备制造方法。

公开(公告)号：US09229338B2

公开(公告)日：2016-01-05

申请号：US13059405

申请日：2009-07-27

申请人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Maurits Van Der Schaar ,  Hendrik Jan Hidde Smilde

发明人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Maurits Van Der Schaar ,  Hendrik Jan Hidde Smilde

IPC分类号： G01B11/00 ,  G03B27/32 ,  G03B27/54 ,  G03B27/74 ,  H01L23/28 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L23/544

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01N21/4738 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/10 ,  G02B5/1823 ,  G02B5/1861 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70683 ,  G03F9/70 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7076 ,  H01L23/544 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/24612 ,  H01L2924/00

摘要： Scatterometry for measuring overlay. A second set of superimposed gratings are superposed over a first set of superimposed gratings. The second set of gratings have a different periodicity from the first set of gratings or a different orientation. Consequently the first order diffraction pattern from the second set of superimposed gratings can be distinguished from the first order diffraction pattern from the first set of superimposed gratings.

摘要翻译： 用于测量覆盖层的散射法。 第二组叠加的光栅叠加在第一组叠加的光栅上。 第二组光栅具有与第一组光栅不同的周期性或不同的取向。 因此，来自第二组叠加光栅的一阶衍射图可以与来自第一组叠加光栅的一阶衍射图案区分开。

公开(公告)号：US08988653B2

公开(公告)日：2015-03-24

申请号：US12727054

申请日：2010-03-18

申请人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Robertus Cornelis Martinus De Kruif

发明人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Robertus Cornelis Martinus De Kruif

IPC分类号： G03B27/68 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03B27/68 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/7085

摘要： The invention relates to a lithographic apparatus arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate, wherein apparatus is operable to measure higher-order distortions and/or image plane deviations of the patterning device, apparatus comprising: a device for transmission image detection; and a processor configured and arranged to model higher-order distortions of the patterning device using signals received from the device for transmission image detection; wherein patterning device has a main imaging field, and a perimeter and apparatus is operable to model higher-order distortions using signals resultant from alignment structures comprised in perimeter and/or in the imaging field.

摘要翻译： 本发明涉及一种布置成将图案从图案形成装置转移到基板上的光刻设备，其中装置可操作以测量图案形成装置的高阶失真和/或图像平面偏差，该装置包括：用于透射图像检测的装置 ; 以及处理器，其被配置和布置成使用从所述设备接收的信号来模拟所述图案形成装置的高阶失真用于透射图像检测; 其中图案形成装置具有主成像区域，并且周边和装置可操作以使用由周边和/或成像区域中的对准结构产生的信号来建模高阶失真。

公开(公告)号：US08786825B2

公开(公告)日：2014-07-22

申请号：US12936327

申请日：2009-04-20

申请人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Maurits Van Der Schaar ,  Andreas Fuchs ,  Martyn John Coogans

发明人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Maurits Van Der Schaar ,  Andreas Fuchs ,  Martyn John Coogans

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/7065 ,  G01N21/47 ,  G01N21/4788 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7088

摘要： The present invention makes the use of measurement of a diffraction spectrum in or near an image plane in order to determine a property of an exposed substrate. In particular, the positive and negative first diffraction orders are separated or diverged, detected and their intensity measured to determine overlay (or other properties) of exposed layers on the substrate.

摘要翻译： 本发明使用在图像平面内或附近测量衍射光谱，以便确定曝光的基底的性质。 特别地，正和负的第一衍射级被分离或发散，被检测并且测量它们的强度以确定衬底上的暴露层的覆盖层（或其它性质）。

公开(公告)号：US08724087B2

公开(公告)日：2014-05-13

申请号：US12933481

申请日：2009-04-08

申请人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Maurits Van Der Schaar ,  Leonardus Henricus Marie Verstappen ,  Scott Anderson Middlebrooks ,  Andreas Fuchs

发明人： Marcus Adrianus Van De Kerkhof ,  Antoine Gaston Marie Kiers ,  Maurits Van Der Schaar ,  Leonardus Henricus Marie Verstappen ,  Scott Anderson Middlebrooks ,  Andreas Fuchs

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70616 ,  G01N21/47 ,  G01N21/9501

摘要： A scatterometer configured to measure a property of a substrate, includes a radiation source configured to provide a radiation beam; and a detector configured to detect a spectrum of the radiation beam reflected from a target (30) on the surface of the substrate (W) and to produce a measurement signal representative of the spectrum. The apparatus includes a beam shaper (51, 53) interposed in the radiation path between the radiation source and the detector, the beam shaper being configured to adjust the cross section of the beam dependent on the shape and/or size of the target.

摘要翻译： 配置成测量衬底性质的散射仪包括被配置为提供辐射束的辐射源; 以及检测器，其被配置为检测从所述基板（W）的表面上的目标（30）反射的所述辐射束的光谱，并产生表示所述光谱的测量信号。 该装置包括插入在辐射源和检测器之间的辐射路径中的光束整形器（51,53），光束整形器被配置为根据目标的形状和/或尺寸来调节光束的横截面。